一种PCIe交换电路的出端口事务处理装置及方法

    公开(公告)号:CN116150077A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202310180550.5

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本发明提供一种PCIe交换电路的出端口事务处理装置及方法,包括主控制模块,所述主控制模块交互连接有界限生成和载荷FIFO控制模块、信息生成和头FIFO控制模块和端口仲裁逻辑模块,界限生成和载荷FIFO控制模块交互连接有解析转换模块和两个载荷FIFO,信息生成和头FIFO控制模块交互连接有载荷接收和转换模块和三个包头FIFO,解析转换模块交互连接有载荷接收和转换模块和端口仲裁逻辑模块,所述端口仲裁逻辑模块交互连接有仲裁表及其加载模块,三个包头FIFO和两个载荷FIFO输出端均连接有读取发送模块;本申请以三个包头FIFO和两个载荷FIFO分类存储了接收的事务包,事务的写入和读取控制简单可靠;避免了部分延迟敏感的输入端口的事务无法及时通过该出端口输出。

    一种全局异步站内同步的PCIe交换电路装置和方法

    公开(公告)号:CN114866497B

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202210674910.2

    申请日:2022-06-15

    Abstract: 本发明提供一种全局异步站内同步的PCIe交换电路装置和方法,该系统包括若干个站模块,所有的站模块共同连接有访问仲裁模块;所述访问仲裁模块通过EERROM控制器和外部的EERROM交互,所述访问仲裁模块通过IIC总线控制器与外部的IIC主机交互;所述站模块通过PCIe链路连接有上游端口;该方法将电路划分为多个站模块,电路总体结构简单、各个模块的功能划分合理,有利于分模块高效的并行开展逻辑设计;同一个站中的所有端口工作于同一时钟域,不同的站可工作于不同的时钟域,电路的时钟域分隔清晰简洁,可以方便的进行跨时钟域的设计和检查,大大降低常见的跨时钟域设计风险,确保电路的可靠性。

    一种PCIe交换电路的测试装置及方法

    公开(公告)号:CN115113021A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210699552.0

    申请日:2022-06-20

    Abstract: 本发明公开了一种PCIe交换电路的测试装置及方法,该装置设置在被测试的PCIe电路中,该装置设置了由端口组成的测试口,用于控制测试组的测试管理模块,以及保存测试结果的测试结果寄存器。该方法通过在待测PCIe交换电路内部增加测试装置使待测电路进入测试模式,将待测电路的所有端口划分为多个测试组,测试组中的两个端口在测试板上互连通讯,从而实现了待测PCIe交换电路所有端口的链路训练、事务接收、事务缓存、事务发送、缓存读写、事务交换等功能的测试,具有较高的测试覆盖率。

    一种基于两级描述符表征的以太网控制系统

    公开(公告)号:CN113037604B

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN202110280813.0

    申请日:2021-03-16

    Abstract: 本发明公开了一种基于两级描述符表征的以太网控制系统,PCIe控制器与主机BD引擎和MAC BD引擎形成的系统架构,主机BD引擎对通过PCIe控制器传输的主机BD以及数据的维护和管理,利用MAC BD引擎对MAC BD以及数据的维护和管理,完成MAC BD和数据分别在本地数据缓存与MAC控制器之间的传输,采用主机BD引擎和MAC BD引擎双引擎结构,避免数据在与MAC层进行交互才能实现收发的问题,可完全隔离控制器内部的数据平面与控制平面,采用MAC BD缓存和本地数据缓存分别进行数据缓存,具有较高的可扩展性和鲁棒性,可以很好的支撑未来产品对功能的扩展、更新以及性能的提升等需求,本发明可用于高带宽、高性能以太网控制器芯片中,能够支撑未来产品对功能的扩展、性能提升等需求。

    一种埋层沟道背照式抗辐照像元加固结构和制备方法

    公开(公告)号:CN114937677A

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202210688398.7

    申请日:2022-06-17

    Abstract: 本发明公开了一种埋层沟道背照式抗辐照像元加固结构和制备方法,包括外延层;外延层上刻蚀形成STI槽,外延层上进行阱注入形成STI阱注入区与传输管阱注入区,STI槽设置在STI阱注入区中;外延层上通过离子注入分别依次形成P埋层注入区、N埋层沟道注入区和传输管阈值调整注入区;P埋层注入区与传输管阱注入区相连接;外延层的下表面淀积有栅氧化层和多晶硅栅极;外延层通过自对准注入工艺分别形成N型PD注入区、N型FD注入区和P型钳位层注入区;FD注入区的下表面淀积有FD欧姆接触金属形成欧姆接触;外延层的下表面外侧淀积有钝化层。使实际的光电子传输沟道与栅氧化层/半导体界面分离,提升像元的抗辐照能力。

    一种基于RISC-V指令集的三级流水线架构、处理器及数据处理方法

    公开(公告)号:CN113946368A

    公开(公告)日:2022-01-18

    申请号:CN202111275421.1

    申请日:2021-10-29

    Abstract: 本发明提供一种基于RISC‑V指令集的三级流水线架构,包括取指级模块、译码级模块、执行级模块和寄存器文件;将原来第二级流水,分成了第二级和第三级流水,使第二级流水逻辑降低,有利于主频的提升。本发明通过对当前指令的源、目的寄存器与流水线中目的寄存器进行相关性译码,控制到达后续执行级的指令流,如相关,停顿流水线,如无关,将译码级指令发送至执行级,保证乱序交付下,处理器功能执行的正确性。本发明的架构采用长周期指令并行执行、乱序交付的快速执行方式,允许load/store及除法等执行时间较长的长周期指令,在资源不冲突情况下,可以与ALU,以及其他长周期指令并行执行,加快处理器执行性能。

    一种基于仿真的数字电路故障注入方法

    公开(公告)号:CN108427838B

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN201810186686.6

    申请日:2018-03-07

    Inventor: 闫鑫 周泉 杨靓

    Abstract: 本发明公开了一种基于仿真的数字电路故障注入方法,包括创建目标信号列表,获取目标信号,故障注入。所采用的技术方案应该支持多信号列表的灵活操作,故障注入类型可设置,故障的持续时间可设置,除了能实现指定信号的故障注入,还要能实现故障的随机注入以及多点故障注入。本发明为基于仿真的故障注入技术,不需要修改VHDL模型,直接在Test Bench(TB)中采用简短高效的代码实现,能够简单快速的支持可靠性设计的验证。本发明简单易行,能够快速实现且使用灵活的故障注入方法,能够有效模拟出实际环境下导致处理器内部电平翻转等故障现象。

    一种存储阵列电路结构及大型存储阵列电路结构

    公开(公告)号:CN113689899A

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN202110997344.4

    申请日:2021-08-27

    Abstract: 本发明一种存储阵列电路结构及大型存储阵列电路结构,在存储阵列分为上存储列阵和下存储列阵,同时在其端部均分别连接灵敏放大器、读写驱动模块和列地址译码电路,上存储列阵的存储单元将由上面的灵敏放大器读出,下存储列阵将由下面的灵敏放大器读出,这样不仅会减小分块设计的级数,避免引入多余的外围电路,进而减小存储器的版图面积,增加版图密度,实现静态存储器存取速度的提升以及功耗的降低。本发明相比较传统分块设计的结构,减小了位线放电幅度进而负载,降低了最坏路径延迟和存储器的功耗,达到提高整体存储器读取速度的目的;最后,本发明所提出的方法适用于各种存储器的电路架构设计,具有良好的应用前景和经济效益。

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