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公开(公告)号：CN107532945B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN106796900B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201580053714.1
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本发明提供计量目标设计方法及验证目标。方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
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公开(公告)号：CN109073981A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201680084437.5
申请日：2016-11-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： V·莱温斯基 , E·哈贾 , T·伊茨科维赫 , S·雅哈仑 , M·E·阿德尔 , Y·帕斯卡维尔 , D·内格里 , Y·卢巴舍夫斯基 , A·玛纳森 , 李明俊 , M·D·史密斯
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量目标及目标设计方法，其中通过以辅助元件替换来自具有间距p的周期性图案的元件来定义目标元件以形成将所述间距p维持为单个间距的复合周期性结构，所述辅助元件与所述经替换元件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术的兼容性界限内构造目标会改善所述目标的保真度，且填充因数调制会使得能够对所述目标进行调整以产生足以在实现所述目标的工艺兼容性的同时提取叠对的计量敏感度。
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公开(公告)号：CN104810352B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201510030734.9
申请日：2009-07-16
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L23/544 , H01L21/66
CPC classification number: H01L22/12 , H01L22/20 , H01L22/30 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明为通过使用前馈侧馈以及测量单元再使用的改进量度，属于半导体器件加工领域。随着半导体器件的部件尺寸越来越小，改进量度性能/生产率以及器件相关性的能力变得非常重要。本发明通过实施新颖的目标设计和使用前馈方案对薄膜/临界尺寸和叠对度量性能/生产率以及器件相关性的改进，使设置时间、度量时间最小化，并且使形成于半导体器件上的掩模版覆盖面积最小化。具体地，本发明提出用于在制造半导体器件中使用的测试结构，包括衬底和形成在衬底上或材料层中的两个或更多个测试单元；在第一测试单元上建模第一测量，所述第一测试单元形成在部分已制造的器件的层中；在所述层中的第二测试单元上执行第二测量；信息的馈送和进一步的建模。
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公开(公告)号：CN109073981B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201680084437.5
申请日：2016-11-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： V·莱温斯基 , E·哈贾 , T·伊茨科维赫 , S·雅哈仑 , M·E·阿德尔 , Y·帕斯卡维尔 , D·内格里 , Y·卢巴舍夫斯基 , A·玛纳森 , 李明俊 , M·D·史密斯
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量目标及目标设计方法，其中通过以辅助元件替换来自具有间距p的周期性图案的元件来定义目标元件以形成将所述间距p维持为单个间距的复合周期性结构，所述辅助元件与所述经替换元件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术的兼容性界限内构造目标会改善所述目标的保真度，且填充因数调制会使得能够对所述目标进行调整以产生足以在实现所述目标的工艺兼容性的同时提取叠对的计量敏感度。
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公开(公告)号：CN108700463B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201680082361.2
申请日：2016-11-01
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供方法、计量模块及RCA工具，其使用测量图谱中的(若干)谐振区域的行为以相对于对称及不对称因子评估及特征化工艺变动，且相对于工艺步骤提供所述工艺变动的根本原因分析。可使用具有不同层厚度及工艺变动因子的模型化堆叠的模拟来增强所述分析且对计量测量提供经改良目标设计、经改良算法及可校正项。可利用展现敏感谐振区域的特定目标来增强所述工艺变动评估。
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公开(公告)号：CN112485971A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202011278298.4
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN107429995B
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201680019827.4
申请日：2016-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·莱维 , D·坎戴尔 , M·E·阿德尔 , L·波斯拉夫斯基 , J·鲁滨逊 , T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , T·格林茨威格 , D·克莱因 , T·伊茨科维赫 , N·卡梅尔 , N·阿米尔 , V·拉马纳坦 , J·坎普 , M·瓦格纳
Abstract: 本发明揭示一种计量性能分析系统，其包含：计量工具，其包含一或多个检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述一或多个检测器。所述控制器经配置以从所述计量工具接收与计量目标相关联的一或多个计量数据集，其中所述一或多个计量数据集包含一或多个测定计量度量且所述一或多个测定计量度量指示与标称值的偏差。所述控制器经进一步配置以确定与所述标称值的所述偏差和一或多个选定半导体工艺变化之间的关系，及基于所述一或多个计量度量的值和所述一或多个选定半导体工艺变化之间的所述关系确定与所述标称值的所述偏差的一或多个根本原因。
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公开(公告)号：CN110383442A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880014361.8
申请日：2018-02-27
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供用于设计计量目标及相对于例如线性质(例如，线边缘粗糙度LER)的随机噪声来估计计量度量值的不确定性误差的方法。可通过具有对应目标的CDSEM(临界尺寸扫描电子显微镜)或光学系统，从所述线性质的分析及计量测量的不确定性误差导出目标元件的最小所需尺寸。鉴于发现在使用例如CPE(每曝光的可校正项)的更局域化模型时，随机噪声可能具有增大的重要性而强调此分析的重要性。所述不确定性误差估计可用于多种上下文中的目标设计、叠加估计增强及测量可靠性评估。
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