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公开(公告)号：CN112331576A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011201964.4
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本申请实施例是关于验证计量目标及其设计。示例性的方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
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公开(公告)号：CN111542784B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN201880085027.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： F·约埃尔 , M·吉诺乌克 , A·斯维泽尔 , V·莱温斯基 , I·塔尔西斯-沙皮尔
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。
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公开(公告)号：CN113167745A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079626.7
申请日：2019-12-20
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： E·莱欣斯凯-阿特休勒 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , D·沙皮罗乌 , G·本多夫 , R·弗克维奇 , C·斯蒂利
IPC: G01N21/956 , G01N21/95 , G01B11/25 , G06T7/00
Abstract: 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。
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公开(公告)号：CN111542784A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880085027.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： F·约埃尔 , M·吉诺乌克 , A·斯维泽尔 , V·莱温斯基 , I·塔尔西斯-沙皮尔
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106796900A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580053714.1
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本发明提供计量目标设计方法及验证目标。方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
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公开(公告)号：CN113167745B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN201980079626.7
申请日：2019-12-20
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： E·莱欣斯凯-阿特休勒 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , D·沙皮罗乌 , G·本多夫 , R·弗克维奇 , C·斯蒂利
IPC: G01N21/956 , G01N21/95 , G01B11/25 , G06T7/00
Abstract: 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。
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公开(公告)号：CN112331576B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202011201964.4
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本申请实施例是关于验证计量目标及其设计。示例性的方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
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公开(公告)号：CN114930161A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008016.5
申请日：2021-01-26
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·戈洛塔斯万 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , R·迪拉韦
IPC: G01N21/956 , H01L21/027 , H01L21/68 , G03F7/20 , G03F9/00 , G01J4/00
Abstract: 一种计量目标包含沿着一或多个方向与第一计量模式兼容的第一组图案元素及沿着一或多个方向与第二计量模式兼容的第二组图案元素，其中所述第二组图案元素包含所述第一组图案元素的第一部分，且其中所述第二组图案元素是由所述第一组图案元素的不包含于所述第二组图案元素中的第二部分包围。
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公开(公告)号：CN106796900B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201580053714.1
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本发明提供计量目标设计方法及验证目标。方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
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