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公开(公告)号：CN111433677B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN201880077791.4
申请日：2018-12-10
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种叠加计量系统包含粒子束计量工具，所述粒子束计量工具用粒子束跨包含第一层目标元件及第二层目标元件的样本上的叠加目标扫描。所述叠加计量系统可进一步包含控制器，所述控制器从所述粒子束计量工具接收扫描信号、就对称性度量来确定所述扫描信号的对称性测量，且基于所述对称性测量来产生所述第一层与所述第二层之间的叠加测量，其中所述扫描信号的不对称性指示所述第二层目标元件相对于所述第一层目标元件的未对准，且所述叠加测量的值基于所述对称性测量。
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公开(公告)号：CN106575630A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580037985.8
申请日：2015-07-07
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
Abstract: 本发明提供度量方法，其包括：识别装置设计中的叠加关键图案，所述叠加关键图案对工艺变动具有高于取决于设计规格的指定阈值的叠加敏感度；及使用对应于经识别的叠加关键图案的度量目标。替代地或互补地，度量方法包括根据归因于指定工艺变动的对应工艺窗变窄而识别成品率关键图案，其中所述变窄是通过图案的边缘布置误差EPE对工艺参数的相依性而界定。本发明提供对应目标及测量。
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公开(公告)号：CN113039407B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980076145.0
申请日：2019-08-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01B9/02002 , G01N21/47 , G03F7/20 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供散射术重叠SCOL测量方法、系统及目标以实现具有裸片中目标的有效SCOL计量。方法包括通过以下项产生信号矩阵：以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径 1/3；测量零级及第一衍射级的干扰信号；及相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构所述信号矩阵；及通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。所述SCOL目标的尺寸可减小到相对于现有技术目标的十分之一，这是因为需要较少且较小目标单元，且容易设置于裸片中以改进计量测量的准确性及保真度。
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公开(公告)号：CN107532945B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN111433559A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201880078008.6
申请日：2018-09-24
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/20 , H01L23/544
Abstract: 本发明提供减少噪声且增强测量准确度的计量目标设计、设计方法及测量方法。所揭示的目标包括与测量方向正交的额外周期性结构，给定目标结构沿所述测量方向具周期性。例如，除成像或散射测量目标中的沿每一测量方向的两个或更多个周期性结构之外，还可引入第三正交周期性结构，此提供正交方向上的额外信息，并且可用于减少噪声、增强准确度且启用机器学习算法的应用以进一步增强准确度。可关于正交周期性结构逐切片分析信号，所述正交周期性结构可以过程兼容方式集成于成像及散射测量目标两者中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109923480A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201780069251.7
申请日：2017-08-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供具有增强性能的光刻系统及方法，其基于在打印工具中更广泛地利用集成型计量工具以依更复杂及经优化方式来处置所述系统中的计量测量。揭示额外操作通道，使得所述集成型计量工具能够关于所述打印工具的指定时间限制而监测及/或分配通过所述集成型计量工具并通过独立计量工具的计量测量；调整及优化计量测量配方；提供更佳过程控制以优化所述打印工具的过程参数；以及根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组。
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公开(公告)号：CN112485971B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202011278298.4
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN109923480B
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN201780069251.7
申请日：2017-08-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供具有增强性能的光刻系统及方法，其基于在打印工具中更广泛地利用集成型计量工具以依更复杂及经优化方式来处置所述系统中的计量测量。揭示额外操作通道，使得所述集成型计量工具能够关于所述打印工具的指定时间限制而监测及/或分配通过所述集成型计量工具并通过独立计量工具的计量测量；调整及优化计量测量配方；提供更佳过程控制以优化所述打印工具的过程参数；以及根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组。
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公开(公告)号：CN113039407A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980076145.0
申请日：2019-08-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01B9/02 , G01N21/47 , G03F7/20 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供散射术重叠SCOL测量方法、系统及目标以实现具有裸片中目标的有效SCOL计量。方法包括通过以下项产生信号矩阵：以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径 1/3；测量零级及第一衍射级的干扰信号；及相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构所述信号矩阵；及通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。所述SCOL目标的尺寸可减小到相对于现有技术目标的十分之一，这是因为需要较少且较小目标单元，且容易设置于裸片中以改进计量测量的准确性及保真度。
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公开(公告)号：CN111052328A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880052694.X
申请日：2018-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量模块及工具中可应用的方法，其实现相对于工艺变化调整计量测量参数而不重启计量配方设置。方法包括：在初始计量配方设置期间，记录计量过程窗且从其导出基线信息；及在操作期间，相对于所述基线信息量化所述工艺变化，且相对于所述经量化工艺变化调整所述计量过程窗内的所述计量测量参数。计量参数的快速调整避免计量相关过程延迟且释放与所述延迟相关的现有技术瓶颈。各种工艺变化因素对计量测量的效应的模型可用于增强所需计量调谐的导出且实现其以最小延迟应用于生产过程。
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