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公开(公告)号：CN116964438B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202180095179.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956 , G03F7/00 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95
Abstract: 一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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公开(公告)号：CN113039407A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980076145.0
申请日：2019-08-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01B9/02 , G01N21/47 , G03F7/20 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供散射术重叠SCOL测量方法、系统及目标以实现具有裸片中目标的有效SCOL计量。方法包括通过以下项产生信号矩阵：以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径 1/3；测量零级及第一衍射级的干扰信号；及相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构所述信号矩阵；及通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。所述SCOL目标的尺寸可减小到相对于现有技术目标的十分之一，这是因为需要较少且较小目标单元，且容易设置于裸片中以改进计量测量的准确性及保真度。
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公开(公告)号：CN112859542A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110100983.6
申请日：2016-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请实施例涉及成像计量工具中的光学系统及成像叠加计量工具中的光学系统。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。
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公开(公告)号：CN112859541A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110100981.7
申请日：2016-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请实施例涉及光学系统。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。
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公开(公告)号：CN109661559A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201780054088.7
申请日：2017-07-10
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01B11/272 , G01B11/303 , G01B2210/56 , G01N21/6489 , G01N21/9501 , G03F7/70633
Abstract: 本发明提供利用光学微腔探针以依遵循高体积度量要求的方式通过所述光学微腔探针之间的近场相互作用来映射晶片表面构形的系统及方法。所述光学微腔探针通过参考辐射与微腔及晶片特征中的辐射的近场相互作用之间的干扰信号的移位来检测晶片上的特征，例如装置特征及度量目标特征。各种照明及检测配置提供用于相对于其准确度及灵敏度来增强光学度量测量的快速且敏感的信号。所述光学微腔探针可相对于所述晶片而在受控高度及位置处被扫描，且提供有关装置特征与目标特征之间的空间关系的信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112859540B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202110100880.X
申请日：2016-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请实施例涉及成像计量目标及方法。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。
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公开(公告)号：CN118311056A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410419802.X
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95 , G03F7/00
Abstract: 本申请涉及增强重叠计量的性能。一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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公开(公告)号：CN111033382B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN201780093820.1
申请日：2017-10-22
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供系统及方法，其从至少一个计量成像目标中的每一ROI(所关注区域)的经分析测量计算叠加错位误差估计，且将所述经计算叠加错位误差估计并入在对应叠加错位估计中。所揭示实施例提供可以连续方式集成到计量测量过程中且此外依据叠加错位评估目标质量的分级及加权目标质量分析，所述分析形成用于评估来自例如生产步骤特性、测量参数及目标特性的不同源的误差的共同基础。接着，此类共同基础实现以下中的任一者：组合各种误差源以给出与测量保真度相关联的单个数目；在晶片级、批量级及过程级下分析各种误差；及/或通过减少测量次数而对于吞吐量以受控方式权衡所得准确度。
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公开(公告)号：CN110494966A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880023805.4
申请日：2018-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明涉及一种计量系统，其包含图像装置及控制器。所述图像装置包含光谱可调照明装置及检测器，所述检测器用于基于响应于来自所述光谱可调照明装置的照明而从所述样本发出的辐射产生具有两个或两个以上样本层上的计量目标元件的样本的图像。所述控制器确定所述成像装置的层特定成像配置以在所选择的图像质量容限内成像所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件，其中每一层特定成像配置包含来自所述光谱可调照明装置的照明光谱。所述控制器进一步接收使用所述层特定成像配置产生的所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的一或多个图像。所述控制器进一步基于所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的所述一或多个图像提供计量测量。
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