-
公开(公告)号：CN114945873B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202180009170.4
申请日：2021-01-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的一组样本的第一层上获取一组前馈叠加测量值；基于所述组前馈叠加测量值产生用于所述当前批次样本的所述组样本的一组人工叠加向量图；及致使光刻工具基于所述参考晶片叠加图及所述组人工叠加向量图制造所述当前批次样本的样本的第二层。
-
公开(公告)号：CN116601752A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202180081282.0
申请日：2021-12-01
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种晶片形状度量衡系统包含经配置以对第一晶片、第二晶片以及所述第一及第二晶片的后接合对执行一或多个无应力形状测量的晶片形状度量衡子系统。所述晶片形状度量衡系统包含通信地耦合到所述晶片形状度量衡子系统的控制器。所述控制器经配置以：从所述晶片形状子系统接收无应力形状测量；基于所述第一晶片、所述第二晶片以及所述第一晶片及所述第二晶片的所述后接合对的所述无应力形状测量预测所述第一晶片及所述第二晶片上的一或多个特征之间的覆盖；及基于所述经预测覆盖将反馈调整提供到一或多个处理工具。另外，可将前馈及反馈调整提供到一或多个处理工具。
-
公开(公告)号：CN114945873A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202180009170.4
申请日：2021-01-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的一组样本的第一层上获取一组前馈叠加测量值；基于所述组前馈叠加测量值产生用于所述当前批次样本的所述组样本的一组人工叠加向量图；及致使光刻工具基于所述参考晶片叠加图及所述组人工叠加向量图制造所述当前批次样本的样本的第二层。
-
公开(公告)号：CN107431030B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201680019869.8
申请日：2016-04-06
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明揭示衬底的平面内变形的确定，其包含：测量所述衬底在未夹紧状态中的一或多个平面外变形；基于所述衬底在所述未夹紧状态中的所述所测量平面外变形确定在所述未夹紧状态中的所述衬底上的膜的有效膜应力；基于在所述未夹紧状态中的所述衬底上的所述膜的所述有效膜应力确定所述衬底在夹紧状态中的平面内变形；及基于所述所测量平面外变形或所述所确定平面内变形中的至少一者调整处理工具或叠加工具中的至少一者。
-
公开(公告)号：CN108886004A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780015110.7
申请日：2017-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107850858A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680046414.5
申请日：2016-08-12
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源及一组投影光学器件。所述照明源将照明光束从离轴照明极点引导到图案掩模。所述图案掩模包含一组图案元件，所述组图案元件产生包含来自所述照明极点的照明的一组衍射光束。由所述组投影光学器件接收的所述组衍射光束中的至少两个衍射光束非对称地分布于所述组投影光学器件的光瞳面中。所述组衍射光束中的所述至少两个衍射光束非对称地入射于样本上以形成对应于所述组图案元件的图像的一组制造元件。样本上的所述组制造元件包含沿所述组投影光学器件的光学轴的样本的位置的一或多个指示符。
-
公开(公告)号：CN107532945A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01J9/00 , G03F7/705 , G03F7/70683 , H01L22/30
Abstract: 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
-
公开(公告)号：CN109073981B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201680084437.5
申请日：2016-11-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： V·莱温斯基 , E·哈贾 , T·伊茨科维赫 , S·雅哈仑 , M·E·阿德尔 , Y·帕斯卡维尔 , D·内格里 , Y·卢巴舍夫斯基 , A·玛纳森 , 李明俊 , M·D·史密斯
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量目标及目标设计方法，其中通过以辅助元件替换来自具有间距p的周期性图案的元件来定义目标元件以形成将所述间距p维持为单个间距的复合周期性结构，所述辅助元件与所述经替换元件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术的兼容性界限内构造目标会改善所述目标的保真度，且填充因数调制会使得能够对所述目标进行调整以产生足以在实现所述目标的工艺兼容性的同时提取叠对的计量敏感度。
-
-
公开(公告)号：CN112485971A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202011278298.4
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
40
records
(took 0.032 seconds)
