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公开(公告)号：CN108700463B
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201680082361.2
申请日：2016-11-01
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供方法、计量模块及RCA工具，其使用测量图谱中的(若干)谐振区域的行为以相对于对称及不对称因子评估及特征化工艺变动，且相对于工艺步骤提供所述工艺变动的根本原因分析。可使用具有不同层厚度及工艺变动因子的模型化堆叠的模拟来增强所述分析且对计量测量提供经改良目标设计、经改良算法及可校正项。可利用展现敏感谐振区域的特定目标来增强所述工艺变动评估。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116936393B
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202310920074.6
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
Abstract: 本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN108701625B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201780012673.0
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN116936393A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310920074.6
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
Abstract: 本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN108701625A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780012673.0
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/20 , G03F7/70633 , G03F9/7003 , G06F16/285 , H01L22/12
Abstract: 本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN108700463A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082361.2
申请日：2016-11-01
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01B11/272 , G03F7/70616 , G03F7/70633 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供方法、计量模块及RCA工具，其使用测量图谱中的(若干)谐振区域的行为以相对于对称及不对称因子评估及特征化工艺变动，且相对于工艺步骤提供所述工艺变动的根本原因分析。可使用具有不同层厚度及工艺变动因子的模型化堆叠的模拟来增强所述分析且对计量测量提供经改良目标设计、经改良算法及可校正项。可利用展现敏感谐振区域的特定目标来增强所述工艺变动评估。
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