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公开(公告)号：CN107532945B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN106164733B
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201580018392.7
申请日：2015-03-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供有关具有在第一方向上以第一间距重复的元件的周期性结构的目标设计及方法。所述元件沿垂直于所述第一方向的第二方向以第二间距为周期，且在所述第二方向上的特征为具有所述第二间距的交替的对焦点敏感及对焦点不敏感的图案。在所产生目标中，所述第一间距可为大约装置间距，且所述第二间距可为数倍大。所述第一对焦点不敏感的图案可经产生以产出第一临界尺寸，且所述第二对焦点敏感的图案可经产生以产出第二临界尺寸，仅在满足指定焦点要求时，所述第二临界尺寸才可等于所述第一临界尺寸，或基于沿所述垂直方向的所述较长间距提供零以及第一衍射级的散射术测量。
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公开(公告)号：CN110045579A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201811454228.2
申请日：2011-07-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请的实施例涉及多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公共对称中心对于N度旋转不变，其中N等于或大于180度，其中该两个或更多个图案元素中的每一个具有单独的对称中心，其中各标靶结构的两个或更多个图案元素的每一个围绕该单独对称中心对于M度旋转不变，其中M等于或大于180度。
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公开(公告)号：CN112698551B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN107532945A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01J9/00 , G03F7/705 , G03F7/70683 , H01L22/30
Abstract: 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110045579B
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN201811454228.2
申请日：2011-07-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请的实施例涉及多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公共对称中心对于N度旋转不变，其中N等于或大于180度，其中该两个或更多个图案元素中的每一个具有单独的对称中心，其中各标靶结构的两个或更多个图案元素的每一个围绕该单独对称中心对于M度旋转不变，其中M等于或大于180度。
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公开(公告)号：CN112698551A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN106575630A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580037985.8
申请日：2015-07-07
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
Abstract: 本发明提供度量方法，其包括：识别装置设计中的叠加关键图案，所述叠加关键图案对工艺变动具有高于取决于设计规格的指定阈值的叠加敏感度；及使用对应于经识别的叠加关键图案的度量目标。替代地或互补地，度量方法包括根据归因于指定工艺变动的对应工艺窗变窄而识别成品率关键图案，其中所述变窄是通过图案的边缘布置误差EPE对工艺参数的相依性而界定。本发明提供对应目标及测量。
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公开(公告)号：CN112485971B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202011278298.4
申请日：2016-04-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN105759570B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201610139920.0
申请日：2011-07-28
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请公开了多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统。公开了一种用于基于成像的计量的多层重叠标靶。该重叠标靶包含多个标靶结构，该多个标靶结构包括三个或更多个标靶结构，各标靶结构包括一组两个或更多个图案元素，其中所述标靶结构被配置为，一旦所述标靶结构对齐时共享公共对称中心，各标靶结构围绕该公共对称中心对于N度旋转不变，其中N等于或大于180度，其中该两个或更多个图案元素中的每一个具有单独的对称中心，其中各标靶结构的两个或更多个图案元素的每一个围绕该单独对称中心对于M度旋转不变，其中M等于或大于180度。
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