改进寄生电容的品质因数
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114695342A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202111607245.7

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种集成电路(200),其包括衬底(202)、耦接到所述衬底(202)的参考触点(204)、所述衬底(202)上方的电容器(210)和衬底元件(218)。所述电容器(210)包括具有相关联寄生电容(CP)的第一导电元件(214)以及与所述第一导电元件电隔离的第二导电元件(212)。所述衬底元件(218)通过所述寄生电容耦接到所述第一导电元件(214)并耦接到所述参考触点(204)。所述衬底元件(218)包括在所述衬底(202)中并与所述第一导电元件(214)和所述参考触点(204)对准的导电掺杂区。

    用于电流隔离器件的线键合部
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117810193A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311214653.5

    申请日:2023-09-20

    Abstract: 本申请公开了用于电流隔离器件的线键合部。一种微电子器件(100)包括电流隔离部件(102),其具有:在基板(112)上方的下隔离元件(138)与连接到下隔离元件(138)的下键合焊盘(116);在下隔离元件(138)上方的不延伸到下键合焊盘(116)的介电平台(118);以及在介电平台(118)上方的上隔离元件(140)和上键合焊盘(122)。上键合焊盘(122)与下键合焊盘(116)横向分离隔离距离(142)。微电子器件(100)包括上键合焊盘(122)上的高电压线键合部(134),其在竖直方向的10度内向上延伸大于隔离距离(142)的竖直距离(150)。微电子器件(100)进一步包括在下键合焊盘(116)上的低电压线键合部(132),其具有直接在基板(112)的周边(120)上方的环高度(144),该环高度小于低电压线键合部(132)的线直径(146)的5倍。

    高性能高压隔离器
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114451069A

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN202080065845.2

    申请日:2020-07-20

    Abstract: 一种集成电路(100D)包括半导体衬底(102)和位于半导体衬底上方的多个电介质层(122、128),多个电介质层包括顶部电介质层(128D2)。金属板(132)位于顶部电介质层上方;金属环(120E)位于顶部电介质层上方并且基本上包围金属板(132)。保护涂层(141)覆盖金属环和金属板(132)。穿过保护涂层(141)形成沟槽开口(146),沟槽开口(146)暴露了在金属板(132)和金属环(120E)之间的顶部电介质层(128D2),沟槽开口(146)基本上包围金属板。

    对加强型隔离技术的电流高压隔离能力增强

    公开(公告)号:CN115706095A

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN202210965212.8

    申请日:2022-08-12

    Abstract: 本申请公开了对加强型隔离技术的电流高压隔离能力增强。一种微电子装置(100)包括半导体衬底和衬底上方的高压隔离电容器(104)。电容器(104)包括衬底上方的底部电容器板。电介质层(122)在底部电容器板上方形成,包括顶部电介质层(122a)。在顶部电介质层(122a)上的高电介质层(140)至少包括第一子层(142),该第一子层具有高于顶部电介质层(122a)的介电常数的第一介电常数。在底部电容器板上方的高电介质层(140)上形成顶部电容器板(132)。电场消减结构(150)围绕顶部电容器板(132)。电场消减结构(150)包括高电介质层(140)的从底部电容器板(132)的下角(133)向外延伸至少14微米的搁板(155),以及高电介质层(140)中经过搁板(155)的隔离断口(152),其中第一子层(142)从隔离断口(152)去除。

    谐振电感-电容隔离数据通道
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114628371A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202111503142.6

    申请日:2021-12-10

    Abstract: 本申请涉及谐振电感‑电容隔离数据通道。电子器件(100)具有衬底以及带有谐振电路的第一和第二金属化级。第一金属化级具有在衬底(101)的一侧上的第一介电层(102),以及在第一介电层(102)上的第一金属层(103)。第二金属化级具有在第一介电层(102)和第一金属层(103)上的第二介电层(104),以及在第二介电层(104)上的第二金属层(105)。电子器件(100)包括在第一金属层(103)中的第一极板(123、124、127、128),和在第二金属层(105)中的与第一极板(123、124、127、128)隔开的第二极板(121、122、125、126)以形成电容器(C1、C2、C3、C4)。电子器件(100)包括绕组(131、132、133、134),该绕组在第一和第二金属层(103、105)中的一个中并且联接到谐振电路中的第一和第二极板(123、124、127、128;121、122、125、126)中的一个。

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