一种具有五靶头的磁控共溅射设备

    公开(公告)号:CN103849843A

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:CN201410020952.X

    申请日:2014-01-17

    Abstract: 本发明公开了一种具有五靶头的磁控共溅射设备,本发明磁控溅射设备在腔体内设置有三个溅射靶、基片台、基片台支架、基片台挡板。所述的三个溅射靶包括两个单靶头溅射靶和一个三靶头溅射靶,可通过旋转安装于所述的腔体外侧的转轮把手选择溅射靶材。所述的基片台支架用于支撑基片台,所述的基片台挡板安装在基片台上方。本发明提供的磁控溅射设备,可实现五种溅射靶材料单独溅射或三靶共聚焦溅射功能。

    一种高饱和阈值的碲镉汞探测器芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN115513315A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211112869.6

    申请日:2022-09-14

    Abstract: 本发明公开了一种高饱和阈值的碲镉汞探测器芯片及制备方法,碲镉汞探测器芯片包括衬底、环氧树脂胶、p型光敏层、n型离子注入层、钝化层、n型电极层和p型电极层,p型光敏层是Hg1‑xCdxTe组分渐变层,沿背离衬底方向依次包括Cd组分线性渐变Hg1‑xCdxTe层和Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层,Cd组分x从高到低由Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层的上表面渐变至Cd组分线性渐变Hg1‑xCdxTe层的下表面。本发明芯片的n型离子注入层形成在Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层内,渐变带隙引入的较强内建电场通过提高空穴的漂移速度,减少空穴在空间电荷区的堆积,同时抑制p区载流子的扩散运动,降低pn结对p区光生电子的收集效率,降低空间电荷区的载流子浓度,提高芯片饱和阈值,实现室温零偏置电压下工作。

    一种具有五靶头的磁控共溅射设备

    公开(公告)号:CN103849843B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201410020952.X

    申请日:2014-01-17

    Abstract: 本发明公开了一种具有五靶头的磁控共溅射设备,本发明磁控溅射设备在腔体内设置有三个溅射靶、基片台、基片台支架、基片台挡板。所述的三个溅射靶包括两个单靶头溅射靶和一个三靶头溅射靶,可通过旋转安装于所述的腔体外侧的转轮把手选择溅射靶材。所述的基片台支架用于支撑基片台,所述的基片台挡板安装在基片台上方。本发明提供的磁控溅射设备,可实现五种溅射靶材料单独溅射或三靶共聚焦溅射功能。

    多样品霍尔效应测试设备

    公开(公告)号:CN1885051A

    公开(公告)日:2006-12-27

    申请号:CN200610027355.5

    申请日:2006-06-07

    Abstract: 一种基于多样品霍尔效应测试设备,系为多片样片霍尔效应测试设备,主要应用于批量半导体材料电学输运性能的测试。该设备主要由一个主系统和一个从系统及一只PC机组成。主系统主要负责测试信号的产生和接收,测试过程中被测样品的自动切换;从系统主要负责提供测试平台和测试磁场。设备电学参数的测量,并将测试结果显示在测试面板上。本设备的最大的优点是可以实现多片样品的连续测量,以及对于磁场的精确控制,从而提高了测试效率和测试精度。另外可以实现半导体材料测试电极的I-V曲线测试,变磁场霍尔效应测试,以及电子数据的存储,从而自动完成批量被测样品的测试及测试结果记录的整个过程。

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