一种储氢无裂纹锆钛铜合金电极源片的制备工艺

    公开(公告)号:CN107739859A

    公开(公告)日:2018-02-27

    申请号:CN201711026835.4

    申请日:2017-10-27

    Abstract: 本发明公开了一种储氢无裂纹锆钛铜合金电极源片的制备工艺,(a)采用金属钛、金属锆和金属铜作为原料,根据原料的配比,采用水冷铜坩埚电磁感应真空悬浮熔炼的方法制备锆钛铜合金;(b)将步骤(a)得到的锆钛铜合金锭加工成一定形状和尺寸的样品,并对其表面进行一系列预处理;(c)将步骤(b)得到的锆钛铜合金样品进行吸氢反应,制备出成品。本发明的将从更为本质的材料本身着手,重点研制一种性能优良的合金材料,这种合金材料能够在吸氢过程中,通过某些微量元素的钉扎作用,减少因氢化作用产生的体涨和氢脆效应。

    金属氢化物电极制备方法和装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN103978215B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201410241645.4

    申请日:2014-06-03

    Abstract: 本发明涉及电极制备技术领域,具体公开了一种金属氢化物电极制备方法和装置及其使用方法,金属氢化物电极制备方法,采用金属氢化物粉末热压成型制备金属氢化物电极,采用0.5GPa -5Gpa高压将金属氢化物粉末压制成型;保持高压并加热成型电极至300℃-900℃并在此温度范围内保持0.5min以上,消除内应力,制备满足形状、尺寸和强度要求的储氢电极。本发明能够获得成分更均匀的电极,能改善现有技术中成型引起的应力等内部缺陷,制备的电极强度高,并且电极制备时间短,具有结构均匀性好、通用性强的等优点。

    一种高引出效率的离子源结构及密封中子管结构

    公开(公告)号:CN117042276A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310925038.9

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本发明公开了一种高引出效率的离子源结构及密封中子管结构;由TiT薄膜靶紧贴在封闭外壳的内壁;靶栅网紧靠TiT薄膜靶,在靶栅网与封闭外壳之间加载电压产生负偏压;在放电阳极与放电阴极之间加载电压后产生等离子体;本方案基于现在有的真空弧放电的离子源结构进行结构上的改进,在放电阴极与阳极栅网之间预留空间供等离子体自由膨胀,为等离子体提供开放的膨胀空间,使得放电产生的等离子体大部分都可以膨胀进入加速区获得能量并轰击靶面,从而可以将弧流利用率提高到1%左右,实现中子产额突破1×1010n/s。

    一种绝缘介质材料二次电子产额测试方法及应用

    公开(公告)号:CN113533404A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110789989.9

    申请日:2021-07-13

    Abstract: 本发明公开了一种绝缘介质材料二次电子产额测试方法及应用,测试方法包括以下步骤:S1、采用脉冲电子束轰击样品表面考察样品表面正电荷积聚对二次电子发射过程的影响并确定电荷中和操作的次数;S2、基于电荷中和操作的次数测定样品的二次电子产额。本发明的测试方法是基于双层栅网球形二次电子收集器;本发明的二次电子产额测试方法,可以有效对绝缘介质材料表面二次电子发射后积聚的正电荷进行补偿,防止积聚电荷影响二次电子发射带来测试误差;电荷补偿的效果不受材料二次电子产额大小以及样品厚度等因素影响,测试方法的准确性没有适用范围的限制;可以同时测得绝缘介质材料样品的真二次电子产额、背散射电子产额和总二次电子产额。

    金属氢化物电极制备方法和装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN103978215A

    公开(公告)日:2014-08-13

    申请号:CN201410241645.4

    申请日:2014-06-03

    Abstract: 本发明涉及电极制备技术领域,具体公开了一种金属氢化物电极制备方法和装置及其使用方法,金属氢化物电极制备方法,采用金属氢化物粉末热压成型制备金属氢化物电极,采用0.5GPa-5Gpa高压将金属氢化物粉末压制成型;保持高压并加热成型电极至300℃-900℃并在此温度范围内保持0.5min以上,消除内应力,制备满足形状、尺寸和强度要求的储氢电极。本发明能够获得成分更均匀的电极,能改善现有技术中成型引起的应力等内部缺陷,制备的电极强度高,并且电极制备时间短,具有结构均匀性好、通用性强的等优点。

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