一种基于支持向量机的手语翻译方法

    公开(公告)号:CN111428802A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN202010242973.1

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明为一种基于支持向量机的手语翻译方法,其特征在于:包括以下:1、利用STM32开发板通过可穿戴数据手套采集手势电压信号;2、利用信号筛选程序将每一组手势电压信号对应的手语词语和常用手语句子制成手语语句库;3、编写包括支持向量机分类模块、数据传输模块和储存模块的支持向量机程序,所述的支持向量机分类模块是基于支持向量机二分类算法,采用有向无环方案构成的多分类模型;4、将每次收到的手势电压信号通过支持向量机分类模块转换为手语词语;5、将步骤4在一段时间内获得的手语词语转换为手语词语组,将手语词语组与手语语句库进行匹配并联想填充成句输出结果。本发明结合支持向量机及传感技术实现手语自动实时翻译识别。

    采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法

    公开(公告)号:CN109238155A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201811296986.6

    申请日:2018-11-01

    Abstract: 本发明为一种采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法,其特征在于:所述测量SiO2薄膜厚度的方法是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量Si/SiO2薄膜的厚度,所述的等效物理结构模型是根据Si/SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型,实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底,其中所述的中间混合层为Si基底与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本发明可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性,为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。

    基于白光干涉术的测试系统及其测试方法

    公开(公告)号:CN106017349A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610401870.9

    申请日:2016-06-08

    CPC classification number: G01B11/2441

    Abstract: 本发明为一种基于白光干涉术的测试系统及其测试方法,其特征在于:所述的测试系统包括显微光学系统、数字CCD摄像机、图像采集卡、干涉系统、压电陶瓷、压电陶瓷控制器、气浮平台、白光卤素光源和PC机。本发明的测试方法通过PC机操作压电陶瓷控制器控制压电陶瓷带动被测样品进行垂直扫描,使干涉条纹扫过被测区域,并由数字CCD摄像机记录采集的图像;PC机对采集的图像滤波后提取单个像素点的白光干涉信号,减去得到的白光干涉条纹的背景光强值,对各像素点的光强进行时域到频域的转换,在频域内做分解,得到波数和相位的关系;通过综合干涉信号频域内波数与相位信息从而得到零光程差的位置,实现表面高度信息的提取。

    一种微纳米标准样板及其循迹方法

    公开(公告)号:CN105865389A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201610401901.0

    申请日:2016-06-08

    CPC classification number: G01B21/042

    Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法,其特征在于:所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域;所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识;所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅;所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺,所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向,便于快速定位B区域和C区域,并通过坐标关系实现重复性测量。

    一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头

    公开(公告)号:CN103075951B

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201210557826.9

    申请日:2012-12-20

    Abstract: 本发明为一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头,所述的测头由方形底板、电容传感器阵列、十字梁和测针组成,其特征在于:所述的测头有多个电容传感单元,呈阵列式分布于方形底板上,测针连接在十字梁的中心连接体上,十字梁的悬臂与电容传感器上极板相连,上极板通过微弹簧悬挂单元悬挂,所述上极板的悬挂采用若干个微弹簧实现,微弹簧不仅用于固定电容传感器的上极板,还用于支撑十字梁和测针重量,由测针及十字梁组成的杠杆结构将被测物的横向位移放大并转化为电容上极板的轴向位移,解决单个电容传感器测量时横向分辨力低的问题。本发明弥补了单个电容传感器横向分辨力低的缺陷,提高了分辨力和精度,有效拓展了横向测量范围。

    低损耗亚纳分辨率的光纤测振系统

    公开(公告)号:CN103148929A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201310093168.7

    申请日:2013-03-22

    Abstract: 本发明为一种低损耗亚纳分辨率的光纤测振系统,其特征在于所述测振系统的装置及连接关系为:光源由普通驱动电源驱动;沿光源发射光前进方向依次放置要检测的振动台,微悬臂系统;所述的光源传出的光在光纤(3)中传播;所述的压电阶段包括粘附有光纤(3)的待测的振动台、微悬臂系统以及显微镜,显微镜设于振动台和微悬臂系统的上方;所述的微悬臂系统包括可调的三维平台和粘附在其上的末端为纳米针尖探针的光纤(5),光纤(5)的另一端与光电转换装置的输入端连接;所述的光电转换装置的输出端与数据采集和处理装置连接;所述的数据采集和处理装置与信号监视器连接。本发明设计了带纳米针尖探针的光纤及微悬臂系统,适用于低频信号的检测。

    一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头

    公开(公告)号:CN103075951A

    公开(公告)日:2013-05-01

    申请号:CN201210557826.9

    申请日:2012-12-20

    Abstract: 本发明为一种基于电容传感器阵列的三维微接触式测头,所述的测头由方形底板、电容传感器阵列、十字梁和测针组成,其特征在于:所述的测头有多个电容传感单元,呈阵列式分布于方形底板上,测针连接在十字梁的中心连接体上,十字梁的悬臂与电容传感器上极板相连,上极板通过微弹簧悬挂单元悬挂,所述上极板的悬挂采用若干个微弹簧实现,微弹簧不仅用于固定电容传感器的上极板,还用于支撑十字梁和测针重量,由测针及十字梁组成的杠杆结构将被测物的横向位移放大并转化为电容上极板的轴向位移,解决单个电容传感器测量时横向分辨力低的问题。本发明弥补了单个电容传感器横向分辨力低的缺陷,提高了分辨力和精度,有效拓展了横向测量范围。

    一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板

    公开(公告)号:CN216846167U

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN202120786997.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域,所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶,一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识,深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽,在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构,所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同,且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。

    一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置

    公开(公告)号:CN217716312U

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202222097838.X

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 本实用新型为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置,属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本实用新型装置包括激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块;所述激光光源发出激光光束,激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块,形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制,最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收;所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号,并进行数据处理。

    一种复合型纳米膜厚标准样板

    公开(公告)号:CN215261700U

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202120786965.3

    申请日:2021-04-17

    Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板,其特征在于:所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域,所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域,所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域,两测量工作区域厚度参数相同,所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框,所述的工作框四边外周设有一级循迹标识,在工作框内部设有二级循迹标识,工作框中部则设有中心几何薄膜结构,所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆,其外周布置有带箭头循迹标识,所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。

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