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公开(公告)号：CN105865389B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201610401901.0
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。
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公开(公告)号：CN105387882A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510759877.3
申请日：2015-11-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01D11/26
CPC classification number: G01D11/26
Abstract: 本发明公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。
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公开(公告)号：CN105865389A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610401901.0
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
CPC classification number: G01B21/042
Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。
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公开(公告)号：CN205748332U
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201620552831.4
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
Abstract: 本实用新型为一种微纳米标准样板，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。
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公开(公告)号：CN205120148U
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201520890431.X
申请日：2015-11-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01D11/26
Abstract: 本实用新型公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118623767A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202411044172.9
申请日：2024-07-31
Abstract: 本发明为一种基于激光跟踪仪的立体标准器测量系统及其测量方法，采用平面反射装置使激光跟踪仪的激光光路发生镜面折转而改变其激光光路，使激光跟踪仪镜像原点与立体标准器两两顶点的靶球处在同一测量轴线上，减少需对立体标准器进行多次搬动调整位置的动作，即可实现激光跟踪仪干涉测距模块的高精度测量工作，实现激光跟踪仪干涉模块测量立体标准器的各边长，再根据立体标准器的几何关系，以立体标准器的四个顶点建立笛卡尔坐标系，建立顶点‑边长关系方程，计算出各顶点的坐标值，从而获得立体标准器各顶点的参考坐标值。本发明操作便捷、测量精度高、不受限于立体标准器尺寸大小，实现了立体标准器各顶点坐标值的精确测量。
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公开(公告)号：CN117006950A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202311081467.9
申请日：2023-08-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置，包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的信号处理系统以及与所述待校准的纳米位移台电路连接的位移台驱动系统，所述位移台驱动系统驱动待校准的纳米位移台带动光栅同步运动，所述的光电探测模块设有用于采集干涉信号的光电探测器，所述光电探测器采集的干涉信号转化为电流信号传输至信号处理系统，由信号处理系统对干涉信号进行数据处理，获得光栅和待校准的纳米位移台的位移信息。
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公开(公告)号：CN111428871B
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202010243856.7
申请日：2020-03-31
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种基于BP神经网络的手语翻译方法，其特征在于：包括以下步骤：1、利用树莓派3B通过可穿戴数据手套采集手势电压信号；2、利用信号筛选程序将每一组手势电压信号对应的手语词语和常用手语句子编制成手语语句库；3、编写包括BP神经网络结构框架模型、数据传输模块和储存模块的神经网络分类程序，BP神经网络结构框架模型采用输入层、输出层以及隐藏层的三层神经网络；4、将每次收到的手势电压信号通过BP神经网络框架模型转换为手语词语；5、将步骤4在一段时间内获得的手语词语转换为手语词语组，将手语词语组与手语语句库进行匹配并联想填充成句输出结果。本发明结合神经网络及传感技术实现了手语自动实时翻译识别。
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公开(公告)号：CN109307480B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201811163319.0
申请日：2018-09-30
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明提供一种透射元件多表面面形检测方法，涉及测量技术领域。利用逆向哈特曼光路检测装置测得待测元件波像差的前提下，使用计算机建立的模型化检测系统，在光线追迹模型中对待测元件各表面面形添加多组不同面形误差，获得相应波像差，通过求解模型化检测系统中波像差与实测波像差的差值最小值，最终得到待测透射元件的实际面形误差。本发明解决了现有技术中对透射元件的多表面检测不具有高精度及通用性的技术问题。本发明有益效果为：为透射元件多表面面形检测提供了一种高精度大动态范围的检测方法。
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公开(公告)号：CN109307480A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201811163319.0
申请日：2018-09-30
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明提供一种透射元件多表面面形检测方法，涉及测量技术领域。利用逆向哈特曼光路检测装置测得待测元件波像差的前提下，使用计算机建立的模型化检测系统，在光线追迹模型中对待测元件各表面面形添加多组不同面形误差，获得相应波像差，通过求解模型化检测系统中波像差与实测波像差的差值最小值，最终得到待测透射元件的实际面形误差。本发明解决了现有技术中对透射元件的多表面检测不具有高精度及通用性的技术问题。本发明有益效果为：为透射元件多表面面形检测提供了一种高精度大动态范围的检测方法。
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