-
公开(公告)号：CN105865389B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201610401901.0
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。
-
公开(公告)号：CN105387882A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510759877.3
申请日：2015-11-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01D11/26
CPC classification number: G01D11/26
Abstract: 本发明公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。
-
公开(公告)号：CN105865389A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610401901.0
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
CPC classification number: G01B21/042
Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。
-
公开(公告)号：CN205748332U
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201620552831.4
申请日：2016-06-08
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01B21/04
Abstract: 本实用新型为一种微纳米标准样板，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。
-
公开(公告)号：CN205120148U
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201520890431.X
申请日：2015-11-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01D11/26
Abstract: 本实用新型公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119043187A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411197644.4
申请日：2024-08-29
Abstract: 本发明提供了一种悬挂结构及包含其的探测模块、微位移探测装置，悬挂结构包括中心区、固定框架和若干悬挂梁，中心区为圆形，中心区用于固定测针的上端或支承反射镜组件下端；固定框架绕中心区设置，固定框架的内边缘为圆形，固定框架的内边缘与中心区同轴设置，固定框架用于与其它部件相固定；悬挂梁设置于中心区、固定框架之间，悬挂梁的两端分别与中心区的外边缘、固定框架的内边缘相连接；若干悬挂梁沿中心区的周向均匀分布。通过若干沿周向均匀分布的悬挂梁连接中心区，使固定在中心区的测针受力均匀，测针在不受外力的情况下能保持竖直状态，同时也不妨碍测球跟随样品表面的起伏发生位移，保证了样品测量的精确度和稳定性。
-
公开(公告)号：CN110726378A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201911100142.4
申请日：2019-11-12
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置及方法，在利用本发明的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时，开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后，将测端球沿被测样品的表面接触扫描；测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化，从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量；根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。
-
公开(公告)号：CN109238155B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201811296986.6
申请日：2018-11-01
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法，其特征在于：所述测量SiO2薄膜厚度的方法是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量SiO2薄膜的厚度，所述的等效物理结构模型是根据SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型，实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底层，其中所述的中间混合层为Si基底层与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本发明可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性，为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。
-
公开(公告)号：CN106931916A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710130912.4
申请日：2017-03-07
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
CPC classification number: G01B21/042 , G01B15/00 , G01Q40/02
Abstract: 本发明为一种微纳米台阶标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米台阶标准样板包括A工作区域及B循迹区域；所述的A工作区域内设有一个纳米级台阶、四个校准定位块及四个循迹参考定位块，通过所述B循迹区域内两对相互对称的等腰三角形形状的循迹标识符配合设置的设计单位标识符和样板型号标识符，确定微纳米台阶标准样板摆放方向与具体位置，通过所述A工作区域内的四个校准定位块在A工作区域内从纵向上快速校准定位，通过所述A工作区域内的四个循迹参考定位块在A工作区域内从横向上快速进行定位，并通过两两循迹参考定位块间的间隙确定测量的初始位置，完成整个校准过程，实现快速、高效的定位和校准，并具有很好的重复性。
-
公开(公告)号：CN101504273B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200910056935.0
申请日：2009-03-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明为一种物体平面微、纳米尺寸的测量装置及其测量方法，其特征在于：包括纳米定位测量机、光学显微镜测头和数据处理器，纳米定位测量机箱体内设有三个微型平面镜干涉仪和两个角度传感器来实现计量性的定位和测量，纳米定位测量机箱体一侧垂直支撑其固定支架，固定支架的另一端安装光学显微镜测头，光学显微镜测头底下是被测物体和载物台；被测物体经光学显微镜测头成像后，图像数据传递到数据处理器，数据处理器将接收到的数据进行数值转换获取被测物体在光学显微镜测头视场内的灰度图，在灰度图中设定线宽方向，然后设定沿此方向的区域，计算所述区域内各像素点的灰度算术平均值，并将所述灰度算术平均值经数模转换后发送到纳米测量机。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
48
records
(took 0.074 seconds)
