公开(公告)号：CN105865389A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610401901.0

申请日：2016-06-08

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 雷李华 ,  邵力 ,  李源 ,  魏佳斯 ,  蔡潇雨 ,  傅云霞 ,  张波

IPC: G01B21/04

CPC classification number: G01B21/042

Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。

公开(公告)号：CN105865389B

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201610401901.0

申请日：2016-06-08

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 雷李华 ,  邵力 ,  李源 ,  魏佳斯 ,  蔡潇雨 ,  傅云霞 ,  张波

IPC: G01B21/04

Abstract: 本发明为一种微纳米标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。所述A区域的向上的箭头形状的循迹标识实现了在测量前快速定位微纳米标准样板并确定样板的正交扫描方向，便于快速定位B区域和C区域，并通过坐标关系实现重复性测量。

公开(公告)号：CN105387882A

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：CN201510759877.3

申请日：2015-11-10

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 王鹏 ,  邵力 ,  傅云霞 ,  李源 ,  蔡潇雨 ,  魏佳斯 ,  雷李华

IPC: G01D11/26

CPC classification number: G01D11/26

Abstract: 本发明公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。

公开(公告)号：CN205120148U

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201520890431.X

申请日：2015-11-10

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 王鹏 ,  邵力 ,  傅云霞 ,  李源 ,  蔡潇雨 ,  魏佳斯 ,  雷李华

IPC: G01D11/26

Abstract: 本实用新型公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。

公开(公告)号：CN205748332U

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201620552831.4

申请日：2016-06-08

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  上海计测工程设备监理有限公司

Inventor： 雷李华 ,  邵力 ,  李源 ,  魏佳斯 ,  蔡潇雨 ,  傅云霞 ,  张波

IPC: G01B21/04

Abstract: 本实用新型为一种微纳米标准样板，其特征在于：所述的微纳米标准样板包括A区域、B区域和C区域三个工作区域；所述的A区域设有向上的箭头形状的循迹标识；所述的B区域设有不同计量尺寸的第一矩阵阵列光栅和第二矩阵阵列光栅；所述的C区域设有不同计量尺寸的第一横向刻度尺、第二横向刻度尺、第三横向刻度尺和第四横向刻度尺，所述的C区域还设有四个等腰直角三角形形状的循迹标识。