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公开(公告)号：CN113237446B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202110414926.5
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种复合型纳米膜厚标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号：CN109307480B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201811163319.0
申请日：2018-09-30
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明提供一种透射元件多表面面形检测方法，涉及测量技术领域。利用逆向哈特曼光路检测装置测得待测元件波像差的前提下，使用计算机建立的模型化检测系统，在光线追迹模型中对待测元件各表面面形添加多组不同面形误差，获得相应波像差，通过求解模型化检测系统中波像差与实测波像差的差值最小值，最终得到待测透射元件的实际面形误差。本发明解决了现有技术中对透射元件的多表面检测不具有高精度及通用性的技术问题。本发明有益效果为：为透射元件多表面面形检测提供了一种高精度大动态范围的检测方法。
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公开(公告)号：CN109307480A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201811163319.0
申请日：2018-09-30
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明提供一种透射元件多表面面形检测方法，涉及测量技术领域。利用逆向哈特曼光路检测装置测得待测元件波像差的前提下，使用计算机建立的模型化检测系统，在光线追迹模型中对待测元件各表面面形添加多组不同面形误差，获得相应波像差，通过求解模型化检测系统中波像差与实测波像差的差值最小值，最终得到待测透射元件的实际面形误差。本发明解决了现有技术中对透射元件的多表面检测不具有高精度及通用性的技术问题。本发明有益效果为：为透射元件多表面面形检测提供了一种高精度大动态范围的检测方法。
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公开(公告)号：CN113237446A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110414926.5
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种复合型纳米膜厚标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号：CN215261700U
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202120786965.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN216846167U
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202120786997.3
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域，所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶，一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识，深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽，在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构，所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同，且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。
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公开(公告)号：CN216791112U
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202120786964.9
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆，所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆，所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识，所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求，完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式，使测量结构能被快速、准确地定位和测量，大大提高了测量效率。
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公开(公告)号：CN104457556B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201310441883.5
申请日：2013-09-23
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B7/312
Abstract: 本发明公开了一种涡轮部件及螺柱标准件同轴度的测量装置和方法，所述表座固定在底座上，电感测微仪设置于表座上，弹性体的一端固定在底座上，另一端和连接座的底部相连，连接座的首端和电感测微仪相连，末端和滑轨垂直相连，测头夹具套设在滑轨上，三针套件固定在测头夹具上，安装架固定在底座上，待测工件的圆柱部分夹持于安装架上，三针套件压紧在待测工件的螺纹部上，滚动轴承设置于待测工件的圆柱部分上，质量块压加在滚动轴承上。还公开了一种涡轮部件及螺柱标准件同轴度的测量方法。本发明结构简单，制作方法，能够简单速度的测得待测工件的同轴度，精度高，操作过程简单，易于广泛推广。
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公开(公告)号：CN103398087A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310343076.X
申请日：2013-08-07
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: F16C3/18
Abstract: 本发明公开了一种可调节偏心距的标准偏心轴，包括主轴，主轴一侧具有外螺纹段，另一侧具有轴肩，外螺段套装有垫圈和可与外螺纹段拧合的锁紧螺母，所述外螺纹段和轴肩之间有两个斜面，两斜面之间成60度角，距离主轴线距离相同且与轴体对称；在轴肩和垫圈之间依次套装有轴套、隔离套和轴套，所述轴套成环状，且环内有两个相互间成60度角的平面，两平面和主轴两斜面相匹配，在对应平面和斜面内分别放置一对可更换的相同高度的标准厚度块。本发明可达到偏心距的精确调整，通过标准厚度块的改变，可实现约定的标准偏心距，消除了人为调节的影响，在同一标准偏心轴上，可以实现快速的测量校准，结构简单可靠。
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公开(公告)号：CN104457556A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201310441883.5
申请日：2013-09-23
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B7/312
Abstract: 本发明公开了一种涡轮部件及螺柱标准件同轴度的测量装置和方法，所述表座固定在底座上，电感测微仪设置于表座上，弹性体的一端固定在底座上，另一端和连接座的底部相连，连接座的首端和电感测微仪相连，末端和滑轨垂直相连，测头夹具套设在滑轨上，三针套件固定在测头夹具上，安装架固定在底座上，待测工件的圆柱部分夹持于安装架上，三针套件压紧在待测工件的螺纹部上，滚动轴承设置于待测工件的圆柱部分上，质量块压加在滚动轴承上。还公开了一种涡轮部件及螺柱标准件同轴度的测量方法。本发明结构简单，制作方法，能够简单速度的测得待测工件的同轴度，精度高，操作过程简单，易于广泛推广。
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