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公开(公告)号：CN113186492A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110412689.9
申请日：2021-04-16
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法，在制备含有氧化铪膜层的多层光学薄膜时，镀制氧化铪的同时掺入氧化硅材料一同镀制形成氧化铪‑氧化硅混合膜层，抑制纯氧化铪膜层的折射率非均匀性，进而改善由于氧化铪膜层折射率非均匀性导致多层光学薄膜的光学性能下降问题。
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公开(公告)号：CN112267098A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202010928969.0
申请日：2020-09-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及空间激光薄膜制备方法。该方法提出一种制备空间激光薄膜的全流程技术方案，包括去除基底表面污染物和亚表面缺陷、增加抗辐照保护层，基底上镀膜，明确了各环节的技术方案和实现途径，使用本发明制备的薄膜，基底表面及亚表面缺陷大大减少，薄膜折射率可达到体材料水平，在大气‑真空环境下光谱偏移小，也不易受到空间粒子辐照的影响，并且具有较高的激光损伤阈值，改善了常规激光薄膜不适用于空间环境的情况。
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公开(公告)号：CN111286700B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202010190180.X
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法，同时利用电子束双源共蒸技术和离子束辅助沉积技术，在基底的非镀膜或者在镀膜后面形较凹的待镀膜面沉积离子束辅助混合物单层膜，形成折射率与基底相同的光学虚设层来调谐镀膜元件面形。本发明能够对沉积在任意折射率基底上的镀膜元件进行面形补偿，减少镀膜引起的波面的质量下降，且不影响镀膜元件的光谱性能，该方法对单面镀膜和双面镀膜元件均适用。
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公开(公告)号：CN105845554A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610204422.X
申请日：2016-04-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/02096
Abstract: 一种超薄光学薄膜衬底硅片清洗方法包括步骤：用石油醚和丙酮的混合溶液超声清洗硅片表面；利用去离子水兆声清洗硅片表面；将硅片静置于添加JFC渗透剂的碱式清洗溶液中65℃～100℃水浴，清洗硅片表面，该碱式清洗溶液的体积比为NH4OH∶H2O2∶H2O＝(1％～5％)∶(10％～30％)∶1；将硅片静置于HF/HCL/H2O混合溶液中，清洗硅片表面；利用去离子水兆声清洗硅片表面；真空干燥箱烘干。本发明具有三大显著优点，清洗溶液不受管制，方便购置；每个清洗环节的温度控制到最佳状态，提高清洗效率，降低了清洗难度；碱式清洗溶液中加入JFC渗透剂，避免清洗过程中对硅片表面粗糙度的影响。
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公开(公告)号：CN115074688B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202210837040.6
申请日：2022-07-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种低应力自支撑金属薄膜滤片及其制备方法，该薄膜滤片膜系结构为：B/[A/B]^n或A/B/[A/B]^(n‑1)/A，其中，A表示主层材料，在所述滤片工作的透射波段具有较弱的吸收特性，B表示辅助层材料，n表示周期结构[A/B]循环次数，所述周期结构的周期厚度为D，D＝dA+dB，其中，dA为主层材料A的膜厚，dB为辅助层材料B的膜厚，每个周期中主层材料A的膜厚与周期厚度D的比值Г范围为0.5‑0.99。本发明相比于单层膜滤片和三明治结构滤片，薄膜综合应力下降50‑80％，微米量级尺寸的砂眼数量减少3‑5倍，且在脱膜过程中不易发生破损，使自支撑金属薄膜滤片的制备成功率提升了25‑75％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112946796B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201911268711.6
申请日：2019-12-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明提出一种宽带高反射高阈值低色散镜及其设计方法，宽带高反射高阈值低色散镜的结构为G/M/C/A，其中G代表基底层，M代表金属膜层，C代表介质膜层，A代表空气层，所述介质膜层由单层介质薄膜材料构成或者由低折射率的介质薄膜材料和高折射率的介质薄膜材料交替堆叠而成。本发明利用金属宽反射带宽和优异的色散特性，结合介质膜反射率高、抗激光破坏能力强的特点，通过调整介质膜层数和厚度，可调控不同带宽范围内的色散和反射率，从而设计出满足超快激光系统中用于脉冲传输的宽带高反射高阈值低色散镜。
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公开(公告)号：CN111378934B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202010239590.9
申请日：2020-03-30
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
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公开(公告)号：CN111208591B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202010031855.6
申请日：2020-01-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/08
Abstract: 一种宽带高阈值组合介质低色散镜结构及其设计方法。宽带高阈值组合介质低色散镜的结构为G/M/N/A，其中G代表基底层，M代表宽带介质膜层，N代表高阈值介质膜层，A代表空气层。所述的介质膜系结构由高折射率材料和低折射率材料交替沉积而成。不同的宽带介质膜层材料可实现不同的反射带宽和色散要求，不同的高阈值介质膜层材料可满足不同的阈值、色散要求。本发明结合宽带高折射率材料反射带宽宽、色散低和高阈值材料抗激光破坏能力强的特点，通过调节膜层厚度，调控膜内电场分布，从而设计满足超快激光系统中用于脉冲传输的宽带高阈值低色散镜。
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公开(公告)号：CN112458418A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202011336831.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种磁控溅射镀膜中降低极紫外多层膜表面粗糙度的方法，属于极紫外光刻技术领域。利用脉冲直流磁控溅射交替沉积高低原子序数多层膜，采用H2气对基底进行预处理，采用Ar气和H2气的混合气体替代纯Ar气作为脉冲直流溅射镀膜的工作气体，混合气体中H2气比例为2％‑10％。本发明将Mo膜层晶粒均匀化，降低多层膜粗糙度，减少界面缺陷，同时膜层材料中不引入H原子，保证了多层膜的光谱性能和环境稳定性。
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公开(公告)号：CN111722311A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010729510.8
申请日：2020-07-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 复合功能色散镜结构，其中色散镜结构由下到上依次为基底、增透结构单元、色散补偿结构单元，其中增透结构单元包括增透腔和第一高反层，色散补偿结构单元包括G-T腔和第二高反层，基本表达式：G/[(HxL)^m(HL)^a]^p[(HyL)^n(HL)^b]^q。本发明通过增透结构单元取代标准镜的高反射膜层，G-T腔与增透腔形成串联形式，调节G-T腔和增透腔的周期数以及腔厚度，设计不同色散量、反射率以及带宽的高色散镜，并且作为谐振腔的输出镜，能够在实现泵浦波长高透的同时，在激光响应波段保持一定的反射率且具备色散补偿功能，结构更加简单紧凑。
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