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公开(公告)号：CN109883956B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201910078617.8
申请日：2019-01-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/21
Abstract: 一种薄膜光学常数随温度变化的测量装置与测量方法，通过对薄膜样品在密闭环境中控温加热，分别测量同一样品的基底和膜面随温度变化的椭偏参数，以相同温度下所测量的基底光学常数作为膜层光学常数拟合的基底参数，排除基底在受热过程中面形及光学特性变化而对膜层测量结果的影响，实现薄膜光学常数随温度变化的精确测量。本发明中薄膜光学常数的测量有效排除基底特性随温度变化的影响提高测量精度。测量过程中严格控制变量条件，减小测量误差，操作简单有效，有利于提高测量的精确性和稳定性。
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公开(公告)号：CN108169183B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201711310751.3
申请日：2017-12-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/552
Abstract: 一种基于表面等离子体共振的金属膜测量装置，包括等腰直角三棱镜，在所述的等腰直角三棱镜的底面依次镀有亚微米量级厚度的介质膜和待测金属膜层，并浸入在溶液中。转动椭偏仪的发射臂角度，使等腰直角三棱镜与介质膜界面处的入射光角度大于该界面的全反射临界角度，满足激发表面等离子体共振的条件，在待测金属薄膜表面激发表面等离子体共振。测量不同入射波长对应的光的振幅比Ψ和相位差Δ，拟合振幅比Ψ和相位差Δ与入射波长的关系曲线，计算反演得到待测金属膜层的厚度和光学常数。本发明同时具有共振中心波长可调谐、可测量金属膜层厚度的范围大、拟合参数少等优点，在精确表征超薄薄膜的光学常数和检测生化物质成分领域具有很大的应用潜力。
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公开(公告)号：CN111378934A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN202010239590.9
申请日：2020-03-30
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
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公开(公告)号：CN105772937B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201610362146.X
申请日：2016-05-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种并排放置透明光学元件的激光预处理装置和方法，装置构成包括：沿激光传输方向设置的脉冲激光器、能量衰减系统、光开关、透镜系统、分光楔板，还包括激光能量探测器、CCD成像系统、电动移动台、主控计算机以及光学元件；光学元件沿着光束传输方向并排放置于电动移动台上的位置可调整的元件装夹上；主控计算机控制脉冲激光器触发、光开关开启关闭和电机移动台的运动。本发明包括将多块光学元件并排放置，使不同光学元件以不同能量密度的激光同时进行辐照处理，并通过移动并排放置光学元件位置来提高能量密度重复预处理；实现了高效快速的串行预处理方法。
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公开(公告)号：CN106091954A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610664021.2
申请日：2016-08-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: G01B11/0625 , B82Y35/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开一种利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法，当光强反射率R取得最小值时，此时对应的空气隙厚度d1即为需要镀制的介质薄膜的厚度；采用物理沉积法或化学沉积法在棱镜底面镀制介质薄膜；介质薄膜镀制完成后，采用精密测量仪器测量得出的所镀介质膜层的厚度，即为实际控制的纳米尺度空气隙的厚度。本发明解决了用来产生表面等离子体共振效应的Otto结构中纳米尺度空气间隙厚度难于精确控制的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105973849A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610529562.4
申请日：2016-07-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/59
CPC classification number: G01N21/59
Abstract: 一种光学材料损耗的测量装置和测量方法，本发明通过测量仅厚度不同的样品组在同一入射角下的透过率差异来去除表面损耗的影响，从而获得样品的材料损耗。测量时通过消除光束偏移和表面缺陷影响提高测量精度。通过增加样品的组数，提高整体损耗量，同时利用锁相放大技术抑制噪声，提高信噪比，从而进一步提高材料损耗的测量精度。本发明装置和方法具有结构简易、调整方便和精度较高的特点。
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公开(公告)号：CN103278309B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201310161404.4
申请日：2013-05-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种光学元件体内激光损伤自动快速探测装置，构成包括：置于移动平台上的待测光学元件；由依次的Nd:YAG激光器和第一聚焦透镜组成的脉冲激光辐射系统；由第一HeNe连续激光器、第二聚焦透镜、第二HeNe激光器和第三聚焦透镜构成的HeNe激光照明系统；由依次的同光轴的孔径光阑、散射光收集透镜组、视场光阑和光电探测器组成的损伤探测系统，所述的光电探测器的输出端与计算机的输入端相连，该计算机的输出端通过数据输出卡与所述的Nd:YAG激光器和移动平台的控制端相连。本发明适于各类光学元件体内损伤的自动快速探测和判断。
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公开(公告)号：CN103624402A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310566601.4
申请日：2013-11-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC classification number: B23K26/0853
Abstract: 一种提高光学元件小光斑扫描激光预处理效率的方法，该方法根据要求的预处理样品面积Amm×Bmm、相邻辐照光斑间的中心间距L及补偿距离L0，计算出样品每行运动的起点和终点的位置坐标；计算机控制样品按照上述位置坐标逐行匀速运动并实时获取样品运动轨迹的位置信息的同时，控制激光器在样品的匀速运动过程中以固定频率μ输出脉冲激光辐照样品对光学元件表面进行激光预处理。本发明简单易行，可确保相邻辐照光斑在样品表面正方形或等边三角形的排布轨迹，有效地提高了光学元件小光斑扫描激光预处理的工作效率。
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公开(公告)号：CN102841055A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210302001.2
申请日：2012-08-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/17
Abstract: 一种光学元件体内激光损伤在线探测方法和装置，应用Nd:YAG脉冲激光辐射光学元件引起元件体内损伤，采用HeNe连续激光照亮体内测试区域，设计大景深、高分辨率的成像装置将测试区域成像在探测器上，并从侧面监测体内区域从而削弱表面散射光的影响，对比Nd:YAG激光辐射前后探测区域图像的变化判断损伤是否产生。同时为了避免因样品移动带来的光程变化，采用自动化控制技术整体移动损伤探测装置补偿光程变化，消除离焦现象，提高损伤探测的准确性。该探测方法可在线观测体内损伤的产生和发展过程，适用于各类光学元件体内损伤的在线监测，且灵敏度和可靠性较高。
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公开(公告)号：CN109100809B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201811105285.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01V3/08
Abstract: 一种地磁背景场下弱磁信号噪声抑制与信号提取装置及方法，包括磁探测器，用于探测弱磁信号数据采集卡，用于采集磁探测器的信号并传输给频谱分析仪；以及频谱分析仪，用于采集到的信号进行频谱分析和相应的信号滤波处理。本发明通过提高被探测目标与探测传感器之间相对运动速度提升磁异信号频率，使得磁异信号处于较高频段，而地磁信号处于0Hz频率附近，故通过提升目标信号的频率，在频谱上分离出弱磁信号和地磁背景场，然后采用高通滤波器滤除地磁噪声，达到噪声抑制和信号提取的目的。
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