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公开(公告)号：CN118291926A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202310008113.5
申请日：2023-01-04
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明涉及薄膜材料表征领域，主要是针对低熔点材料薄膜的透射电子显微镜表征方法。本发明提供的具体方法为：在待测低熔点材料薄膜表面，沉积一层高熔点材料薄膜，形成保护层；该高熔点材料薄膜层的沉积温度应低于低熔点材料薄膜层的熔点；该高熔点材料薄膜层的物理厚度不小于10nm。本发明能够解决利用透射电子显微镜表征低熔点材料薄膜，低熔点材料薄膜层在离子减薄及电子束照射过程中由于高温引起熔化、蒸发、溅射等过程，而无法利用透射电子显微镜表征获得低熔点材料薄膜信息的问题。本发明具有操作简单、成本低和适用范围广等特点。
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公开(公告)号：CN116793801A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310710933.9
申请日：2023-06-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明涉及薄膜材料表征领域，主要涉及一种用于核磁共振检测的薄膜态材料脱膜方法。本发明提供的具体方法为：使用氯化钠晶体作为待测薄膜的基底，将待测薄膜材料沉积在该基底上，形成薄膜样品；将所述薄膜样品放入盛有纯净水的玻璃培养皿中，且确保纯净水能够浸润所述薄膜样品的镀膜面，使薄膜脱落的同时，少量氯化钠晶体溶入纯净水中；待所述玻璃培养皿中的水分蒸发后，取出脱膜后的样品，放入玛瑙研钵中研磨制成粉末。本发明能够解决利用核磁共振仪在表征薄膜态材料时难以取样的问题，以及薄膜态材料在取样过程中损耗大、测量结果不清晰的问题。本发明具有操作简单、成本低和适用范围广等特点。
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公开(公告)号：CN115683561A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211162719.6
申请日：2022-09-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种采用分光光度计对超薄光学薄膜光学常数进行表征的方法，所述方法包含以下几个步骤：计算光学透明的玻璃基板的折射率；沉积参考薄膜并计算参考薄膜的折射率；沉积待测超薄薄膜并用参考薄膜的折射率对待测超薄薄膜的折射率进行修正；计算待测超薄薄膜的消光系数。本发明能够利用分光光度计测试的透射光谱对超薄光学薄膜的折射率和消光系数进行表征，该方法对光学透明和弱吸收薄膜均适用。
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公开(公告)号：CN114875370A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210209576.3
申请日：2022-03-04
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于低表面能材料共溅射降低短波长多层膜界面宽度的方法，利用超高真空磁控溅射交替沉积纳米精度(AxM1‑x/B)^n多层膜材料，A和B分别代表高原子序数、低原子序数两种不同材料。采用M靶材和A靶材共溅射替代传统的单一高原子序数靶材A，靶材M为低表面能材料。低表面能材料M在镀膜过程充当催化剂，调整倾斜角度保证AxM1‑x膜层材料混合均匀，并有效抑制传统A和B材料交替镀膜时存在较大的界面混合情况。同时可以缓解由于高原子序数A材料容易结晶导致界面粗糙度大的问题。从而，降低了界面宽度，保证了多层膜的光谱性能和稳定性。该方法在制备极紫外、X射线和中子多层膜反射镜中具有重要的应用。
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公开(公告)号：CN112327390B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202011266263.9
申请日：2020-11-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于复合材料的平板型激光分束膜及其设计方法，基于给定的规整膜系结构，利用折射率大于1.8的单一材料A和光学带隙大于6.0eV的单一材料B分别与单一低折射率材料C设计激光分束膜，计算实现目标透射率所需的膜系结构中膜层周期数a、b，之后确定由材料A和材料B组成的复合材料M与单一低折射率材料C设计激光分束膜时，膜层周期数g的取值范围(a
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111575657B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202010327812.2
申请日：2020-04-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于离子束辅助纳米叠层解决电子束沉积薄膜龟裂的方法，首先通过计算获得纳米叠层周期数，利用离子束辅助沉积技术在基底表面沉积高、低折射率交替的纳米叠层，该离子束辅助纳米叠层薄膜呈现压应力，且其中每层膜的厚度仅为几个纳米；然后利用电子束沉积技术沉积功能膜层，以满足薄膜特定的功能要求。本发明能够解决电子束沉积薄膜在特定使用环境发生薄膜龟裂的问题，适用于任意折射率的光学玻璃基底，提升了应力调控的范围、膜系设计和制备的灵活度、镀膜设备的适用性，并降低了对薄膜激光损伤阈值的影响。
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公开(公告)号：CN112764149B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110021643.4
申请日：2021-01-08
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种深紫外平板偏振分光镜及其设计方法，该偏振分光镜由基板及基板两面的偏振膜和增透膜三部分构成，其中偏振膜的膜系结构包括膜层应力调节层和偏振分光膜层；初始结构为：Air/(aHbL)nM/Sub/HL/Air。本发明在非布儒斯特角度下实现深紫外波段高透过率和高消光比的同时，解决了氟化物多层薄膜张应力大导致的膜层龟裂难题，适用于ArF 0F级熔石英或紫外CaF2基板，可实现入射角为65±1°，波长为180nm‑220nm范围内的某一波长处p光透过率大于91％，消光比大于60:1，对于深紫外光学系统中的偏振控制以及系统轻量化设计有重要的意义。
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公开(公告)号：CN111999912A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010870803.8
申请日：2020-08-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种折射率可调谐薄膜结构及其制备方法。通过在单层膜表面刻蚀周期性微结构形成折射率可调谐薄膜结构，其结构由下而上依次是致密膜层和周期性微结构膜层，致密膜层的折射率等于薄膜材料自身折射率，周期性微结构膜层的折射率与微结构参数相关。表面微结构相当于一个折射系数连续变化的介质层，介质层的等效折射系数小于薄膜材料折射率，通过调控介质层的等效折射率即可调控薄膜的整体折射率。制备方法包括：(1)基底表面镀制薄膜；(2)清洁膜面，在膜面上旋涂光刻胶；(3)采用双光束干涉对样品进行曝光；(4)显影得到所需的掩膜图样；(5)采用反应离子束刻蚀技术将掩膜图样转移至薄膜上；(6)清洁刻蚀产生的残留物。本发明通过调控薄膜中的纳米微结构高度、占空比来控制空气在薄膜中的占比，从而做到薄膜材料的折射率可调控。本发明具备极宽的折射率调控范围(从空气层折射率到薄膜材料自身折射率)，且工艺简单，可重复强。
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公开(公告)号：CN111957675A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010595418.7
申请日：2020-06-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污染物去除效率，提高元件抗激光损伤性能及使用寿命。
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公开(公告)号：CN109991179B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201910072640.6
申请日：2019-01-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于光学薄膜光谱测量的使用环境模拟装置及测量方法。该装置将光学薄膜样品置于装置腔室之中，并依据薄膜使用环境要求对腔室抽真空或充入不同种类的气体，同时监控装置内的温湿度，以实现对光学薄膜使用环境的模拟。将该装置与分光光度计配合使用，可以测量光学薄膜在所需使用环境状态下的光谱性能。本装置可利用商用分光光度计准确测量光学薄膜在不同使用环境、不同使用角度下的光谱，通用性强且使用方便。
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