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公开(公告)号：CN111286700B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN202010190180.X
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法，同时利用电子束双源共蒸技术和离子束辅助沉积技术，在基底的非镀膜或者在镀膜后面形较凹的待镀膜面沉积离子束辅助混合物单层膜，形成折射率与基底相同的光学虚设层来调谐镀膜元件面形。本发明能够对沉积在任意折射率基底上的镀膜元件进行面形补偿，减少镀膜引起的波面的质量下降，且不影响镀膜元件的光谱性能，该方法对单面镀膜和双面镀膜元件均适用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111378934B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202010239590.9
申请日：2020-03-30
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
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公开(公告)号：CN111286700A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN202010190180.X
申请日：2020-03-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于混合物单层膜的光学镀膜元件面形补偿方法，同时利用电子束双源共蒸技术和离子束辅助沉积技术，在基底的非镀膜或者在镀膜后面形较凹的待镀膜面沉积离子束辅助混合物单层膜，形成折射率与基底相同的光学虚设层来调谐镀膜元件面形。本发明能够对沉积在任意折射率基底上的镀膜元件进行面形补偿，减少镀膜引起的波面的质量下降，且不影响镀膜元件的光谱性能，该方法对单面镀膜和双面镀膜元件均适用。
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公开(公告)号：CN119717082A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202311278389.1
申请日：2023-09-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B1/115
Abstract: 一种基于纳米叠层薄膜材料的减反射薄膜及其设计方法，所述方法包含以下步骤：获得材料A和材料B的折射率与膜层厚度及波长的函数；基于纳米叠层薄膜材料中两种材料子层间的界面层模型修正减反射薄膜各层折射率和厚度；采用修正后的折射率和厚度进行薄膜的结构设计，并开展薄膜制备和测试。本发明基于纳米叠层薄膜材料中两种材料子层间的渐变折射率界面层模型进行膜系设计，有效降低实验光谱与理论光谱之间的误差，提升减反射薄膜的光谱性能；该方法适用于其它光谱性能对材料折射率和厚度敏感的薄膜的设计。
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公开(公告)号：CN110079788A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910366232.1
申请日：2019-05-05
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/513
Abstract: 一种基于等离子体增强原子层沉积(PEALD)的紫外减反射薄膜的镀制方法，采用类似于熔石英体材料化学反应的原理沉积SiO2薄膜材料。本发明能够避免溶胶-凝胶技术(sol-gel)薄膜稳定性差、电子束沉积(E-beam deposition)薄膜纳米吸收性缺陷密度高的问题，获得同时具备高稳定性和高激光损伤阈值的高性能紫外减反射薄膜。
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公开(公告)号：CN111378934A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN202010239590.9
申请日：2020-03-30
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 采用常规电子束蒸镀和等离子体辅助沉积相结合的技术，提出一种提升电子束蒸镀薄膜元件光谱和应力时效稳定性的镀膜技术。利用常规电子束蒸镀技术制备功能性薄膜，以获得较高的抗激光损伤阈值；利用等离子体辅助沉积技术制备致密的外层包裹层，将整个常规电子束蒸镀薄膜包裹其中，以阻止水分子进出膜系。本发明能够在不增加膜系设计难度且维持电子束薄膜较高损伤阈值的同时，降低整个膜系的应力水平并提升电子束蒸镀薄膜元件的光谱和应力时效稳定性。
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