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公开(公告)号：CN115060466B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202210729383.0
申请日：2022-06-24
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种真空环境中短脉冲高斯光束有效光斑面积的测量方法，包括脉冲激光器、快门、能量调节器、聚焦透镜、取样镜、金属靶、样品台、能量计、计算机、真空室。该方法基于金属靶的损伤轮廓与高斯光束能量分布特性之间的关联，通过测量金属靶(106)上损伤轮廓对应面积随辐照激光能量的变化，拟合得出短脉冲激光高斯光束在真空环境中焦点位置的有效光斑面积。该方法简单可行，可以准确测量真空环境中短脉冲激光在不同入射角下的有效光斑面积。
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公开(公告)号：CN119916517A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510050443.X
申请日：2025-01-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明提供了一种高信噪比反射式体布拉格光栅滤光片的制备方法。通过光强调制板实现折射率调制度在体光栅滤光片厚度方向上呈现中心高、两侧逐渐降低的任意函数分布，从而优化折射率调制度分布，显著提升信噪比，有效抑制信道间串扰，在3nm的光谱范围内，具有超过60dB的信噪比，在光通信、光谱滤波及光学显示等领域展现出重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN119897600A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202510071242.8
申请日：2025-01-16
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B23K26/352 , B23K26/402
Abstract: 一种熔石英高精度表面激光双面抛光方法，属于光学元件激光加工技术领域。为了解决熔石英元件在现有激光抛光工艺下产生面形畸变的问题，该方法包括：首先将熔石英元件进行超声清洗并使用压缩空气吹干；通过有限元仿真模拟激光抛光后熔石英形貌分布，优化扫描速度；然后按照优化扫描速度后的工艺参数及加工路径进行目标面的抛光；通过有限元仿真获取激光抛光后熔石英内部温度分布，对不同厚度元件的抛光功率进行优化；再利用优化后的激光功率对目标面的背面进行抛光；激光抛光后再次进行超声清洗及烘干。本发明工艺简单且成本低廉，可显著提升表面面形质量并降低粗糙度，规避了参数交叉实验耗费的时间成本，高效地实现了激光抛光参数的优化。
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公开(公告)号：CN117773659B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202311815330.1
申请日：2023-12-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种工业机器人超精密抛光震颤式波纹误差抑制方法，包括：首先采集测量待使用工具的去除函数，再根据采集得到的去除函数频谱特征确定加工路径步距，然后根据预定步距路径，结合激光干涉仪测量得到的待加工元件的面形误差计算驻留时间分布并生成加工程序文件；随后根据加工文件及路径步距确定震颤周期，再根据设置震颤周期对加工程序进行插值并修改z值实现震颤式程序生成；最后使用具有周期震颤的程序对待加工元件进行加工。本发明无需对传统机器人小工具加工装备新增力控等附加模块，仅通过对驻留时间分布赋予周期性振动震颤，即可抑制机器人周期性波纹误差的产生，且不影响元件低频误差和高频误差，这对工业机器人抛光设备的精度提升及成本降低有着重要意义。
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公开(公告)号：CN118732111A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410998742.1
申请日：2024-07-24
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种基于球面波干涉体全息光栅结构的角度放大器，所述的球面波干涉体全息光栅的光栅矢量在通光面上不同的位置有着不同的大小和方向，并且满足特定的表达式。本发明采用球面波干涉体全息光栅作为光束角度放大器件，结构简单，无需堆叠或复用即可实现偏转角度的连续放大，且具有低损耗、偏振无关、无源工作的特性。本发明可以与多种光束偏转器配合使用以提升角度偏转的能力，且对多种全息记录材料都有良好的兼容性，是理想的非机械式角度放大器件，在激光光束偏转技术领域具有良好的实用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116952821B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202310927569.1
申请日：2023-07-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种太空紫外环境下航天材料与组件性能评估装置与方法，本发明可以准确评价太空紫外辐射对航天器敏感材料、元件或组件的抗激光损伤能力的影响及其抗激光损伤机制。对空间激光作用下的航天器外露材料及元件的研制、选用和评价提供了支持。
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公开(公告)号：CN117840864A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311690833.0
申请日：2023-12-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B49/02
Abstract: 本发明属于光学加工领域，具体为光学表面误差分布匀化延拓方法，首先将待延拓数据二值化，通过十字星形膨胀运算后的结果与原始二值化数据通过布尔异或运算获得待延拓像素，再根据待延拓像素数量随机排列序列进行随机获取当次待延拓像素点，并将附近十字星形范围内有值像素进行平均后赋予该像素点；重复迭代以上过程即可快速获得任意形状面形分布下的高效匀化延拓。本发明中无需识别计算各待延拓像素与面形数据点间距离及比对操作，基于布尔异或运算可最大化筛选速度，且随机排序操作可最大化匀化面形边缘的杂散点对延拓结果影响，使得延拓效果及效率提升5‑10倍，且不限于元件形状，为光学加工中面形处理需求提供了更优延拓手段。
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公开(公告)号：CN117230416B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202310258859.1
申请日：2023-07-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种磁控溅射元件镀膜膜厚分布修正的挡板设计方法，通过建立磁控溅射系统元件镀膜膜厚分布模型，设计以高斯曲线为基础的复合高斯型轮廓的修正挡板。本发明针对磁控溅射系统中面源靶材的复杂产额分布，可借助计算机进行自动优化并根据元件所需的不同目标膜厚分布进行针对性修正挡板的形状轮廓和安装位置，且对平面、球面和非球面光学元件均适用。
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公开(公告)号：CN114859453B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202210611634.5
申请日：2022-05-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于连续界面全介质薄膜的随机偏振合束光栅，包括基底，在该基底上依次镀制的高反射膜层、剩余层和光栅刻蚀层，所述高反射膜层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替叠加构成，且所述高折射率薄膜层与低折射率薄膜层之间设有折射率连续界面层，该折射率连续界面层的折射率由高折射率薄膜层的折射率向低折射率薄膜层的折射率连续过渡而成。本发明随机偏振合束光栅利用连续界面激发泄露模共振，可以实现随机偏振入射光的‑1级衍射效率在40‑100纳米带宽内大于99％，最高可达99.95％，在高能光谱合束激光、超强超短激光脉冲压缩领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN117289733A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311129835.2
申请日：2023-09-04
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种调控光学元件测量样品腔室内相对湿度的装置和方法。本装置通过调控干燥气体和高湿气体的流量比例，形成特定所需湿度的混合气体通入光学元件测量样品腔室中，以实现对光学元件测量样品腔室内相对湿度的有效调控。本发明可以持续稳定的调控光学元件测量样品腔室的相对湿度，具备操作简单、稳定性高且通用性强的优点。
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