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公开(公告)号：CN106292191A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201510268951.1
申请日：2015-05-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明通过将汞灯两极浸入在冷凝液中，同时隔热罩内填充冷凝液，冷凝液吸收热量使得蒸发为气体，并被分别排至第一冷凝器和第二冷凝器，被冷凝为液体传输回汞灯继续用于散热，本发明是用冷凝液吸收汞灯所散发的热量转化为气体，方法简单有效，能够使冷凝液循环利用，散热充分。此外将与阳极蒸气管和阳极回液管道连接的冷凝器或者换热器放置于设备机柜内的第一腔室内，排入第一腔室内的空气吸收冷凝器或者换热器中气体冷凝为液体时所散发的热量从而温度升高至正常工作温度，被排至工件台、激光干涉仪周围，使得工件台与激光干涉仪的工作环境温度恒定，节约了成本。
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公开(公告)号：CN104635429B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201310563528.5
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
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公开(公告)号：CN105739554A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410740402.5
申请日：2014-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D16/04
Abstract: 本发明提供了一种气压控制装置及气压控制系统，通过在气压控制装置中的供气回路中增设若干组压力调控单元，使得气压控制装置可以对经过初级调压阀及次级调压阀调控后的压力在不符合被调压对象的压力需求时，可以通过调节若干组压力调控单元中手动阀连通毛细管或者单元管道对气体压力做进一步的调节，从而使被调压对象的进气端的气体压力值符合被调压对象的需求，从而提高了气压控制装置的压力控制精准度及被调压对象的稳定性。
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公开(公告)号：CN105739244A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410742951.6
申请日：2014-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法，该光刻机投影物镜包括镜筒、若干镜片和与镜片相对应的镜片支架，所述镜筒的顶部设有一出气口和底部设有一进气口，镜片支架的一侧设有若干通孔，且各通孔的气体流量和压力损失值相同，所述相邻镜片支架的通孔呈对角分布。本发明根据每个镜片的照明视场情况，在相应的镜片支架上按照特定方法设置孔径不同的通孔，并使相邻镜片支架的通孔呈对角分布，不仅保证了投影物镜内气压的稳定性，而且实现了投影物镜内部气体充分流通，提高了散热性能和光路区域的温度稳定性，同时光路区域充分填充惰性气体，有效降低了投影物镜对温度和压力的敏感度，提高了光刻质量。
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公开(公告)号：CN102841508B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201110172218.1
申请日：2011-06-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种分流式气浴风道，包括本体以及至少一个分流单元。本体具有至少一个支路出风口。分流单元与支路出风口一一对应设置，本体的高度随着分流单元依次减小。分流单元包括调节件与分流片，调节件可移动地设置于本体且连接于分流片，分流片平行于本体。此分流式气浴风道在满足各个支路流量可调的同时，解决了支路流量调节相互干扰的问题，减少了气浴系统的压阻，节约了能耗。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103294078A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041402.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D23/19
Abstract: 本发明提出一种模块化温度控制装置，包括依次连接的具有电泵控制单元的介质驱动电泵、温度控制单元和多个介质冷却模块，所述介质冷却模块包括：相互连接的介质冷却基板模块上板和介质冷却基板模块下板；快速连接接头，设置于所述介质冷却基板模块下板的侧面，其中，所述介质冷却基板模块下板具有四方双螺旋型内腔，其四周具有四个流体出入口用于连接所述快速连接接头。本发明提出的模块化温度控制装置，基于模块化的设计思想，将测量系统中的热交换界面设计成模块化介质冷却基板，便于快捷安装和配置的，由基本模块组装成符合工况所需的结构形式，适合光刻机中多系统冷却的工程需求。
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公开(公告)号：CN103293271B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210041162.0
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种污染测试装置及方法。污染测试装置包括进风管、静压腔、过滤器、工作腔体、固定孔板、回风孔板、回风腔和回风管，其中进风管一端连接外部气源，另一端连接静压腔，过滤器设置在静压腔和工作腔体之间，工作腔体的背面设置有开孔，固定孔板设置在工作腔体的底部，回风孔板设置在工作腔体和回风腔之间，回风管一端连接回风腔，另一端连接进风管。本发明的污染测试装置及方法可以实现多种污染测试，可同时测试材料和运动部件释放颗粒、分子污染物的特性，功能多样，结构简单。
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公开(公告)号：CN104698767A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201310671750.7
申请日：2013-12-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成与最后一片物镜的形状相匹配的腔体，挡块上设有：水平进液口，与最后一片物镜的侧边的位置相对应；水平出液口，与水平进液口对称设置；垂直进液口，通至挡块的底部；垂直抽取口，通至挡块的底部，且垂直抽取口与腔体的中心的距离大于垂直进液口与腔体的中心的距离；辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖衬底台，包括：气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；第一气腔与第二气腔间通过第一间隙导通。本发明能够有效防止浸液泄漏。
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公开(公告)号：CN104238277A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201310245140.0
申请日：2013-06-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机及其流场维持方法，其结构包括主框架、从上至下依次固定于所述主框架上的照明系统、投影物镜以及硅片台，所述硅片台上放置有涂有感光光刻胶的硅片，所述投影物镜与所述硅片之间填充有浸液，所述投影物镜与所述硅片之间还设有浸没限制机构，所述浸没限制机构上设有浸液供给开口、抽取开口以及气密封气体进口，所述浸液供给开口为浸液提供补给；所述抽取开口连接至分立的负压源，为浸液提供抽排负压；所述气密封气体进口包括第一气密封气体进口和第二气密封气体进口，所述第一气密封气体进口和第二气密封气体进口分别连接至分立的正压源，为浸液提供供气正压。本发明通过两个气密封气体进口的配合，以减少曝光缺陷。
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公开(公告)号：CN102348363A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201010241669.1
申请日：2010-07-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明揭示了一种电气柜，其包括：壳体；进气口及出气口，设置于所述壳体上；散热导流装置，设置于所述出气口处。本发明提供的电气柜的散热导流装置集中在电气柜抽排出口处，改善电气柜内部流场，气流更充分的流过发热部件，提高换热效率，更好的保护板卡等电子元件，同时使电气柜外表面的温度更均匀可控。提高了抽排系统的效率，节约能耗，能有效保证设备系统内的温度，保证光刻机等设备的正常运行。
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