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公开(公告)号：CN103983532B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201310049859.7
申请日：2013-02-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N7/00
Abstract: 本发明提供了一种测试材料释气率的装置，包括：真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一个带有小孔的隔板隔开，所述第二真空室用于放置测试材料，所述第二真空室内设有一辐射灯；与所述真空室连接的泵组；与所述真空室连接测量系统；充入所述第二真空室中的气源。本发明通过测量系统测量所述第一真空室和第二真空室的气体压力，不仅可以得出测试材料释放的所有气体组分的总释气率，而且可以得出测试材料释放的某一气体组分的释气率。
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公开(公告)号：CN102540750A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010618422.7
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备环境控制系统，包括被控单元，为被控对象；冷却水输送单元，提供冷却水源，并将冷却水输出；温度控制单元，将冷却水输送单元输出的冷却水源进行温度调节后，去控制被控单元的温度；空气输送单元，用于输送空气给被控单元。本发明光刻设备环境控制系统，能够通过制冷和加热方式精确控制被控单元的温度。
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公开(公告)号：CN102540750B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201010618422.7
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备环境控制系统，包括被控单元，为被控对象；冷却水输送单元，提供冷却水源，并将冷却水输出；温度控制单元，将冷却水输送单元输出的冷却水源进行温度调节后，去控制被控单元的温度；空气输送单元，用于输送空气给被控单元。本发明光刻设备环境控制系统，能够通过制冷和加热方式精确控制被控单元的温度。
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公开(公告)号：CN102247964A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201010181409.X
申请日：2010-05-21
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 俞芸
IPC: B08B11/00
Abstract: 本发明提供掩模版的洁净装置和掩模版的洁净方法。通过压缩气体源和真空泵，对所述洁净装置进行加压和减压，从而实现掩模版的清洗；并通过安全阀来保护所述洁净装置和所述掩模版。所述洁净方法，通过在短时间内对洁净装置加压和减压，在掩模版表面形成紊流，从而有效去除掩模版上的污染物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104749893A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310737636.X
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置，包括腔体结构、气体供给装置、泵组以及监测装置，其中，气体供给装置可存放、净化处理气体，并调节控制气体质量流量；泵组可对腔体结构抽真空，维持腔体结构真空环境；监测装置用于监测腔体结构真空度、腔体结构内组分的分压，其特征在于：所述腔体结构包括主腔室、工件台腔室以及连接通道，所述各腔室之间相互隔离，连接通道两端分别采用可拆密封连接于主腔室和工件台腔室。本发明的极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置可运用于EUV辐射光刻设备中，有效控制光源腔、主腔室及工件台腔室的环境。采用气流隔离的方式，有效防止了不同设备区的交叉污染，起到保护设备的作用；同时，这种气流隔离的密封方式，可有效提高光束的透射率。
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公开(公告)号：CN103309369A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201210062634.0
申请日：2012-03-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D16/04
Abstract: 一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，包括：光学系统；气体控制回路，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计。一种光学系统内部腔室精密气体控制方法，包括气体控制回路控制参数解耦方法，具体为：给出控制参数集；对控制参数集进行敏感性分析；对控制参数集进行相对独立性分析；对控制参数进行初次分段；选择控制装置；判断控制装置可行性；若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行二次分段；选择控制装置；判断每段控制装置可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，再分段，直至可行。本发明可对气体回路进行多参数解耦；实现高倍降压；抑制二次污染；压力稳定性好；参数在线可调，以及结构简单，可靠性高，维护方便。
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公开(公告)号：CN103293271A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041162.0
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种污染测试装置及方法。污染测试装置包括进风管、静压腔、过滤器、工作腔体、固定孔板、回风孔板、回风腔和回风管，其中进风管一端连接外部气源，另一端连接静压腔，过滤器设置在静压腔和工作腔体之间，工作腔体的背面设置有开孔，固定孔板设置在工作腔体的底部，回风孔板设置在工作腔体和回风腔之间，回风管一端连接回风腔，另一端连接进风管。本发明的污染测试装置及方法可以实现多种污染测试，可同时测试材料和运动部件释放颗粒、分子污染物的特性，功能多样，结构简单。
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公开(公告)号：CN103309369B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210062634.0
申请日：2012-03-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D16/04
Abstract: 一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，包括：光学系统；气体控制回路，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计。一种光学系统内部腔室精密气体控制方法，包括气体控制回路控制参数解耦方法，具体为：给出控制参数集；对控制参数集进行敏感性分析；对控制参数集进行相对独立性分析；对控制参数进行初次分段；选择控制装置；判断控制装置可行性；若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行二次分段；选择控制装置；判断每段控制装置可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，再分段，直至可行。本发明可对气体回路进行多参数解耦；实现高倍降压；抑制二次污染；压力稳定性好；参数在线可调，以及结构简单，可靠性高，维护方便。
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公开(公告)号：CN103293271B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210041162.0
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种污染测试装置及方法。污染测试装置包括进风管、静压腔、过滤器、工作腔体、固定孔板、回风孔板、回风腔和回风管，其中进风管一端连接外部气源，另一端连接静压腔，过滤器设置在静压腔和工作腔体之间，工作腔体的背面设置有开孔，固定孔板设置在工作腔体的底部，回风孔板设置在工作腔体和回风腔之间，回风管一端连接回风腔，另一端连接进风管。本发明的污染测试装置及方法可以实现多种污染测试，可同时测试材料和运动部件释放颗粒、分子污染物的特性，功能多样，结构简单。
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