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公开(公告)号：CN102866586B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110187179.2
申请日：2011-07-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。本发明还提供了一种光刻机设备系统的测量方法。本发明所提供的光刻机设备系统在结构上省略了支架，通过虚拟的光束行程代替支架的物理高度，实现光束从主基板上表面到达承版台，降低了结构复杂度，改善了现有的内部世界结构。
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公开(公告)号：CN103324032A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201210078765.8
申请日：2012-03-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种多面体主基板，用于安装支撑装置、测量装置和镜筒装置，所述主基板上开设有至少一个工位，所述主基板的外表面是由所述支撑装置、测量装置、镜筒装置的安装区域的多边形包络面所限定，并由若干其他平面按凸包规则连接构成的凸多面体。本发明基于多面体结构设计，获得的主基板整体结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造的加工特性，其组合构成的主基板相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。
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公开(公告)号：CN103246168A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201210024607.4
申请日：2012-02-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻机硅片台的主动驱动线缆台，包括Y向滑台、Y向导轨和交叉伸缩连杆机构，Y向滑台通过气浮轴承设置在Y向导轨上，Y向滑台由滑台电机驱动在Y向与硅片台保持同步运动，线缆设施经由所述Y向滑台沿交叉伸缩连杆机构输送到硅片台上，交叉伸缩连杆机构包括交叉伸缩连杆和驱动器，交叉伸缩连杆一端连接所述Y向滑台，另一端通过线缆设施连接于硅片台，驱动器用于驱动交叉伸缩连杆沿X向运动，从而带动线缆设施沿X向运动。本发明的光刻机硅片台的主动驱动线缆台，实现对线缆台的主动控制和线缆台对硅片台在X-Y平面的跟随运动。
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公开(公告)号：CN101464554A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810204974.6
申请日：2008-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻机设备，尤其是涉及光刻设备中的可动镜片微调整机构。公开了一种可动镜片微调整机构，包括一驱动部件和一执行部件，所述驱动部件带动执行部件调整镜片座，所述执行部件是用于将驱动部件的输出力进行放大的两级杠杆机构。两级杠杆机构结构简单、制造及控制容易实现、成本低、经济性好，其可对驱动部件的输出位移可进行有效放大，配合微亚米级运动精度的步进电机，实对镜片高精度大行程的调整。另外，由于两级杠杆机构采用交叉的安装形式，因此，可以使本发明在满足对镜片高精度大行程的调整情况下有效减少其整体尺寸。
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公开(公告)号：CN103246168B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201210024607.4
申请日：2012-02-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻机硅片台的主动驱动线缆台，包括Y向滑台、Y向导轨和交叉伸缩连杆机构，Y向滑台通过气浮轴承设置在Y向导轨上，Y向滑台由滑台电机驱动在Y向与硅片台保持同步运动，线缆设施经由所述Y向滑台沿交叉伸缩连杆机构输送到硅片台上，交叉伸缩连杆机构包括交叉伸缩连杆和驱动器，交叉伸缩连杆一端连接所述Y向滑台，另一端通过线缆设施连接于硅片台，驱动器用于驱动交叉伸缩连杆沿X向运动，从而带动线缆设施沿X向运动。本发明的光刻机硅片台的主动驱动线缆台，实现对线缆台的主动控制和线缆台对硅片台在X-Y平面的跟随运动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103286187B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210041163.5
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种板材落料和排版的方法及装置，通过获取待排版板材的输入数据，接着进行程序初始化操作，然后放置待排版的板材并对待排版板材进行几何干涉检查，最后依据计算结果进行评价，进而最终输出最优的板材落料和排版方案，本方案可有效降低落料消耗和减少材料成本，对其合理排版提高材料的利用率，可适应不同的设计类型的主基板及其支架，有效符合并满足实际加工制造的情况。
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公开(公告)号：CN103294078B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210041402.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D23/19
Abstract: 本发明提出一种模块化温度控制装置，包括依次连接的具有电泵控制单元的介质驱动电泵、温度控制单元和多个介质冷却模块，所述介质冷却模块包括：相互连接的介质冷却基板模块上板和介质冷却基板模块下板；快速连接接头，设置于所述介质冷却基板模块下板的侧面，其中，所述介质冷却基板模块下板具有四方双螺旋型内腔，其四周具有四个流体出入口用于连接所述快速连接接头。本发明提出的模块化温度控制装置，基于模块化的设计思想，将测量系统中的热交换界面设计成模块化介质冷却基板，便于快捷安装和配置的，由基本模块组装成符合工况所需的结构形式，适合光刻机中多系统冷却的工程需求。
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公开(公告)号：CN103286187A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041163.5
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种板材落料和排版的方法及装置，通过获取待排版板材的输入数据，接着进行程序初始化操作，然后放置待排版的板材并对待排版板材进行几何干涉检查，最后依据计算结果进行评价，进而最终输出最优的板材落料和排版方案，本方案可有效降低落料消耗和减少材料成本，对其合理排版提高材料的利用率，可适应不同的设计类型的主基板及其支架，有效符合并满足实际加工制造的情况。
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公开(公告)号：CN102866586A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201110187179.2
申请日：2011-07-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光刻机设备系统，包括：主基板、投影物镜、上顶板以及承版台，所述投影物镜嵌入所述主基板，所述上顶板设置在所述投影物镜上，所述上顶板设置有通光孔，所述承版台设置在所述上顶板的上方，所述光刻机设备系统中还包括激光干涉仪单元、导光单元以及反射单元，所述激光干涉仪单元设置在所述主基板上，所述激光干涉仪单元发出光束穿过所述通光孔经过所述导光单元到达所述反射单元。本发明还提供了一种光刻机设备系统的测量方法。本发明所提供的光刻机设备系统在结构上省略了支架，通过虚拟的光束行程代替支架的物理高度，实现光束从主基板上表面到达承版台，降低了结构复杂度，改善了现有的内部世界结构。
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公开(公告)号：CN103294078A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210041402.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D23/19
Abstract: 本发明提出一种模块化温度控制装置，包括依次连接的具有电泵控制单元的介质驱动电泵、温度控制单元和多个介质冷却模块，所述介质冷却模块包括：相互连接的介质冷却基板模块上板和介质冷却基板模块下板；快速连接接头，设置于所述介质冷却基板模块下板的侧面，其中，所述介质冷却基板模块下板具有四方双螺旋型内腔，其四周具有四个流体出入口用于连接所述快速连接接头。本发明提出的模块化温度控制装置，基于模块化的设计思想，将测量系统中的热交换界面设计成模块化介质冷却基板，便于快捷安装和配置的，由基本模块组装成符合工况所需的结构形式，适合光刻机中多系统冷却的工程需求。
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