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公开(公告)号：CN106814546A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201510856628.6
申请日：2015-11-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/2002 , G01M11/02 , G03F9/00
Abstract: 本发明公开了一种焦面检测装置、焦面标定方法与硅片曝光方法，该装置包括光源单元，用于对掩模板进行照射产生成像光束；成像单元，用于将掩模板上的调焦图形成像在调焦图像传感器上；调焦驱动单元，用于垂向调节投影物镜或者运动台单元以完成调焦；运动台单元，其上设置有带有反射标记的反射装置，所述运动台单元用于将所述反射装置移动至投影物镜的正下方；控制单元，用于对调焦图像传感器采集的图形数据进行分析和处理，并反馈控制调焦驱动单元。本发明能够快速且准确的对最佳焦面偏移量进行标定和补偿。
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公开(公告)号：CN106315210A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201510406186.5
申请日：2015-07-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: B65G47/90
Abstract: 本发明提供了一种片盒存取设备及方法，所述片盒存取设备包括：第一支撑架，用于放置片盒；片盒进出口，设置存放或取出片盒的工作工位；缓存区，具有多个动态运行的工位，用于动态运输从所述片盒进出口处放置在缓存区中的片盒或者将缓存区的工位处的片盒动态运输至片盒进出口处；机械手，在缓存区及第一支撑架之间搬运片盒。本发明提供了一种片盒存取设备及方法，通过在缓存区中设置动态运作的工位传输片盒，大大节省了用户的等待时间。
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公开(公告)号：CN104635427A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201310563365.0
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的掩模固位系统，包括：掩模台和被承载的掩模；其特征在于，还包括掩模真空整形装置，用于使所述掩模保持面形、补偿挠曲。本发明同时公开一种用于光刻设备的掩模整形的方法。与现有技术相比较，本发明解决了步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。通过在掩模台和密封舱之间设置卡合装置，避免发生位移。
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公开(公告)号：CN102540783B
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201010619281.0
申请日：2010-12-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置，包括照明光源、设置有物面标记的掩模台、物镜成像系统、工件台以及配置于所述工件台的干涉仪，其特征在于还包括设置在所述工件台上的空间像传感器，通过工件台在不同旋转、倾斜下，所述空间像传感器能够探测所述物面标记空间像时所述干涉仪的测量结果与所述工件台的设定位置或所述物面标记空间像的理论位置进行比较，拟合得出工件台干涉仪阿贝臂与余弦角。本发明还提出一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准方法。本发明的光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置及方法，利用空间像传感器进行标记测量，从而不需进行曝光、显影，对干涉仪阿贝臂和余弦角进行标定。同时还能够解决垂向干涉仪的标定问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103983532A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201310049859.7
申请日：2013-02-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N7/00
Abstract: 本发明提供了一种测试材料释气率的装置，包括：真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一个带有小孔的隔板隔开，所述第二真空室用于放置测试材料，所述第二真空室内设有一辐射灯；与所述真空室连接的泵组；与所述真空室连接测量系统；充入所述第二真空室中的气源。本发明通过测量系统测量所述第一真空室和第二真空室的气体压力，不仅可以得出测试材料释放的所有气体组分的总释气率，而且可以得出测试材料释放的某一气体组分的释气率。
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公开(公告)号：CN102087475A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200910200089.5
申请日：2009-12-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 许琦欣
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种扫描光刻机掩模台位置测量装置及测量方法，采用了若干激光干涉仪取代电容传感器，使水平向和垂直方向的传感器一致，便于信号同步控制，同时也使得垂直方向测量的量程增加。此外，通过在物镜顶部安装45度反射镜，使干涉测量光可以从任意水平方向引入，从而能够在大的运动范围内进行垂直方向的测量，并在测量倾斜量过程中引入对各向测量干涉仪的权重分配，使得对掩模台位置测量更加精确。
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公开(公告)号：CN101393009B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200810202282.8
申请日：2008-11-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种大行程激光干涉仪垂向测量装置和方法，包括，固定放置于载物台的第一反射镜和第二反射镜；光路切换装置，放置于干涉仪和载物台之间；控制器，和干涉仪以及光路切换装置相连；干涉仪出射的测量光通过输入通道进入光路切换装置，其出射端设置有一排出射孔，由控制器控制所述第一、第二测量光中至少一束从特定的出射孔垂直入射到第二反射镜，并沿原路被反射回，干涉仪出射的第三测量光垂直入射到第一反射镜上并沿原路被反射回，本发明能以高分辨率测量载物台的垂向距离，有效的扩大了可测行程范围。
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公开(公告)号：CN104635429B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201310563528.5
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
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公开(公告)号：CN103868456B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201210525294.0
申请日：2012-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 这种载物台平移测量装置，用于测量所述载物台沿第一轴的位移，包括干涉仪、第一轴测量单元、第二轴测量单元以及处理单元，第一轴测量单元包括棱镜和测量镜，棱镜具有入射面和出射面，测量镜安装于载物台的侧面，测量镜具有折射面和反射面，入射面和出射面的夹角与折射面和反射面之间的夹角相等且均大于0度，棱镜与测量镜的折射率相同，第二轴测量单元包括X轴反射镜，干涉仪中发出的第一测量光束，经过棱镜后以一定角度入射到测量镜的折射面，经过折射后正入射到测量镜的反射面后能够被原路返回；干涉仪发出的第二测量光束，经X轴反射镜反射后能够原路返回，处理单元获得载物台沿第一轴的位移。本发明具有结构简单，测量精度高的优点。
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