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公开(公告)号：CN102540750B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201010618422.7
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备环境控制系统，包括被控单元，为被控对象；冷却水输送单元，提供冷却水源，并将冷却水输出；温度控制单元，将冷却水输送单元输出的冷却水源进行温度调节后，去控制被控单元的温度；空气输送单元，用于输送空气给被控单元。本发明光刻设备环境控制系统，能够通过制冷和加热方式精确控制被控单元的温度。
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公开(公告)号：CN101502812B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200910045873.3
申请日：2009-01-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种复合型水箱装置，属于温控水箱装置领域。所述水箱通过隔热层将水箱隔离设置为上部的补水箱和下部的加热水箱；通过隔热层上开孔，形成一个或一个以上的用于直接向加热水箱补充溶液的补水口；溶液经由进水口、经加热水箱的加热器加热后，从出水口输出。该水箱具有结构紧凑、体积小、控温精度高的特点。
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公开(公告)号：CN101502812A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200910045873.3
申请日：2009-01-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种复合型水箱装置，属于温控水箱装置领域。所述水箱通过隔热层将水箱隔离设置为上部的补水箱和下部的加热水箱；通过隔热层上开孔，形成一个或一个以上的用于直接向加热水箱补充溶液的补水口；溶液经由进水口、经加热水箱的加热器加热后，从出水口输出。该水箱具有结构紧凑、体积小、控温精度高的特点。
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公开(公告)号：CN103309369B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210062634.0
申请日：2012-03-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D16/04
Abstract: 一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，包括：光学系统；气体控制回路，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计。一种光学系统内部腔室精密气体控制方法，包括气体控制回路控制参数解耦方法，具体为：给出控制参数集；对控制参数集进行敏感性分析；对控制参数集进行相对独立性分析；对控制参数进行初次分段；选择控制装置；判断控制装置可行性；若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行二次分段；选择控制装置；判断每段控制装置可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，再分段，直至可行。本发明可对气体回路进行多参数解耦；实现高倍降压；抑制二次污染；压力稳定性好；参数在线可调，以及结构简单，可靠性高，维护方便。
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公开(公告)号：CN104880912A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201410070265.9
申请日：2014-02-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻机的浸液维持、更新装置，其特征在于：包括安装面板、第一液体进口、第二液体进口、第一液体抽取口、第二液体抽取口和第三液体抽取口，安装面板中设置气体/液体通道，与第一液体进口、第一液体抽取口、第二液体进口、第二液体抽取口、第三液体抽取口相连接；第二液体抽取口位于第二液体进口外侧，第二液体抽取口被嵌于第三液体抽取口内侧，所述第三液体抽取口为多孔板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102564299A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201010618443.9
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B9/02
Abstract: 本发明提供一种提高目标空间温度稳定性的实现装置及方法，所述实现装置包括：内壳，其内部为所述目标空间，所述目标空间中填充有第一介质；外壳，包围在所述内壳外部，与所述内壳之间形成环形空间，所述环形空间中填充有第二介质；静压腔体，设置于所述外壳的一端；过滤器，设置于所述外壳与所述静压腔体之间，所述静压腔体、过滤器及外壳三者连通。本发明所述提高目标空间温度稳定性的实现装置及方法，应用于干涉仪等需要高温度稳定性的装置，可以实现长时间的高温度稳定性。
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公开(公告)号：CN104880912B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201410070265.9
申请日：2014-02-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻机的浸液维持、更新装置，其特征在于：包括安装面板、第一液体进口、第二液体进口、第一液体抽取口、第二液体抽取口和第三液体抽取口，安装面板中设置气体/液体通道，与第一液体进口、第一液体抽取口、第二液体进口、第二液体抽取口、第三液体抽取口相连接；第二液体抽取口位于第二液体进口外侧，第二液体抽取口被嵌于第三液体抽取口内侧，所述第三液体抽取口为多孔板。
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公开(公告)号：CN104570613A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201310513624.9
申请日：2013-10-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种浸没头，用于浸没式光刻，浸没头包括：液体进口腔体，用于填充浸液；气体供给口，用于供给气体；气液回收腔体，用于回收所述浸液和气体；磁性圈结构，当所述磁性圈结构具有吸力时，浸液封闭单元吸附于所述磁性圈结构，使所述浸液处于所述气体供给口、所述浸液封闭单元以及物镜单元构成的封闭区域内。本发明还提供浸没流场初始化和维持方法及光刻设备。本发明提供的浸没头，采用磁性圈结构进行浸没头下方的封闭操作，具有良好的可操作性和稳定性。
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公开(公告)号：CN103091994A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201110341896.6
申请日：2011-11-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种气体精密温度控制装置，包括：气体侧管路，液体侧回路，以及控制器；所述液体侧管路由第一回路与第二回路组成，所述液体侧管路连接于所述热交换器；其中所述第二回路包括电动双通阀，手动调压阀，循环泵与温度传感器；所述第一回路则包括球阀，过滤器与温度传感器。本发明提出了的气体精度温度控制装置，此装置采用两级液体循环控温系统，且对冷却或加热的循环液体无精度要求，通过控制进入回路内的液体流量，进行冷热补偿，可获得较高的气体温控精度，从而保证光刻机内温度的稳定性和均匀性指标。
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公开(公告)号：CN102548274A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010618430.1
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种电器控制箱，包括设置在第一侧壁(7)上的第一进风口(1)，设置在第二侧壁(9)上的出风口(2)，还包括至少一块夹板(5)，所述夹板(5)平行安装在剩余侧壁的至少一个面上，所述夹板(5)和剩余侧壁之间留有缝隙(8)，所述缝隙(8)的一端设置有第二进风口(51)，所述第二进风口(51)靠近第一进风口(1)，所述缝隙(8)的另一端设置有能够流向出风口(2)的导风口(52)，所述导风口(52)靠近出风口(2)。本发明电器控制箱，能够对电器控制箱的箱体进行均匀散热。
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