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公开(公告)号：CN103381327B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201210137983.4
申请日：2012-05-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种过滤器装置，适用于向半导体制造领域的光刻机提供洁净的气浴气体。该过滤器装置包括风道外壁、于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流。采用上述设计，此滤器装置在保证气浴气体洁净度的同时可以做到整体尺寸小、质量轻，可以安装在风道内部，适用于小型光刻机。
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公开(公告)号：CN104565645A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201310513304.3
申请日：2013-10-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: F16L41/021 , F16L41/03 , F16L55/10
Abstract: 本发明提供了一种冷却水分集流装置，包括：连接杆、若干紧堵机构、若干分流机构；所述紧堵机构穿过所述连接杆并紧靠所述分流机构，使所述分流机构相对于所述连接杆悬空固定，若干个所述分流机构首尾串联成冷却水主路。本发明还提供了冷却水分集流装置的制备方法。本发明提供的冷却水分集流装置，形成以分流单元为主体的模块化组装结构可成批生产，缩短加工周期，从而降低加工成本。
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公开(公告)号：CN103381327A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201210137983.4
申请日：2012-05-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种过滤器装置，适用于向半导体制造领域的光刻机提供洁净的气浴气体。该过滤器装置包括风道外壁、于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流。采用上述设计，此滤器装置在保证气浴气体洁净度的同时可以做到整体尺寸小、质量轻，可以安装在风道内部，适用于小型光刻机。
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公开(公告)号：CN104635429A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201310563528.5
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
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公开(公告)号：CN106292191A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201510268951.1
申请日：2015-05-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明通过将汞灯两极浸入在冷凝液中，同时隔热罩内填充冷凝液，冷凝液吸收热量使得蒸发为气体，并被分别排至第一冷凝器和第二冷凝器，被冷凝为液体传输回汞灯继续用于散热，本发明是用冷凝液吸收汞灯所散发的热量转化为气体，方法简单有效，能够使冷凝液循环利用，散热充分。此外将与阳极蒸气管和阳极回液管道连接的冷凝器或者换热器放置于设备机柜内的第一腔室内，排入第一腔室内的空气吸收冷凝器或者换热器中气体冷凝为液体时所散发的热量从而温度升高至正常工作温度，被排至工件台、激光干涉仪周围，使得工件台与激光干涉仪的工作环境温度恒定，节约了成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104635429B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201310563528.5
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
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公开(公告)号：CN105739244A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201410742951.6
申请日：2014-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机投影物镜及其镜片支架的通孔设计方法，该光刻机投影物镜包括镜筒、若干镜片和与镜片相对应的镜片支架，所述镜筒的顶部设有一出气口和底部设有一进气口，镜片支架的一侧设有若干通孔，且各通孔的气体流量和压力损失值相同，所述相邻镜片支架的通孔呈对角分布。本发明根据每个镜片的照明视场情况，在相应的镜片支架上按照特定方法设置孔径不同的通孔，并使相邻镜片支架的通孔呈对角分布，不仅保证了投影物镜内气压的稳定性，而且实现了投影物镜内部气体充分流通，提高了散热性能和光路区域的温度稳定性，同时光路区域充分填充惰性气体，有效降低了投影物镜对温度和压力的敏感度，提高了光刻质量。
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公开(公告)号：CN104020643A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201310064813.2
申请日：2013-03-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。与现有技术相比，本发明在不改变现有硬件架构的条件下，解决步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，物方视场内的自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。
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公开(公告)号：CN104020643B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201310064813.2
申请日：2013-03-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。与现有技术相比，本发明在不改变现有硬件架构的条件下，解决步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，物方视场内的自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。
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公开(公告)号：CN202713114U
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201220355640.0
申请日：2012-07-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型涉及磁浮直线电机，尤其涉及一种带有冷却装置的磁浮直线电机，包括若干绕线柱、分别缠绕于每个绕线柱外侧的若干线圈、分别固定于线圈顶部和底部的上层隔板和下层隔板、设于所有线圈外围的防护环以及隔离设置于所述下层隔板下侧的磁钢阵列，所述上层隔板中设有令冷却液通过的冷却通道，每两个相邻的线圈之间竖直方向上设有翅片，所述下层隔板与所述线圈底部之间水平方向上设有散热板。本实用新型通过在每两个相邻的线圈之间设置翅片，在线圈底部与下层隔板之间设置散热板，以提高线圈的散热面积与散热效率，进而改善整个磁浮直线电机的散热状况，且结构简单、易于实现。
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