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公开(公告)号：CN103592820B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201210285811.1
申请日：2012-08-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种全局调平边沿扫描的装置，包括：一工件台，用于承载一硅片，并为该硅片提供多个自由度运动；工件台驱动装置，用于驱动所述工件台；调焦调平装置，用以实现对硅片和调焦调平装置的标记的垂向测量并建立两者之间的关系；测量系统，用于测量所述工件台的位置；第一传输系统，用于输入信息，所述输入信息为所述测量系统测得的信息；计算器，用于根据输入的信息进行计算得出全局调平边沿扫描的初始位置；第二传输系统，用于将初始位置信号传输给所述工件台驱动装置；所述工件台驱动装置驱动所述工件台从初始位置开始进行全局调平边沿扫描，最终回到初始位置。本发明还提供一种全局调平边沿扫描的方法。
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公开(公告)号：CN103472679B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201210189363.5
申请日：2012-06-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种双工件台长行程测量装置及其使用方法，其用于实时控制硅片台或掩模台等精密工件台的位置以进行精确的光刻加工作业，所述双工件台长行程测量装置包括粗动平面电机装置、两根导轨、两个长行程平面测量装置和控制系统，该装置不仅能够使长行程平面测量装置自动跟随工件台一起沿Y向移动，其长行程平面测量装置中的弹性缓冲装置还能够保证在工件台长行程运动控制失效时，测量传感器不会被损坏，并且仍然能够得到工件台的位置信号并反馈回该装置的控制系统，控制工件台复位回到工作零位。
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公开(公告)号：CN103246168B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201210024607.4
申请日：2012-02-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻机硅片台的主动驱动线缆台，包括Y向滑台、Y向导轨和交叉伸缩连杆机构，Y向滑台通过气浮轴承设置在Y向导轨上，Y向滑台由滑台电机驱动在Y向与硅片台保持同步运动，线缆设施经由所述Y向滑台沿交叉伸缩连杆机构输送到硅片台上，交叉伸缩连杆机构包括交叉伸缩连杆和驱动器，交叉伸缩连杆一端连接所述Y向滑台，另一端通过线缆设施连接于硅片台，驱动器用于驱动交叉伸缩连杆沿X向运动，从而带动线缆设施沿X向运动。本发明的光刻机硅片台的主动驱动线缆台，实现对线缆台的主动控制和线缆台对硅片台在X-Y平面的跟随运动。
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公开(公告)号：CN103286187B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210041163.5
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种板材落料和排版的方法及装置，通过获取待排版板材的输入数据，接着进行程序初始化操作，然后放置待排版的板材并对待排版板材进行几何干涉检查，最后依据计算结果进行评价，进而最终输出最优的板材落料和排版方案，本方案可有效降低落料消耗和减少材料成本，对其合理排版提高材料的利用率，可适应不同的设计类型的主基板及其支架，有效符合并满足实际加工制造的情况。
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公开(公告)号：CN103294078B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201210041402.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D23/19
Abstract: 本发明提出一种模块化温度控制装置，包括依次连接的具有电泵控制单元的介质驱动电泵、温度控制单元和多个介质冷却模块，所述介质冷却模块包括：相互连接的介质冷却基板模块上板和介质冷却基板模块下板；快速连接接头，设置于所述介质冷却基板模块下板的侧面，其中，所述介质冷却基板模块下板具有四方双螺旋型内腔，其四周具有四个流体出入口用于连接所述快速连接接头。本发明提出的模块化温度控制装置，基于模块化的设计思想，将测量系统中的热交换界面设计成模块化介质冷却基板，便于快捷安装和配置的，由基本模块组装成符合工况所需的结构形式，适合光刻机中多系统冷却的工程需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103133773B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201110383922.1
申请日：2011-11-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种线缆导向装置以及包含该装置的工件台系统，线缆导向装置包括若干个内架和外架，所述的内架和外架沿水平方向彼此交替布置、且依次首尾连接而形成能够展开和合拢的链状结构；所述内架包括两块平行布置的内肋板，两内肋板的两端由中心轴固定在一起，且这两块内肋板之间装有供线缆穿过的线缆槽；所述外架包括两块平行布置的外肋板，这两块外肋板分别布置在所述两内肋板的外侧、并通过轴承与所述中心轴连接。该装置占用空间小，在工作时仅有十分微小的摩擦，避免了装置磨损的现象，可在高纯度环境要求的精密设备上使用。
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公开(公告)号：CN102566293B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201010618426.5
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种二维长行程工作台运动系统，包括承载台、第一方向运动装置以及两个第二方向运动装置。第一方向运动装置包括第一方向导轨、第一方向滑台以及第一方向电机。两个第二方向运动装置分别连接于第一方向运动装置的两侧。每一第二方向运动装置包括第二方向导轨、第二方向滑台以及二维电机。第二方向滑台沿第一方向与第二方向可滑动地悬浮于第二方向导轨的上方，第二方向滑台连接于第一方向导轨。二维电机连接于第二方向滑台，驱动第二方向滑台以及第一方向运动装置沿第二方向作长行程运动的同时能够在第一方向作1～2mm的小行程运动。本发明公开的二维长行程工作台运动系统，简化了机械结构，降低了成本。
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公开(公告)号：CN102866587B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110191799.3
申请日：2011-07-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台，包括第一承片台、第一X向线缆、第一Y向线缆、第一Y向滑台、第二Y向滑台和第一线缆交换装置。第一X向线缆的一端固定在工件台上。第一Y向线缆的一端固定在第一承片台上。第一Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第二Y向滑台选择性地连接于第一承片台，以带动第一承片台沿Y向移动。第一线缆交换装置连接第一X向线缆和第一Y向线缆的另一端，选择性地跟随第一Y向滑台或第二Y向滑台沿Y向运动。本发明提出的工件台可极大地减小电缆、管路等配套设施工作过程中产生的扰动对工件台运动定位精度的影响，缩短双台交换的时间，提高光刻生产效率。
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公开(公告)号：CN102636961B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201110036695.5
申请日：2011-02-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种旋转光刻机，所述旋转光刻机包括：主框架；用以承载硅片的硅片台，所述硅片台设置于所述主框架内；用以将曝光图形成像于硅片上的曝光装置，所述曝光装置与所述主框架连接；所述硅片台绕其中轴作水平旋转；所述曝光装置沿所述硅片台作水平向移动。本发明提供的旋转光刻机减小了光刻机机台尺寸，进一步的，减少了生产空间的占用，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN102109011B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN200910200941.9
申请日：2009-12-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16C32/06
Abstract: 本发明涉及一种气浮轴承，尤其涉及一种均压腔气浮止推轴承。这种均压腔气浮止推轴承，包括至少一个气浮滑块，每个气浮滑块的支撑面上至少开设有一个棱锥均压腔，所述支撑面与基座相对，所述棱锥均压腔的锥底面与所述支撑面齐平，所述棱锥均压腔的顶点处设有一节流孔，所述节流孔与设于所述气浮滑块内部的供气管路相通，所述供气管路与外部加压气源相通。本发明采用了渐扩的棱锥均压腔腔形，使高压气体经节流孔流入轴承间隙过程中更易沿平行流线流出，从而抑制节流孔附近涡流引发的轴承振动现象，降低微振动对整个运动系统的静态和动态性能的危害。
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