公开(公告)号：CN103983532A

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201310049859.7

申请日：2013-02-07

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 俞芸 ,  许琦欣 ,  李佳

IPC: G01N7/00

Abstract: 本发明提供了一种测试材料释气率的装置，包括：真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一个带有小孔的隔板隔开，所述第二真空室用于放置测试材料，所述第二真空室内设有一辐射灯；与所述真空室连接的泵组；与所述真空室连接测量系统；充入所述第二真空室中的气源。本发明通过测量系统测量所述第一真空室和第二真空室的气体压力，不仅可以得出测试材料释放的所有气体组分的总释气率，而且可以得出测试材料释放的某一气体组分的释气率。

公开(公告)号：CN105739554A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201410740402.5

申请日：2014-12-07

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 张洪博 ,  王云英 ,  李佳 ,  李洋 ,  秦少伍 ,  赵留所 ,  胡怀忠

IPC: G05D16/04

Abstract: 本发明提供了一种气压控制装置及气压控制系统，通过在气压控制装置中的供气回路中增设若干组压力调控单元，使得气压控制装置可以对经过初级调压阀及次级调压阀调控后的压力在不符合被调压对象的压力需求时，可以通过调节若干组压力调控单元中手动阀连通毛细管或者单元管道对气体压力做进一步的调节，从而使被调压对象的进气端的气体压力值符合被调压对象的需求，从而提高了气压控制装置的压力控制精准度及被调压对象的稳定性。

公开(公告)号：CN103983532B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201310049859.7

申请日：2013-02-07

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 俞芸 ,  许琦欣 ,  李佳

IPC: G01N7/00

Abstract: 本发明提供了一种测试材料释气率的装置，包括：真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一个带有小孔的隔板隔开，所述第二真空室用于放置测试材料，所述第二真空室内设有一辐射灯；与所述真空室连接的泵组；与所述真空室连接测量系统；充入所述第二真空室中的气源。本发明通过测量系统测量所述第一真空室和第二真空室的气体压力，不仅可以得出测试材料释放的所有气体组分的总释气率，而且可以得出测试材料释放的某一气体组分的释气率。

公开(公告)号：CN104749893A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201310737636.X

申请日：2013-12-30

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 李佳 ,  俞芸 ,  张洪博 ,  王云英 ,  王黎明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提出一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置，包括腔体结构、气体供给装置、泵组以及监测装置，其中，气体供给装置可存放、净化处理气体，并调节控制气体质量流量；泵组可对腔体结构抽真空，维持腔体结构真空环境；监测装置用于监测腔体结构真空度、腔体结构内组分的分压，其特征在于：所述腔体结构包括主腔室、工件台腔室以及连接通道，所述各腔室之间相互隔离，连接通道两端分别采用可拆密封连接于主腔室和工件台腔室。本发明的极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置可运用于EUV辐射光刻设备中，有效控制光源腔、主腔室及工件台腔室的环境。采用气流隔离的方式，有效防止了不同设备区的交叉污染，起到保护设备的作用；同时，这种气流隔离的密封方式，可有效提高光束的透射率。