公开(公告)号：CN104698767B

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201310671750.7

申请日：2013-12-10

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 张崇明 ,  聂宏飞 ,  杨志斌 ,  张洪博 ,  赵丹平 ,  赵旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成与最后一片物镜的形状相匹配的腔体，挡块上设有：水平进液口，与最后一片物镜的侧边的位置相对应；水平出液口，与水平进液口对称设置；垂直进液口，通至挡块的底部；垂直抽取口，通至挡块的底部，且垂直抽取口与腔体的中心的距离大于垂直进液口与腔体的中心的距离；辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖衬底台，包括：气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；第一气腔与第二气腔间通过第一间隙导通。本发明能够有效防止浸液泄漏。

公开(公告)号：CN104698767A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201310671750.7

申请日：2013-12-10

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 张崇明 ,  聂宏飞 ,  杨志斌 ,  张洪博 ,  赵丹平 ,  赵旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成与最后一片物镜的形状相匹配的腔体，挡块上设有：水平进液口，与最后一片物镜的侧边的位置相对应；水平出液口，与水平进液口对称设置；垂直进液口，通至挡块的底部；垂直抽取口，通至挡块的底部，且垂直抽取口与腔体的中心的距离大于垂直进液口与腔体的中心的距离；辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖衬底台，包括：气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；第一气腔与第二气腔间通过第一间隙导通。本发明能够有效防止浸液泄漏。

公开(公告)号：CN104950585A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201410114022.0

申请日：2014-03-25

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 韦婧宇 ,  聂宏飞 ,  张洪博 ,  赵旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种浸液限制机构，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道及供气通道，第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，供气通道连接至供气设备，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。本发明通过增设第二水平供液通道和第二水平出液通道，并对其位置和尺寸进行约束，改善主流场的流速及均匀性，并减小曝光场的压力波动，防止压力波动对浸液焦深及套刻的影响。

公开(公告)号：CN104950585B

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：CN201410114022.0

申请日：2014-03-25

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 韦婧宇 ,  聂宏飞 ,  张洪博 ,  赵旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种浸液限制机构，包括第一水平供液通道、第一水平出液通道、垂直供液通道、气液回收通道及供气通道，第一水平供液通道和第一水平出液通道相对设置，垂直供液通道、气液回收通道和供气通道的出口由内向外依次排列于浸液限制机构的底部，第一水平供液通道、垂直供液通道分别连接至供液设备，第一水平出液通道和气液回收通道分别连接至气液回收设备，供气通道连接至供气设备，还包括与供液设备连接的第二水平供液通道和与气液回收设备连接的第二水平出液通道。本发明通过增设第二水平供液通道和第二水平出液通道，并对其位置和尺寸进行约束，改善主流场的流速及均匀性，并减小曝光场的压力波动，防止压力波动对浸液焦深及套刻的影响。