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公开(公告)号:CN106471616B
公开(公告)日:2019-05-31
申请号:CN201580033623.1
申请日:2015-06-30
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L23/3735 , B32B7/04 , B32B7/05 , B32B7/12 , B32B9/005 , B32B9/041 , B32B15/00 , B32B15/043 , B32B15/20 , B32B2250/44 , B32B2307/20 , B32B2307/732 , B32B2457/00 , C04B35/645 , C04B37/028 , C04B2235/449 , C04B2237/343 , C04B2237/366 , C04B2237/368 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H01L21/4882 , H01L23/12 , H01L23/36 , H01L23/4924 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/291 , H01L2224/32225 , H01L2924/014 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明提供一种接合金属板彼此、以及接合金属板与陶瓷板时防止各部件的接合面彼此的位置偏离、能够有效地制造它们的接合体的接合体制造方法、以及将该接合体应用到功率模块用基板的功率模块用基板的制造方法。本发明的接合体的制造方法具有:层叠工序,在铜电路板(第1部件)(30)或陶瓷基板(第2部件)(20)中的任一个上涂布以饱和脂肪酸为主成分的临时固定材料(40),经由熔融的临时固定材料(40)将铜电路板(30)与陶瓷基板(20)进行层叠对位,并冷却临时固定材料(40),从而形成所层叠的铜电路板(30)与陶瓷基板(20)被临时固定的层叠体(80);及接合工序,沿层叠方向对层叠体(80)加压加热而形成将铜电路板(30)与陶瓷基板(20)接合的接合体。
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公开(公告)号:CN104755445B
公开(公告)日:2017-11-03
申请号:CN201380056024.2
申请日:2013-09-16
Applicant: 罗杰斯德国有限公司
IPC: C04B35/111 , C04B35/119 , C04B37/02
CPC classification number: H05K1/0306 , C04B35/111 , C04B35/119 , C04B37/021 , C04B37/023 , C04B37/026 , C04B37/028 , C04B2235/3225 , C04B2235/3244 , C04B2235/5248 , C04B2235/5436 , C04B2235/786 , C04B2235/96 , C04B2235/9607 , C04B2237/343 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C04B2237/62 , C04B2237/704 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H05K1/09 , H05K2201/0175 , H05K2201/032 , H05K2201/062 , Y10T156/10 , Y10T428/26 , Y10T428/266
Abstract: 本发明涉及金属‑陶瓷‑基材及其制备方法,所述金属‑陶瓷‑基材包括至少一个具有第一表面侧和第二表面侧(2a、2b)的陶瓷层(2),所述陶瓷层(2)在表面侧(2a、2b)的至少一者上设置有金属化层(3、4),其中形成陶瓷层(2)的陶瓷材料包含氧化铝、二氧化锆以及氧化钇。特别有利地,氧化铝、二氧化锆以及氧化钇各自以其总重量计的以下比例包含在陶瓷层(2)中:二氧化锆,在2和15重量%之间;氧化钇,在0.01和1重量%之间;和氧化铝,在84和97重量%之间,其中所使用的氧化铝的平均粒径在2和8微米之间,并且氧化铝晶粒的晶界长度与所有晶界的总长度的比例大于0.6。
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公开(公告)号:CN106471616A
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:CN201580033623.1
申请日:2015-06-30
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L23/3735 , B32B7/04 , B32B7/05 , B32B7/12 , B32B9/005 , B32B9/041 , B32B15/00 , B32B15/043 , B32B15/20 , B32B2250/44 , B32B2307/20 , B32B2307/732 , B32B2457/00 , C04B35/645 , C04B37/028 , C04B2235/449 , C04B2237/343 , C04B2237/366 , C04B2237/368 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H01L21/4882 , H01L23/12 , H01L23/36 , H01L23/4924 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/291 , H01L2224/32225 , H01L2924/014 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明提供一种接合金属板彼此、以及接合金属板与陶瓷板时防止各部件的接合面彼此的位置偏离、能够有效地制造它们的接合体的接合体制造方法、以及将该接合体应用到功率模块用基板的功率模块用基板的制造方法。本发明的接合体的制造方法具有:层叠工序,在铜电路板(第1部件)(30)或陶瓷基板(第2部件)(20)中的任一个上涂布以饱和脂肪酸为主成分的临时固定材料(40),经由熔融的临时固定材料(40)将铜电路板(30)与陶瓷基板(20)进行层叠对位,并冷却临时固定材料(40),从而形成所层叠的铜电路板及接合工序,沿层叠方向对层叠体(80)加压加热而形成将铜电路板(30)与陶瓷基板(20)接合的接合体。(30)与陶瓷基板(20)被临时固定的层叠体(80);
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公开(公告)号:CN104205325A
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201380016914.0
申请日:2013-03-29
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H05K1/0207 , B32B9/005 , B32B9/041 , B32B15/043 , B32B15/20 , B32B2255/06 , B32B2255/205 , B32B2307/302 , B32B2307/51 , B32B2307/54 , B32B2457/14 , C04B37/026 , C04B2235/72 , C04B2235/96 , C04B2237/121 , C04B2237/128 , C04B2237/366 , C04B2237/402 , C04B2237/704 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H01L23/3735 , H01L23/4006 , H01L23/473 , H01L2224/32225 , H05K1/0209 , H05K1/0306 , H05K1/092 , H05K1/181 , H05K7/2039 , H05K2201/066
Abstract: 本发明的自带散热器的功率模块用基板,具备:功率模块用基板(10),具有陶瓷基板(11)、电路层(12)及金属层(13);及散热器(18),通过焊料层(17)而与金属层(13)接合,并且由铜或铜合金构成。金属层(13)通过Al含量为99.0质量%以上且99.85质量%以下的铝板接合于陶瓷基板(11)而形成,焊料层(17)由固溶硬化型焊材形成,该固溶硬化型焊材含有作为主成分的Sn及固溶于该Sn的母相中的固溶元素。
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公开(公告)号:CN102576697B
公开(公告)日:2014-11-12
申请号:CN201080047257.2
申请日:2010-10-19
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H05K7/02 , C04B35/645 , C04B37/021 , C04B37/026 , C04B2235/6581 , C04B2235/72 , C04B2237/12 , C04B2237/125 , C04B2237/343 , C04B2237/366 , C04B2237/368 , C04B2237/402 , C04B2237/55 , C04B2237/58 , C04B2237/60 , C04B2237/704 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H01L21/4882 , H01L23/3735 , H01L23/3736 , H01L23/473 , H01L2224/32225 , H05K7/2039 , H05K13/00 , Y10T29/49002
Abstract: 本发明提供一种功率模块用基板,为具备陶瓷基板和在该陶瓷基板的表面层压而接合有铝或铝合金制的金属板的功率模块用基板,在所述金属板中,固溶有Ag或选自Zn、Ge、Mg、Ca、Ga及Li中的一种或两种以上的添加元素,所述金属板中的与所述陶瓷基板的界面附近的Ag浓度设定在0.05质量%以上10质量%以下,或者所述金属板中的与所述陶瓷基板的界面附近的Zn、Ge、Mg、Ca、Ga及Li的总计浓度设定在0.01质量%以上5质量%以下。
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公开(公告)号:CN104105678A
公开(公告)日:2014-10-15
申请号:CN201280069294.2
申请日:2012-12-27
Applicant: 库拉米克电子学有限公司
IPC: C04B37/02
CPC classification number: H05K3/103 , C04B37/021 , C04B37/025 , C04B2237/06 , C04B2237/064 , C04B2237/09 , C04B2237/124 , C04B2237/366 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C04B2237/52 , C04B2237/54 , C04B2237/708 , C04B2237/72 , C04B2237/86 , H05K3/14 , Y10T29/302
Abstract: 用于制备DCB-基材的方法,所述DCB-基材各自具有至少一个基本上由氮化铝(AlN)组成的陶瓷层,所述陶瓷层在至少一个表面侧上具有基本上由氧化铝组成的中间层,并且在中间层上具有至少一个由金属层或金属箔所形成的金属化物。
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公开(公告)号:CN104072187A
公开(公告)日:2014-10-01
申请号:CN201410044836.1
申请日:2014-02-07
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: H01L24/29 , C04B35/645 , C04B37/026 , C04B2237/10 , C04B2237/12 , C04B2237/125 , C04B2237/343 , C04B2237/365 , C04B2237/366 , C04B2237/368 , C04B2237/407 , C04B2237/55 , C04B2237/708 , C04B2237/72 , C04B2237/86 , H01L24/27 , H01L24/32 , H01L24/83 , H01L2224/2731 , H01L2224/29082 , H01L2224/29109 , H01L2224/29111 , H01L2224/29113 , H01L2224/29118 , H01L2224/29124 , H01L2224/29139 , H01L2224/29144 , H01L2224/29147 , H01L2224/29169 , H01L2224/29209 , H01L2224/29211 , H01L2224/29213 , H01L2224/29218 , H01L2224/29224 , H01L2224/29239 , H01L2224/29244 , H01L2224/29247 , H01L2224/29269 , H01L2224/29288 , H01L2224/29294 , H01L2224/29309 , H01L2224/29311 , H01L2224/29313 , H01L2224/29318 , H01L2224/29324 , H01L2224/29339 , H01L2224/29344 , H01L2224/29347 , H01L2224/29369 , H01L2224/32013 , H01L2224/32225 , H01L2224/32245 , H01L2224/32505 , H01L2224/83055 , H01L2224/83075 , H01L2224/83101 , H01L2224/83191 , H01L2224/83192 , H01L2224/83193 , H01L2224/83203 , H01L2224/83487 , H01L2224/83801 , H01L2224/8384 , H01L2924/15788 , H01L2924/351 , Y10T428/265 , H01L2924/00014 , H01L2924/05432 , H01L2924/01047 , H01L2924/00012 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供接合材料和接合构造体。本发明解决的技术问题是不进行金属化处理,而在软钎料程度的处理温度下接合陶瓷、半导体、玻璃等基材。接合构造体中,多种基材通过接合层接合,而且至少一种基材为陶瓷、半导体和玻璃中的任一种基材,接合材料层包含金属和氧化物,氧化物含有V和Te,氧化物存在于金属与基材之间。接合材料为:包含氧化物玻璃、金属颗粒和溶剂的膏状,该氧化物玻璃的成分中含有V和Te;或者埋入有氧化物玻璃的颗粒的箔状或板状,该氧化物玻璃的成分中含有V和Te;或者包含氧化物玻璃的层和金属的层的箔状或板状,该氧化物玻璃的成分中含有V和Te。
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公开(公告)号:CN103811477A
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN201310526888.8
申请日:2013-10-30
Applicant: 株式会社丰田自动织机
CPC classification number: H01L23/00 , C04B37/021 , C04B2237/343 , C04B2237/366 , C04B2237/402 , C04B2237/86 , H01L23/15 , H01L23/3735 , H01L23/473 , H01L25/072 , H01L2224/32225 , H01L2924/13055 , H01L2924/13091 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种半导体单元,其包括:绝缘基片,该绝缘基片具有第一表面和与第一表面相对的第二表面;第一传导层,该第一传导层结合至绝缘基片的第一表面;第二传导层,该第二传导层在与第一传导层的位置不同的位置处结合至绝缘基片的第一表面;应力消除层,该应力消除层结合至绝缘基片的第二表面;散热装置,该散热装置在应力消除层的与绝缘基片相反的一侧上结合至应力消除层;以及半导体器件,该半导体器件电结合至相应的第一和第二传导层。绝缘基片具有低刚性部分,该低刚性部分设置在第一和第二传导层之间并且具有比绝缘基片的其余部分低的刚性,并且至少低刚性部分通过模具树脂密封和覆盖。
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公开(公告)号:CN103733329A
公开(公告)日:2014-04-16
申请号:CN201280037162.1
申请日:2012-08-10
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H05K3/103 , B23K35/0222 , B23K35/0233 , B23K35/0238 , B23K35/262 , B23K35/3006 , C04B35/645 , C04B37/021 , C04B37/025 , C04B37/026 , C04B2237/064 , C04B2237/121 , C04B2237/124 , C04B2237/125 , C04B2237/127 , C04B2237/343 , C04B2237/366 , C04B2237/402 , C04B2237/407 , C04B2237/54 , C04B2237/60 , C04B2237/704 , C04B2237/706 , C04B2237/708 , C04B2237/86 , C22C9/00 , C22C13/00 , C22C21/00 , H01L23/3735 , H01L23/3736 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/83 , H01L2224/29111 , H01L2224/32225 , H01L2224/83455 , H01L2924/01322 , H05K1/0204 , H05K1/0306 , H05K1/09 , H05K3/0061 , H05K3/38 , Y10T29/49155 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/01029 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的功率模块用基板(10)具备绝缘基板(11)、和在该绝缘基板(11)的一面形成的电路层(12),其中,所述电路层(12)通过在所述绝缘基板(11)的一面接合有第一铜板(22)而构成,所述第一铜板(22)在被接合之前至少含有共计1molppm以上且100molppm以下的碱土类元素、过渡金属元素、稀土类元素中的一种以上或100molppm以上且1000molppm以下的硼中的任一方,残余部分由铜及不可避免杂质组成。
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公开(公告)号:CN101849445A
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200880114640.8
申请日:2008-11-06
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: B23K1/20 , C04B35/584 , C04B37/026 , C04B2235/72 , C04B2235/721 , C04B2235/723 , C04B2235/96 , C04B2237/121 , C04B2237/128 , C04B2237/368 , C04B2237/402 , C04B2237/52 , C04B2237/704 , C04B2237/706 , C04B2237/86 , H01L21/4807 , H01L21/481 , H01L23/15 , H01L23/3735 , H01L23/4006 , H01L23/473 , H01L2224/32225 , H01L2224/48227 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H05K1/0306 , H05K3/0029 , H05K3/0052 , H05K3/38 , H05K3/381 , H05K2201/0355 , H05K2201/09036 , H05K2201/0909 , H05K2203/095 , Y10T29/49155 , H01L2924/00
Abstract: 含有硅的陶瓷基板,该基板表面的二氧化硅和硅的复合氧化物的浓度为2.7Atom%以下。
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