公开(公告)号：CN111105990B

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN201811271305.0

申请日：2018-10-29

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 刘国友 ,  罗海辉 ,  张鸿鑫 ,  谭灿健 ,  唐智慧 ,  冯宇 ,  丁杰

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/768

Abstract: 本发明公开一种适用于铜金属化半导体器件的薄膜结构，包括依次设置于上层金属层和衬底之间的铜金属层、阻挡层和粘附层，所述阻挡层用于防止铜向衬底扩散，所述粘附层用于将阻挡层粘附在衬底上。本发明的另一方面还公开了一种适用于铜金属化半导体器件的薄膜结构的制备方法。本发明中的薄膜结构既能提高铜与阻挡层以及阻挡层与衬底之间的粘附性，防止器件表面金属层脱落。

公开(公告)号：CN113053746B

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN201911374549.6

申请日：2019-12-27

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 姚尧 ,  罗海辉 ,  肖强 ,  罗湘 ,  何逸涛 ,  丁杰 ,  刘葳 ,  刘武平 ,  冯宇 ,  卜毅

IPC: H01L21/331 ,  H01L21/263 ,  H01L29/739

Abstract: 本发明公开了一种低压IGBT器件的制备方法，包括如下步骤：S1.在晶圆的正面完成IGBT正面结构；S2.将步骤S1得到的晶圆的背面减薄至第一厚度；S3.在所述步骤S2得到的晶圆的背面形成缓冲层；S4.将步骤S3得到的晶圆的背面减薄至最终厚度；S5.在步骤S4得到的晶圆的背面形成阳极层，在阳极层上沉积金属，形成集电极。本发明在较厚片厚下进行高温过程可避免产生过大翘曲而带来碎片风险，降低碎片率；且从背面进行质子注入可以避免对IGBT的正面结构造成损伤，从而提高产品质量。

公开(公告)号：CN114005748A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202111267168.5

申请日：2021-10-28

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 卜毅 ,  罗湘 ,  曾琪 ,  曾凯 ,  何逸涛 ,  冯宇

IPC: H01L21/3105 ,  H01L21/28

Abstract: 本发明涉及一种半导体器件的表面平坦化方法，包括如下步骤，在硅衬底上沉积氧化层和氮化硅；对打开区域进行氧化形成终端区氧化层；沉积硬掩膜层；进行光刻，然后对硬掩膜层进行刻蚀；使用硬掩膜层充当刻蚀阻挡层，进行有源区沟槽刻蚀；去除沟槽内损伤层，然后生长栅氧氧化层；表面淀积多晶硅，多晶硅填充满所有沟槽；进行CMP研磨，实现晶圆表面平坦化；同步刻蚀氮化硅和氧化层，停留在元胞区氧化层上；将元胞区域沟槽内高于硅平面的多晶硅和氧化层进行刻蚀，停留在与硅衬底表面，实现平坦化；本发明避免终端区的多晶硅残留，不需要引入格外工艺去除硬掩膜层，工艺简单，可以准确实现终点信号抓取，实现平坦化效果，保证产品的均一性。

公开(公告)号：CN111106084B

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：CN201811249360.X

申请日：2018-10-25

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 张鸿鑫 ,  刘国友 ,  罗海辉 ,  谭灿健 ,  冯宇 ,  韩星尧

IPC: H01L23/482 ,  H01L23/498 ,  H01L23/49 ,  H01L21/60

Abstract: 本申请提供了一种用于引线键合的衬底金属层结构以及功率半导体器件，衬底金属层结构自下而上依次包括：衬底；金属层，其设置在该衬底的上表面；以及引线，其设置在该金属层的远离该衬底的表面上并与该金属层形成引线键合；其中，该金属层包括叠置而成的多个子金属层，并且该多个子金属层的表面积自下而上逐渐减小。通过该衬底金属层结构及功率半导体器件，可以成功实现降低引线键合失效率，且金属层应力较小，工艺实现简单，成本较低，提高了器件的可靠性。

公开(公告)号：CN113035711A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN201911356279.6

申请日：2019-12-25

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 姚尧 ,  罗海辉 ,  肖强 ,  罗湘 ,  何逸涛 ,  丁杰 ,  刘武平 ,  冯宇 ,  卜毅 ,  刘葳

IPC: H01L21/331 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明公开了一种低压IGBT器件的制备方法，包括如下步骤：S1.在晶圆的正面完成IGBT正面结构；S2.将步骤S1得到的晶圆的正面进行高能质子注入形成缓冲层；S3.将步骤S2得到的晶圆的背面减薄；S4.在步骤S3得到的晶圆的背面形成阳极层，在阳极层上沉积金属，形成集电极。本发明在背面减薄之后，无需炉管退火等高温工艺，可有效降低薄片的应力及翘曲度，从而大幅降低碎片风险。

公开(公告)号：CN113053746A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN201911374549.6

申请日：2019-12-27

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 姚尧 ,  罗海辉 ,  肖强 ,  罗湘 ,  何逸涛 ,  丁杰 ,  刘葳 ,  刘武平 ,  冯宇 ,  卜毅

IPC: H01L21/331 ,  H01L21/263 ,  H01L29/739

Abstract: 本发明公开了一种低压IGBT器件的制备方法，包括如下步骤：S1.在晶圆的正面完成IGBT正面结构；S2.将步骤S1得到的晶圆的背面减薄至第一厚度；S3.在所述步骤S2得到的晶圆的背面形成缓冲层；S4.将步骤S3得到的晶圆的背面减薄至最终厚度；S5.在步骤S4得到的晶圆的背面形成阳极层，在阳极层上沉积金属，形成集电极。本发明在较厚片厚下进行高温过程可避免产生过大翘曲而带来碎片风险，降低碎片率；且从背面进行质子注入可以避免对IGBT的正面结构造成损伤，从而提高产品质量。

公开(公告)号：CN111106073B

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN201811257130.8

申请日：2018-10-26

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 张鸿鑫 ,  刘国友 ,  罗海辉 ,  谭灿健 ,  唐智慧 ,  冯宇 ,  丁杰

IPC: H01L23/31 ,  H01L23/29

Abstract: 本发明涉及一种功率半导体器件的低应力薄膜结构，由下至上依次包括：基底、第一导电层、第二导电层和金属层，在第一导电层和第二导电层之间设有绝缘层，所述第二导电层穿过绝缘层与所述第一导电层部分接触。本发明设计的膜层结构，既可以保护芯片在封装过程中不受损伤，同时可以提升芯片封装的成品率，且各膜层之间应力较小，工艺实现简单，成本较低。此外，该膜层结构也有利于提高器件的可靠性，使器件在运行过程中，特别是在高温、高压、高震动等恶劣环境中得以正常工作。

公开(公告)号：CN216210476U

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN202122746352.X

申请日：2021-11-10

Applicant: 株洲中车时代半导体有限公司

Inventor： 丁杰 ,  罗湘 ,  姚尧 ,  张鸿鑫 ,  蔡海 ,  管佳宁 ,  唐智慧 ,  冯宇 ,  曾琪

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型涉及一种用于背面曝光的静电载片，包括装载晶圆的载板，所述载板上设置有通孔，晶圆上设置有标记，所述通孔的位置和标记的位置相对应，所述通孔的中心位置和背面对准镜头中心位置的距离不大于背面对准镜头和载板中心位置距离的15％，所述通孔的内切圆的直径大于背面对准镜头直径，本实用新型可以实现带载片对产品晶圆进行背面曝光，不需要对晶圆进行二次键合，也不需要使用特殊的透明的载板，可以直接使用背面对准镜头对圆晶背面进行曝光，极大的节省了加工的时间和费用成本。