公开(公告)号：CN108735631B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN201810371461.8

申请日：2018-04-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中溝贤治 ,  守田聪 ,  田中明贤 ,  小宫洋司 ,  中岛幹雄 ,  福田孝佑 ,  正木洋一 ,  安藤了至 ,  须中郁雄

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供一种探测流路开闭部的异常的处理装置、异常探测方法以及存储介质。实施方式的一种方式所涉及的处理装置具备腔室、喷嘴、流量测量部、流路开闭部以及控制部。腔室用于收容被处理体。喷嘴设置于腔室内，用于向被处理体供给处理液。流量测量部用于测量向喷嘴供给的处理液的流量。流路开闭部进行向喷嘴供给处理液的供给流路的开闭。控制部向流路开闭部输出用于进行关闭供给流路的闭动作的闭信号。另外，控制部根据在输出闭信号之后由流量测量部测量得到的流量的累积量来探测流路开闭部的动作异常。

公开(公告)号：CN102479736A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201110396126.1

申请日：2011-11-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 出口雅敏 ,  船越秀朗 ,  武井利亲 ,  佐藤礼史 ,  清田弥 ,  石丸大辅 ,  待鸟真一 ,  须中郁雄 ,  龟井繁则

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。

公开(公告)号：CN112997276B

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN201980072859.4

申请日：2019-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天井胜 ,  田中志信 ,  须中郁雄 ,  香川兴司

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开提供一种能够对基片供给具有稳定的臭氧浓度的臭氧水的基片处理装置、基片处理方法和计算机可读存储介质。基片处理装置包括：构成为能够供给臭氧气体的臭氧气体供给部；构成为能够供给呈现出规定的氢离子浓度的调整液的调整液供给部；构成为能够使臭氧气体溶解于调整液而生成臭氧水的溶解部；构成为能够用臭氧水来对基片进行清洗处理的至少一个处理腔室；和构成为能够通过送液线路将臭氧水从溶解部输送到至少一个处理腔室的送液部。

公开(公告)号：CN104854689A

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201380064421.4

申请日：2013-12-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  须中郁雄 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 基板处理装置包括：装载部，向该装载部输入基板的输送容器；以及装置控制器，其用于对所述装载部中的操作进行控制。装置控制器具有存储部，该存储部用于根据输送容器的识别符号来存储自外部发送过来的参数值的推移数据。参数值的推移数据是通过将该输送容器的使用次数与将以下操作中的至少一个操作的结果数值化而得到的参数值相关联而得到的，即，为了向装载部输入所述输送容器并将盖体拆卸而进行的操作和为了将该输送容器自装载部输出而进行的操作。装置控制器还具有判断部，该判断部根据与输送容器的输入和输出中的至少一者相对应的所述参数值以及与该输送容器有关的所述参数值的过去的推移数据来判断该输送容器有无异常。

公开(公告)号：CN109427627A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810958419.6

申请日：2018-08-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 寺冈一大 ,  鸟野崇 ,  上村史洋 ,  笠原政俊 ,  须中郁雄 ,  中泽贵士

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种抑制在紧接开始进行处理液的循环之后循环管线内的处理液被污染的液处理装置和液处理方法。实施方式所涉及的液处理装置具备罐、循环管线、泵、过滤器、背压阀以及控制部。罐用于贮存处理液。循环管线用于使从罐送出的处理液返回罐。泵用于形成循环管线中的处理液的循环流。过滤器设置于循环管线中的泵的下游侧。背压阀设置于循环管线中的过滤器的下游侧。控制部控制泵和背压阀。而且，控制部控制泵的喷出压力，以使在开始进行循环管线中的处理液的循环时，泵的喷出压力上升到规定的第一压力，并且在经过规定的时间后，泵的喷出压力增加到比第一压力大的第二压力。

公开(公告)号：CN104854689B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201380064421.4

申请日：2013-12-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  须中郁雄 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 基板处理装置包括：装载部，向该装载部输入基板的输送容器；以及装置控制器，其用于对所述装载部中的操作进行控制。装置控制器具有存储部，该存储部用于根据输送容器的识别符号来存储自外部发送过来的参数值的推移数据。参数值的推移数据是通过将该输送容器的使用次数与将以下操作中的至少一个操作的结果数值化而得到的参数值相关联而得到的，即，为了向装载部输入所述输送容器并将盖体拆卸而进行的操作和为了将该输送容器自装载部输出而进行的操作。装置控制器还具有判断部，该判断部根据与输送容器的输入和输出中的至少一者相对应的所述参数值以及与该输送容器有关的所述参数值的过去的推移数据来判断该输送容器有无异常。

公开(公告)号：CN109427627B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN201810958419.6

申请日：2018-08-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 寺冈一大 ,  乌野崇 ,  上村史洋 ,  笠原政俊 ,  须中郁雄 ,  中泽贵士

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种抑制在紧接开始进行处理液的循环之后循环管线内的处理液被污染的液处理装置和液处理方法。实施方式所涉及的液处理装置具备罐、循环管线、泵、过滤器、背压阀以及控制部。罐用于贮存处理液。循环管线用于使从罐送出的处理液返回罐。泵用于形成循环管线中的处理液的循环流。过滤器设置于循环管线中的泵的下游侧。背压阀设置于循环管线中的过滤器的下游侧。控制部控制泵和背压阀。而且，控制部控制泵的喷出压力，以使在开始进行循环管线中的处理液的循环时，泵的喷出压力上升到规定的第一压力，并且在经过规定的时间后，泵的喷出压力增加到比第一压力大的第二压力。

公开(公告)号：CN112997276A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201980072859.4

申请日：2019-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天井胜 ,  田中志信 ,  须中郁雄 ,  香川兴司

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开提供一种能够对基片供给具有稳定的臭氧浓度的臭氧水的基片处理装置、基片处理方法和计算机可读存储介质。基片处理装置包括：构成为能够供给臭氧气体的臭氧气体供给部；构成为能够供给呈现出规定的氢离子浓度的调整液的调整液供给部；构成为能够使臭氧气体溶解于调整液而生成臭氧水的溶解部；构成为能够用臭氧水来对基片进行清洗处理的至少一个处理腔室；和构成为能够通过送液线路将臭氧水从溶解部输送到至少一个处理腔室的送液部。

公开(公告)号：CN112582302A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN202010986383.X

申请日：2020-09-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上村史洋 ,  笠原政俊 ,  南辉臣 ,  须中郁雄

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够抑制处理液的消耗量并且提高液处理的面内均匀性。基板处理方法包括以下工序：基板升温工序，将基板进行加热来使所述基板的温度上升；液膜形成工序，在所述基板升温工序之后，将所述基板进行加热，并且一边使所述基板以第一转速旋转一边向所述基板的第一面供给预湿液，来在所述基板的第一面形成所述预湿液的液膜；药液处理工序，在所述液膜形成工序之后，将所述基板进行加热，并且一边使所述基板以比所述第一转速低的第二转速旋转一边向所述基板的第一面供给药液，来通过所述药液对所述基板的第一面进行处理；以及基板降温工序，在所述药液处理工序之后，使所述基板的温度下降。

公开(公告)号：CN104854688B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201380063468.9

申请日：2013-12-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  须中郁雄

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: G01N21/88 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67326 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/67733 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775

Abstract: 基板处理装置包括：装载部，向该装载部输入输送容器；检测部，其用于对输入到装载部的、盖体被拆卸后的输送容器内的基板的收纳状况进行检测；处理部，其用于对自输入到装载部的输送容器取出的基板进行处理；以及控制部。控制部用于执行第1步骤、第2步骤以及第3步骤，在该第1步骤中，在将基板自输入到装载部的输送容器向处理部交付之前对输送容器内的基板的收纳状况进行检测，在该第2步骤中，在使经处理部处理过的基板返回到原来的输送容器之后且在将盖体关闭之前，对该输送容器内的基板的收纳状况进行检测，在该第3步骤中，根据第1步骤和第2步骤来对输送容器是否异常进行判断。