公开(公告)号：CN103372525A

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201310145350.2

申请日：2013-04-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 安藤了至 ,  佐藤尊三

IPC: B05C11/10 ,  G01F1/66

CPC classification number: G01F1/66 ,  B05C11/1013

Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理方法。通过处理液对基板进行处理时能够高精度地测量处理液的流量并监视处理液的喷射状态。液处理装置（10）包括处理液供给源（31）和流路构件且在流路构件上具有超声波流量计（40）和用于将处理液送出到喷嘴（50）的送液机构。超声波流量计在管（41）的周向上具有成对的压电元件（42），通过在两个方向上执行由一个压电元件激发超声波和由另一个压电元件检测所激发的超声波的操作，能够基于自超声波产激发到检测为止的时间来测定管内的1mL/sec以下的处理液的流量。另外，液处理装置构成为能够基于由流量计观测到的流量的波形的变化来监视处理液中的气泡、处理液的喷射状态等。

公开(公告)号：CN103372525B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201310145350.2

申请日：2013-04-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 安藤了至 ,  佐藤尊三

IPC: B05C11/10 ,  G01F1/66

CPC classification number: G01F1/66 ,  B05C11/1013

Abstract: 本发明提供液处理装置和液处理方法。通过处理液对基板进行处理时能够高精度地测量处理液的流量并监视处理液的喷射状态。液处理装置（10）包括处理液供给源（31）和流路构件且在流路构件上具有超声波流量计（40）和用于将处理液送出到喷嘴（50）的送液机构。超声波流量计在管（41）的周向上具有成对的压电元件（42），通过在两个方向上执行由一个压电元件激发超声波和由另一个压电元件检测所激发的超声波的操作，能够基于自超声波产激发到检测为止的时间来测定管内的1mL/sec以下的处理液的流量。另外，液处理装置构成为能够基于由流量计观测到的流量的波形的变化来监视处理液中的气泡、处理液的喷射状态等。

公开(公告)号：CN103403503A

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201280011309.X

申请日：2012-02-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  株式会社堀场先进技术

Inventor： 佐藤尊三 ,  安藤了至 ,  内村幸治

IPC: G01F1/66 ,  G01N29/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01F1/66 ,  G01F1/667 ,  G01F1/74

Abstract: 本发明使处理液用流量计具有各种功能，从而使可用性良好。具体而言，本发明对在供给配管200中流动的处理液的流速进行测定，且包括：一对超音波振动器2、3，在所述供给配管200的流动方向上，隔开固定距离地配置；流速计算部4，基于第1到达时间T1及第2到达时间T2，对所述处理液的流速进行计算，所述第1到达时间T1是自一个超音波振动器2发出的超音波到达另一个超音波振动器3的时间，所述第2到达时间T2是自所述另一个超音波振动器3发出的超音波到达所述一个超音波振动器2的时间；以及气泡混入判断部5，基于计算出的所述处理液的流速的时间变化量，判断所述处理液中是否混入有气泡。

公开(公告)号：CN108735631B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN201810371461.8

申请日：2018-04-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中溝贤治 ,  守田聪 ,  田中明贤 ,  小宫洋司 ,  中岛幹雄 ,  福田孝佑 ,  正木洋一 ,  安藤了至 ,  须中郁雄

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供一种探测流路开闭部的异常的处理装置、异常探测方法以及存储介质。实施方式的一种方式所涉及的处理装置具备腔室、喷嘴、流量测量部、流路开闭部以及控制部。腔室用于收容被处理体。喷嘴设置于腔室内，用于向被处理体供给处理液。流量测量部用于测量向喷嘴供给的处理液的流量。流路开闭部进行向喷嘴供给处理液的供给流路的开闭。控制部向流路开闭部输出用于进行关闭供给流路的闭动作的闭信号。另外，控制部根据在输出闭信号之后由流量测量部测量得到的流量的累积量来探测流路开闭部的动作异常。

公开(公告)号：CN107104065B

公开(公告)日：2021-11-12

申请号：CN201710087455.5

申请日：2017-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原正幸 ,  安藤了至 ,  正木洋一 ,  稻田博一

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01J37/305

Abstract: 本发明提供一种在通过共用的排气通路对产生包含附着成分的气氛的多个基板处理部的气氛进行排气时，能够可靠地检测每个基板处理部的独立排气通路的异常的技术。在利用排气能力设备通过共用排气通路(60)对在晶片(W)进行抗蚀剂涂敷的多个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)排气时，测定每个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)的独立排气管(50A～50D)的排气压力与共用排气通路(60)的排气压力，比较各测定值与对应的容许压力范围。因此，能够可靠地检测出独立排气管(50A～50D)中的附着物的堵塞等的异常。

公开(公告)号：CN108735631A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201810371461.8

申请日：2018-04-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中溝贤治 ,  守田聪 ,  田中明贤 ,  小宫洋司 ,  中岛幹雄 ,  福田孝佑 ,  正木洋一 ,  安藤了至 ,  须中郁雄

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67253 ,  G01F9/001 ,  G01F15/005 ,  G01F25/0007 ,  G01M1/00 ,  G01M3/2876 ,  G05B23/0235 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/67017

Abstract: 提供一种探测流路开闭部的异常的处理装置、异常探测方法以及存储介质。实施方式的一种方式所涉及的处理装置具备腔室、喷嘴、流量测量部、流路开闭部以及控制部。腔室用于收容被处理体。喷嘴设置于腔室内，用于向被处理体供给处理液。流量测量部用于测量向喷嘴供给的处理液的流量。流路开闭部进行向喷嘴供给处理液的供给流路的开闭。控制部向流路开闭部输出用于进行关闭供给流路的闭动作的闭信号。另外，控制部根据在输出闭信号之后由流量测量部测量得到的流量的累积量来探测流路开闭部的动作异常。

公开(公告)号：CN107104065A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201710087455.5

申请日：2017-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原正幸 ,  安藤了至 ,  正木洋一 ,  稻田博一

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01L21/67063 ,  H01J37/3053 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/3151 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种在通过共用的排气通路对产生包含附着成分的气氛的多个基板处理部的气氛进行排气时，能够可靠地检测每个基板处理部的独立排气通路的异常的技术。在利用排气能力设备通过共用排气通路(60)对在晶片(W)进行抗蚀剂涂敷的多个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)排气时，测定每个抗蚀剂涂敷单元(10A～10D)的独立排气管(50A～50D)的排气压力与共用排气通路(60)的排气压力，比较各测定值与对应的容许压力范围。因此，能够可靠地检测出独立排气管(50A～50D)中的附着物的堵塞等的异常。