公开(公告)号：CN102479736A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201110396126.1

申请日：2011-11-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 出口雅敏 ,  船越秀朗 ,  武井利亲 ,  佐藤礼史 ,  清田弥 ,  石丸大辅 ,  待鸟真一 ,  须中郁雄 ,  龟井繁则

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。

公开(公告)号：CN1421281A

公开(公告)日：2003-06-04

申请号：CN02154348.8

申请日：2002-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 北野高广 ,  古闲法久 ,  武井利亲 ,  川渊义行

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B13/041 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/1013

Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定，在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5)，喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端，在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分，其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分，使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。

公开(公告)号：CN119495625A

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202411099049.7

申请日：2024-08-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井利亲

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本公开说明一种基板搬送装置和基板搬送方法。基板搬送装置具备搬送臂。搬送臂包括：基部；至少一个臂部，至少一个臂部以从基部延伸的方式连接于基部，并且以包围基板的外周的方式延伸；多个吸附部，多个吸附部设置于至少一个臂部，并且多个吸附部分别包括对基板的背面的周缘部进行吸附的吸引口；以及多个吸引通路，多个吸引通路设置于至少一个臂部。多个吸附部包括：第一吸附部组，其包括第一吸附部和第二吸附部；以及第二吸附部组，其包括第三吸附部和第四吸附部。多个吸引通路包括：第一吸引通路，其与第一吸附部及第二吸附部的吸引口连接；以及第二吸引通路，其与第三吸附部及第四吸附部的吸引口连接。

公开(公告)号：CN1275701C

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN02154348.8

申请日：2002-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 北野高广 ,  古闲法久 ,  武井利亲 ,  川渊义行

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B13/041 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/1013

Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定，在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5)，喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端，在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分，其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分，使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。

公开(公告)号：CN115985807A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202211221700.4

申请日：2022-10-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 水永耕市 ,  武井利亲

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本公开涉及一种基板处理装置，能够提高热处理中的基板的吸附性，从而提高热处理的均匀性。热处理单元(U2)具备：热板(20)，其用于载置晶圆(W)，并且对所载置的晶圆(W)进行加热；多个间隙构件(22)，所述多个间隙构件(22)沿着热板(20)的用于载置晶圆(W)的表面(20a)形成，用于支承晶圆(W)并在热板(20)与晶圆(W)之间确保空隙(V)；吸引部(70)，其将晶圆(W)以朝向热板(20)的方式进行吸引；以及升降销(51)，其以贯通热板(20)的方式设置，所述升降销(51)通过进行升降来使载置于热板(20)的晶圆(W)升降，热板(20)的表面(20a)具有随着从外侧去向内侧而向下方倾斜的凹状区域(20d)。

公开(公告)号：CN102479736B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201110396126.1

申请日：2011-11-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 出口雅敏 ,  船越秀朗 ,  武井利亲 ,  佐藤礼史 ,  清田弥 ,  石丸大辅 ,  待鸟真一 ,  须中郁雄 ,  龟井繁则

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。