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公开(公告)号：CN113237446A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110414926.5
申请日：2021-04-17
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种复合型纳米膜厚标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域为几何薄膜结构测量工作区域，所述的第二测量工作区域为物性薄膜结构测量工作区域，两测量工作区域厚度参数相同，所述的第一测量工作区域设有几何结构工作框，所述的工作框四边外周设有一级循迹标识，在工作框内部设有二级循迹标识，工作框中部则设有中心几何薄膜结构，所述的第二测量工作区域设有物性薄膜结构中心圆，其外周布置有带箭头循迹标识，所述物性薄膜结构中心圆的外周还顺序设有第一外环、第二外环和第三外环。
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公开(公告)号：CN111967100A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010725389.1
申请日：2020-07-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种基于改进蚁群算法拟合螺纹中轴线的方法，其特征在于：步骤1：由光学扫描或螺纹测量仪器获得螺纹表面点云的三维坐标数据作为改进蚁群算法的输入样本；步骤2：根据螺纹表面三维坐标点到中轴线的距离方差最小的原则建立立体几何数学模型，根据两点确定一条直线的原则确定螺纹内部区域内两点共6个坐标值；步骤3：将采集的螺纹三维数据投影到二维面上，估算出中轴线上两点坐标共六个参数的初始区间；步骤4：建立改进蚁群算法框架，算法框架由设置初始状态，信息素更新，设定选择概率，选定转移方法，贪婪处理以及结束原则六部分组成。步骤5：通过拟合程序将上述步骤过程及获得的数据整合后输出螺纹中轴线的两点式。
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公开(公告)号：CN111336935A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010242951.5
申请日：2020-03-31
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
Abstract: 本发明为一种基于改进混合优化算法的纳米薄膜参数反演计算方法，其特征在于：所述的纳米薄膜是在基底层上镀介质薄膜后形成的顺序由基底层、中间层和介质薄膜层组成的三层结构纳米薄膜，所述的混合优化算法是利用爬山算法对全连接神经网络的权值进行迭代优化而建立的混合优化算法，通过对椭偏仪测量介质薄膜层得到的椭偏参数值进行数据反演计算，并结合测量时的环境参数值和基底层已知参数值以得出纳米薄膜的厚度及光学参数。本发明保证了利用椭偏仪的测量数据计算出介质薄膜层厚度及光学常数这一过程精确且快速，为利用光谱型椭偏仪测量介质薄膜层的参数提供了数据处理方法保障。
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公开(公告)号：CN109238155B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201811296986.6
申请日：2018-11-01
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法，其特征在于：所述测量SiO2薄膜厚度的方法是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量SiO2薄膜的厚度，所述的等效物理结构模型是根据SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型，实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底层，其中所述的中间混合层为Si基底层与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本发明可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性，为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。
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公开(公告)号：CN106931916A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201710130912.4
申请日：2017-03-07
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
CPC classification number: G01B21/042 , G01B15/00 , G01Q40/02
Abstract: 本发明为一种微纳米台阶标准样板及其循迹方法，其特征在于：所述的微纳米台阶标准样板包括A工作区域及B循迹区域；所述的A工作区域内设有一个纳米级台阶、四个校准定位块及四个循迹参考定位块，通过所述B循迹区域内两对相互对称的等腰三角形形状的循迹标识符配合设置的设计单位标识符和样板型号标识符，确定微纳米台阶标准样板摆放方向与具体位置，通过所述A工作区域内的四个校准定位块在A工作区域内从纵向上快速校准定位，通过所述A工作区域内的四个循迹参考定位块在A工作区域内从横向上快速进行定位，并通过两两循迹参考定位块间的间隙确定测量的初始位置，完成整个校准过程，实现快速、高效的定位和校准，并具有很好的重复性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119268563A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411599697.9
申请日：2024-11-11
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明为一种基于激光干涉仪的纳米光栅位姿校准系统，包括光路系统及位移台驱动系统，所述的位移台驱动系统包括四轴位移台，所述的四轴位移台的安装台面上设有用于安装纳米光栅的纳米光栅支架和激光干涉仪，所述的纳米光栅通过四轴位移台依次对纳米光栅三轴方向角度分别进行修正，包括俯仰、横滚与偏摆三自由度上的自由转动以及光栅轴线方向上的线位移。本发明采用激光干涉仪测量值作为光栅姿态的修正反馈，将光栅位移测量系统的测量值与其进行比对，判断四轴位移台各轴的调整方向，最后再经由多次驱动四轴位移台，将纳米光栅支架调整至理想位置，解决纳米光栅位姿误差问题。
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公开(公告)号：CN119126322A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411327663.4
申请日：2024-09-23
Abstract: 本发明为一种双光栅角度调整用旋转位移台及调整光栅对平行的方法，所述的旋转位移台包括位于底部的微振动位移台、设于所述微振动位移台上的一对结构相同且背对设置的光栅调节夹具及位于两光栅调节夹具中间的光面接收屏，两所述的光栅调节夹具分别包括固定于各自相应的光栅三轴调节装置上的伸缩式光栅夹具，所述的调整光栅对平行的方法通过调节两伸缩式光栅夹具分别夹持的标准光栅A和待测光栅B的俯仰、滚转、偏摆角度，使两光栅各自的反射光分别与线光源通过水平狭缝形成的准直线光垂直完成栅面平行调整，使两光栅各自的衍射光连线分别与线光源通过水平狭缝形成的准直线光平行完成栅线平行调整。本发明采用模块化设计，结构紧凑，便于安装拆卸。
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公开(公告)号：CN116558447A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310592305.5
申请日：2023-05-24
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第一光栅和第二光栅的偏摆角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一水平直线，实现两光栅栅面平行调整，利用第一光栅和第二光栅的衍射效应，通过调节第一光栅和第二光栅的绕水平方向旋转的旋转角度，使照射在观察屏上的两束光斑在处于同一竖直方向直线，实现两光栅栅线平行调整。本发明结构简单，原理易懂，便于操作实现。
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公开(公告)号：CN115112028A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210957257.0
申请日：2022-08-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光束，激光光束依次经所述滤光轮、光隔离器和反射镜组后以入射角θ输出进入起偏调制模块，形成调制偏振光入射到样品台上的待测样品后反射进入检偏调制模块进行偏振态调制，最后进入信号采集处理模块被所述硅探测器接收；所述信号采集单元将所述硅探测器接收到的光强信号转换为数字信号，并进行数据处理。
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公开(公告)号：CN109341523B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201811166364.1
申请日：2018-10-08
Applicant: 中国计量大学 , 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明提供一种点衍射干涉三坐标测量装置探头端面调平方法，涉及测量技术领域。采用基于波面对称的探头零点位置调整方法，探测器获取初始波面数据，将探头旋转180°，平移探头再次获取波面，将波面数据旋转180°后与初始波面数据作差值，将探头平移至初始位置和差值为极小值位置的中点位置，为探头零点位置，调整探头的倾斜角并获取波面数据，利用泽尼克多项式拟合方法对波面数据进行拟合得到xy方向倾斜项系数，调节至该系数为极大值时的角度，实现探头端面调平。本发明解决了现有技术中探头端面相对探测面调平困难影响测量精度的技术问题。本发明有益效果为：确定探头端面状态，满足测量模型求解要求，使三维坐标重构结果更加快速和精确。
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