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公开(公告)号：CN108886004B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201780015110.7
申请日：2017-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。
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公开(公告)号：CN119452245A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380045341.8
申请日：2023-07-25
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种方法包含产生仅用于计量过程中的样品的特性的不合规检测的取样计划。所述方法还包含通过使用所述所产生的取样计划对所述样品执行所述计量过程来产生所述样品的输出。另外，所述方法包含基于所述所产生的输出来确定所述样品的所述特性及基于所述样品的所述所确定特性来检测所述样品中的一或多者的所述特性是否不合规。本文所描述的实施例特别适合于具有经配置仅用于叠加的不合规检测的大体上稀疏取样计划的叠加计量。
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公开(公告)号：CN114945873B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202180009170.4
申请日：2021-01-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的一组样本的第一层上获取一组前馈叠加测量值；基于所述组前馈叠加测量值产生用于所述当前批次样本的所述组样本的一组人工叠加向量图；及致使光刻工具基于所述参考晶片叠加图及所述组人工叠加向量图制造所述当前批次样本的样本的第二层。
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公开(公告)号：CN114945873A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202180009170.4
申请日：2021-01-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开一种叠加控制系统。在实施例中，所述系统可包含控制器，所述控制器经配置以：基于记录计划(POR)取样图在至少一个先前批次样本的样本的第二层上获取一组反馈叠加测量值；基于所述组反馈叠加测量值产生参考晶片叠加图；基于前馈取样图在当前批次样本的一组样本的第一层上获取一组前馈叠加测量值；基于所述组前馈叠加测量值产生用于所述当前批次样本的所述组样本的一组人工叠加向量图；及致使光刻工具基于所述参考晶片叠加图及所述组人工叠加向量图制造所述当前批次样本的样本的第二层。
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公开(公告)号：CN108886004A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780015110.7
申请日：2017-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。
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