曝光装置、物品的制造方法以及曝光方法

    公开(公告)号:CN120029010A

    公开(公告)日:2025-05-23

    申请号:CN202411649297.4

    申请日:2024-11-19

    Abstract: 本发明涉及曝光装置、物品的制造方法及曝光方法。提供能以减少不良区域的方式曝光处理基板的曝光装置。本发明的曝光装置将原版图案的像投影到基板,曝光基板,具备投影光学系统,通过将通过了原版的曝光用光向基板导光,将像投影到基板的基板面上;原版载置台,在曝光基板面上的预定拍摄区域时,边保持原版边在与基板面平行的第1方向上扫描移动;基板载置台,在对预定拍摄区域进行曝光时,边保持基板边沿第1方向扫描移动;遮光部,对导光到基板的曝光用光一部分进行遮光;控制部,进行再次开始工序,在预定的拍摄区域的曝光中断时,边以使曝光用光不被导光至预定拍摄区域中的正常曝光区域的方式控制遮光部,边再次开始预定拍摄区域的曝光。

    图案化方法、光刻装置和物品制造方法

    公开(公告)号:CN113703288B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202111042107.9

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记,并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后,基于多个第一基板侧标记的检测结果,光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。

    光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法

    公开(公告)号:CN113960898A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202110798112.6

    申请日:2021-07-15

    Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置,具有:标记形成部,将照射光照射到基板,形成标记;控制部,控制标记形成部;以及标记测量部,测量标记的位置,控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息,决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。

    图案化方法、光刻装置和物品制造方法

    公开(公告)号:CN109426098B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN201810998752.X

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明涉及图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记,并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后,基于多个第一基板侧标记的检测结果,光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。

    图案化方法、光刻装置和物品制造方法

    公开(公告)号:CN113703288A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202111042107.9

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记,并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后,基于多个第一基板侧标记的检测结果,光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。

    图案形成方法以及物品的制造方法

    公开(公告)号:CN112147857A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010586039.1

    申请日:2020-06-24

    Abstract: 本公开涉及图案形成方法以及物品的制造方法。一种图案形成方法,在基板上的1层形成多个图案,所述图案形成方法包括:第1测量工序,分别测量形成在所述基板上的多个标记;第1形成工序,在所述基板上的1层形成第1图案;第2测量工序,测量所述多个标记中的至少一部分标记;以及第2形成工序,在根据第1测量工序中的测量结果和所述第2测量工序中的测量结果而决定的位置形成第2图案,在所述第2测量工序中,在与所述第1测量工序中的测量结果对应的测量条件下进行所述标记的测量。

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