公开(公告)号：CN109932870A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201811521277.3

申请日：2018-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  伊藤正裕 ,  川端宣幸 ,  雨宫靖 ,  土井贤 ,  黑泽良昭 ,  金田崇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。

公开(公告)号：CN109932870B

公开(公告)日：2021-07-27

申请号：CN201811521277.3

申请日：2018-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  伊藤正裕 ,  川端宣幸 ,  雨宫靖 ,  土井贤 ,  黑泽良昭 ,  金田崇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。

公开(公告)号：CN115774379A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211094890.8

申请日：2022-09-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  池田研二 ,  日置真则 ,  川端宣幸 ,  早迫瞭 ,  铃木佑

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。一种曝光装置，在形成有第1层的基板上重叠地曝光第2层的图案，该第1层包含包括由透射过原版的图案形成区域的光形成的第1图案的第1图案区域和包括由透射过原版的图案形成区域的一部分的区域的光形成的第2图案的第2图案区域，所述曝光装置具有：检测部，检测对准标记；以及控制部，控制原版和基板的对位，所述控制部根据包括用于求取第1图案区域和第2图案区域的位置偏移的对准标记的多个对准标记的检测结果，为了第2层中的图案形成，控制原版和基板的对位。

公开(公告)号：CN113960898A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202110798112.6

申请日：2021-07-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉冈泰智 ,  川端宣幸 ,  池田研二 ,  安斋干人 ,  铃木佑 ,  北川纯

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置，具有：标记形成部，将照射光照射到基板，形成标记；控制部，控制标记形成部；以及标记测量部，测量标记的位置，控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息，决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。