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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114859663A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210096981.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及信息处理装置、信息处理方法以及物品的制造方法。【课题】缩短装置中的异常的原因分析的时间。【解决手段】一种信息处理装置，累积对基板进行处理的基板处理装置中的日志，信息处理装置具有：累积部，累积日志；控制部，以从累积于所述累积部的日志中选择特定的日志的方式进行控制；以及发送部，将由所述控制部选择的日志发送给外部，所述控制部当在所述基板处理装置中发生了错误时，根据已学习模型，选择累积于所述累积部的日志中的相关度超过阈值的日志。
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公开(公告)号：CN113495437A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110353498.X
申请日：2021-04-01
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及曝光装置、图案形成装置以及曝光方法。抑制MMG技术中的图案的形成精度降低。在基板上对第1图案进行扫描曝光的曝光装置具有：标记形成部，在基板上形成多个对准标记；第1测量部，测量由标记形成部形成的多个对准标记的位置；以及输出部，输出由第1测量部测量的对准标记的位置信息，使得能够在对第2图案进行曝光的另一个曝光装置中利用，标记形成部在第1基板位置形成包括至少2个对准标记的第1标记组之后，在使基板在包括与连接第1标记组的2个对准标记的直线垂直的分量的方向上移动后的第2基板位置形成包括至少2个对准标记的第2标记组，在使基板从第1基板位置向第2基板位置移动的方向上对第1图案进行扫描曝光。
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公开(公告)号：CN117170190A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310620836.0
申请日：2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、物品的制造方法及曝光方法。提供能简易降低接合区域的累计曝光量中不均匀的曝光装置。本发明的曝光装置特征在于具备：照明光学系统，包括能在非扫描方向上移动的遮光部，具有供来自光源的曝光的光通过的开口和各自能调整开口在非扫描方向的预定位置的扫描方向的宽度的多个形状调整部，将曝光的光导光到原版；控制部，以使在对第1曝光区域曝光时沿着曝光的光的光路投影时包含于第1曝光区域的第1接合区域内的形状调整部在非扫描方向上的配置、和在对第2曝光区域曝光时沿着曝光的光的光路投影时包含于第2曝光区域的第2接合区域内的形状调整部在非扫描方向的配置不同的方式控制原版载置台与开口之间非扫描方向的相对位置。
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公开(公告)号：CN115343923A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210504569.6
申请日：2022-05-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了标记检测装置、标记学习装置和基板加工装置。标记检测装置，包括：成像单元，被配置成通过对物体上的对准标记成像来生成对准标记图像；检测单元，被配置成检测对准标记图像中的对准标记；以及调节单元，被配置成基于如下的学习模型来调节与成像相关的参数，所述学习模型是通过使用其中不能检测到对准标记的对准标记图像和作为用于对其中能够检测到对准标记的对准标记图像成像的参数的第一参数进行学习而生成的。调节单元取得作为基于学习模型的推断处理的结果的第二参数。成像单元在参数被调节为第二参数的状态下执行成像。
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公开(公告)号：CN112147857A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010586039.1
申请日：2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本公开涉及图案形成方法以及物品的制造方法。一种图案形成方法，在基板上的1层形成多个图案，所述图案形成方法包括：第1测量工序，分别测量形成在所述基板上的多个标记；第1形成工序，在所述基板上的1层形成第1图案；第2测量工序，测量所述多个标记中的至少一部分标记；以及第2形成工序，在根据第1测量工序中的测量结果和所述第2测量工序中的测量结果而决定的位置形成第2图案，在所述第2测量工序中，在与所述第1测量工序中的测量结果对应的测量条件下进行所述标记的测量。
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