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公开(公告)号：CN113439238A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080014196.3
申请日：2020-01-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。
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公开(公告)号：CN113703288B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202111042107.9
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN117170193A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310626355.0
申请日：2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、存储介质、曝光装置以及物品制造方法。提供有利于高精度地校正投影光学系统的成像特性的变动的技术。决定在表示投影光学系统的成像特性的变动的模型公式中使用的、表示提供给投影光学系统的每单位光能的成像特性的变动量的系数的决定方法具有：进行成像特性的测量的工序以及基于通过测量得到的测量值和使用模型公式得到的成像特性的预测值来决定系数的工序，模型公式包括表示进行基板曝光的期间的成像特性的变动的曝光模型公式和表示进行测量的期间的成像特性的变动的测量模型公式，进行曝光的期间的成像特性的预测值使用曝光模型公式求出，进行测量的期间的成像特性的预测值使用测量模型公式求出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109426098B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201810998752.X
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN119065199A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202410658407.7
申请日：2024-05-27
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供有利于兼顾生产节拍提高和针对成像特性的变动的校正精度提高技术。曝光装置具有投影光学系统，将掩模的图案向基板投影；测量部，测量投影光学系统的成像特性；调整部，调整投影光学系统的成像特性；以及控制部，按照模型式来预测因投影光学系统吸收曝光能量而产生的成像特性的变动，并基于该预测的结果来控制调整部，控制部根据第1预测值与第2预测值之差超过容许范围，实施测量部的接下来的测量，第1预测值是根据应用了预先设定的第1系数值的第1模型式计算出的成像特性的预测值，第2预测值是根据应用了基于测量部的测量的结果而决定的第2系数值的第2模型式计算出的成像特性的预测值。
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公开(公告)号：CN113439238B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202080014196.3
申请日：2020-01-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。
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公开(公告)号：CN113703288A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111042107.9
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN109426098A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810998752.X
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/00 , G03F1/42 , G03F7/70141 , G03F7/70358 , G03F7/70541 , G03F7/70591 , G03F7/7085
Abstract: 本发明涉及图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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