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公开(公告)号:CN119689788A
公开(公告)日:2025-03-25
申请号:CN202411313464.8
申请日:2024-09-20
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了处理装置及物品制造方法。一种处理装置对于基板执行预定处理。装置包括被配置为驱动保持基板的台的驱动器、被配置为以第一频率操作并且控制驱动器的第一控制器、被配置为以高于第一频率的第二频率操作并且基于台的位置来生成命令的第二控制器,以及被配置为响应于命令执行预定处理和预定处理的准备处理中的一个的设备。
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公开(公告)号:CN111580358B
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202010089788.3
申请日:2020-02-13
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括:第1曝光装置,对基板的第1拍摄区域曝光;第2曝光装置,对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光;标志形成装置,在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部,第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部,根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息,决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数,反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。
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公开(公告)号:CN113960898A
公开(公告)日:2022-01-21
申请号:CN202110798112.6
申请日:2021-07-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置,具有:标记形成部,将照射光照射到基板,形成标记;控制部,控制标记形成部;以及标记测量部,测量标记的位置,控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息,决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。
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公开(公告)号:CN111580358A
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN202010089788.3
申请日:2020-02-13
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括:第1曝光装置,对基板的第1拍摄区域曝光;第2曝光装置,对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光;标志形成装置,在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部,第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部,根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息,决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数,反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。
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