公开(公告)号：CN113960898A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202110798112.6

申请日：2021-07-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉冈泰智 ,  川端宣幸 ,  池田研二 ,  安斋干人 ,  铃木佑 ,  北川纯

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置，具有：标记形成部，将照射光照射到基板，形成标记；控制部，控制标记形成部；以及标记测量部，测量标记的位置，控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息，决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。

公开(公告)号：CN116482946A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202310085005.8

申请日：2023-01-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 白尾纮祥 ,  木岛渉 ,  米田慎吾 ,  北川纯 ,  高井雄大

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光方法、曝光装置以及物品的制造方法。一种在基板的第1拍摄区域曝光原版的图案，在与前述第1拍摄区域的一部分重复的第2拍摄区域曝光原版的图案的曝光方法，包含：第1测量工序，测量与前述第1拍摄区域对应的对准标记的位置；以及曝光工序，基于在前述第1测量工序中测量出的结果进行曝光，在前述曝光工序中，基于在前述第1测量工序中测量出的前述对准标记的位置信息进行前述第1拍摄区域的对位，使用用于前述第1拍摄区域的对位的对准标记的位置信息进行前述第2拍摄区域的对位。

公开(公告)号：CN118974660A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202280094082.3

申请日：2022-12-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 北川纯 ,  白尾纮祥 ,  米田慎吾 ,  木岛涉 ,  高井雄大

IPC: G03F7/20

Abstract: 为了提供能够考虑用于抑制在曝光装置中提供的光学系统的温度变化的控制来获得该光学系统的光学特性的变化量的信息处理装置，根据本发明的信息处理装置被配置为通过将光学系统的目标温度输入到学习模型来预测光学系统的光学特性的变化量。