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公开(公告)号：CN113267966A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110176658.8
申请日：2021-02-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及测量方法、曝光方法、物品的制造方法及存储介质。测量方法对形成于应转印原版图案的基板上的拍摄区域的多个测量标记进行测量，具有：针对至少1个基板，基于执行对形成于基板上的拍摄区域的多个测量标记中第1数量的测量标记进行测量的第1测量模式而得的第1数量测量标记的测量值，计算与拍摄区域的位置相关的第1位置信息；在设为测量比第1数量少的第2数量的测量标记时，基于第1位置信息针对计算与拍摄区域位置相关的位置信息的多个模型，预测第2位置信息；根据第2位置信息求出评价多个模型的各模型的多个第1评价值；基于与多个第1评价值中满足评价基准的第1评价值对应的模型，将测量模式从第1测量模式转变为第2测量模式。
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公开(公告)号：CN113267966B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202110176658.8
申请日：2021-02-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及测量方法、曝光方法、物品的制造方法及存储介质。测量方法对形成于应转印原版图案的基板上的拍摄区域的多个测量标记进行测量，具有：针对至少1个基板，基于执行对形成于基板上的拍摄区域的多个测量标记中第1数量的测量标记进行测量的第1测量模式而得的第1数量测量标记的测量值，计算与拍摄区域的位置相关的第1位置信息；在设为测量比第1数量少的第2数量的测量标记时，基于第1位置信息针对计算与拍摄区域位置相关的位置信息的多个模型，预测第2位置信息；根据第2位置信息求出评价多个模型的各模型的多个第1评价值；基于与多个第1评价值中满足评价基准的第1评价值对应的模型，将测量模式从第1测量模式转变为第2测量模式。
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公开(公告)号：CN115774379A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211094890.8
申请日：2022-09-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。一种曝光装置，在形成有第1层的基板上重叠地曝光第2层的图案，该第1层包含包括由透射过原版的图案形成区域的光形成的第1图案的第1图案区域和包括由透射过原版的图案形成区域的一部分的区域的光形成的第2图案的第2图案区域，所述曝光装置具有：检测部，检测对准标记；以及控制部，控制原版和基板的对位，所述控制部根据包括用于求取第1图案区域和第2图案区域的位置偏移的对准标记的多个对准标记的检测结果，为了第2层中的图案形成，控制原版和基板的对位。
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公开(公告)号：CN113960898A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202110798112.6
申请日：2021-07-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置，具有：标记形成部，将照射光照射到基板，形成标记；控制部，控制标记形成部；以及标记测量部，测量标记的位置，控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息，决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。
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