公开(公告)号：CN115774379A

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202211094890.8

申请日：2022-09-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  池田研二 ,  日置真则 ,  川端宣幸 ,  早迫瞭 ,  铃木佑

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。一种曝光装置，在形成有第1层的基板上重叠地曝光第2层的图案，该第1层包含包括由透射过原版的图案形成区域的光形成的第1图案的第1图案区域和包括由透射过原版的图案形成区域的一部分的区域的光形成的第2图案的第2图案区域，所述曝光装置具有：检测部，检测对准标记；以及控制部，控制原版和基板的对位，所述控制部根据包括用于求取第1图案区域和第2图案区域的位置偏移的对准标记的多个对准标记的检测结果，为了第2层中的图案形成，控制原版和基板的对位。

公开(公告)号：CN113960898A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202110798112.6

申请日：2021-07-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉冈泰智 ,  川端宣幸 ,  池田研二 ,  安斋干人 ,  铃木佑 ,  北川纯

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光刻装置、标记形成方法以及图案形成方法。抑制基板的图案形成中的生产效率降低。一种在基板上形成图案的光刻装置，具有：标记形成部，将照射光照射到基板，形成标记；控制部，控制标记形成部；以及标记测量部，测量标记的位置，控制部根据与由标记形成部形成的标记的形成位置有关的信息，决定在形成第1标记时的从标记形成部照射到基板的照射光和基板的相对位置以及在测量第1标记时的标记测量部和基板的相对位置中的至少一方。

公开(公告)号：CN119065199A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202410658407.7

申请日：2024-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗田裕介 ,  铃木佑 ,  边见和大

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供有利于兼顾生产节拍提高和针对成像特性的变动的校正精度提高技术。曝光装置具有投影光学系统，将掩模的图案向基板投影；测量部，测量投影光学系统的成像特性；调整部，调整投影光学系统的成像特性；以及控制部，按照模型式来预测因投影光学系统吸收曝光能量而产生的成像特性的变动，并基于该预测的结果来控制调整部，控制部根据第1预测值与第2预测值之差超过容许范围，实施测量部的接下来的测量，第1预测值是根据应用了预先设定的第1系数值的第1模型式计算出的成像特性的预测值，第2预测值是根据应用了基于测量部的测量的结果而决定的第2系数值的第2模型式计算出的成像特性的预测值。