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公开(公告)号:CN117170193A
公开(公告)日:2023-12-05
申请号:CN202310626355.0
申请日:2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、存储介质、曝光装置以及物品制造方法。提供有利于高精度地校正投影光学系统的成像特性的变动的技术。决定在表示投影光学系统的成像特性的变动的模型公式中使用的、表示提供给投影光学系统的每单位光能的成像特性的变动量的系数的决定方法具有:进行成像特性的测量的工序以及基于通过测量得到的测量值和使用模型公式得到的成像特性的预测值来决定系数的工序,模型公式包括表示进行基板曝光的期间的成像特性的变动的曝光模型公式和表示进行测量的期间的成像特性的变动的测量模型公式,进行曝光的期间的成像特性的预测值使用曝光模型公式求出,进行测量的期间的成像特性的预测值使用测量模型公式求出。
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公开(公告)号:CN112147857A
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN202010586039.1
申请日:2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F9/00
Abstract: 本公开涉及图案形成方法以及物品的制造方法。一种图案形成方法,在基板上的1层形成多个图案,所述图案形成方法包括:第1测量工序,分别测量形成在所述基板上的多个标记;第1形成工序,在所述基板上的1层形成第1图案;第2测量工序,测量所述多个标记中的至少一部分标记;以及第2形成工序,在根据第1测量工序中的测量结果和所述第2测量工序中的测量结果而决定的位置形成第2图案,在所述第2测量工序中,在与所述第1测量工序中的测量结果对应的测量条件下进行所述标记的测量。
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公开(公告)号:CN115343922A
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202210504564.3
申请日:2022-05-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及求取基板的形状的方法、曝光方法、曝光装置、物品的制造方法以及存储介质。提供一种求取基板的形状的方法,其特征在于,具有:针对根据分配给多个第1基板中的每个第1基板的多个标记中的第1数量的标记的第1位置测量数据决定的所述多个第1基板中的每个第1基板所属的每个组,求取代表性地表示属于该组的第1基板的形状的代表数据的工序;以及根据分配给与所述多个第1基板不同的第2基板的多个标记中的比所述第1数量小的第2数量的标记的第2位置测量数据、以及与根据所述第2位置测量数据决定的所述第2基板所属的组对应的所述代表数据,求取表示所述第2基板的形状的形状数据的工序。
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公开(公告)号:CN113785308A
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202080028674.6
申请日:2020-03-26
IPC: G06K19/077 , G06F12/00
Abstract: 提供一种记录设备,用于将数据记录到存储卡,其特征在于,所述记录设备包括:控制部件,用于向所述存储卡重复地发送包括指定记录对象数据和记录目的地的信息的数据记录指令,所述存储卡将所述存储卡中的数据记录所用的存储器作为多个记录区域进行管理,并且能够以记录区域为单位执行具有保证的最低记录速度的数据记录,其中,所述控制部件在发送用于将第一记录区域的开头部分指定为记录目的地的第一数据记录指令时,通过将速度保证请求包括在所述第一数据记录指令中,来请求所述存储卡针对所述第一记录区域执行具有保证的最低记录速度的数据记录。
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