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公开(公告)号：CN113703288B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202111042107.9
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN109426098B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201810998752.X
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN117192906A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202310645481.0
申请日：2023-06-01
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及管理方法、曝光装置、曝光系统以及物品制造方法。提供关于在再利用所复制的作业的情况下的参数的调整上在工时方面有利的技术。管理对基板进行曝光的曝光装置中的曝光作业的管理方法具有：从其他曝光装置接收包含依赖于该其他曝光装置的装置特性的第1参数和不依赖于该装置特性而依赖于过程的第2参数的曝光作业的工序；基于预先得到的所述曝光装置可曝光的区域的全部区域的失真数据，计算出依赖于所述曝光装置的装置特性的第3参数的工序；以及通过将接收到的所述曝光作业中的所述第1参数置换为所述第3参数，得到在所述曝光装置中使用的曝光作业的工序。
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公开(公告)号：CN113703288A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111042107.9
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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公开(公告)号：CN109426098A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810998752.X
申请日：2018-08-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F1/00 , G03F1/42 , G03F7/70141 , G03F7/70358 , G03F7/70541 , G03F7/70591 , G03F7/7085
Abstract: 本发明涉及图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。
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