公开(公告)号：CN120029010A

公开(公告)日：2025-05-23

申请号：CN202411649297.4

申请日：2024-11-19

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 边见和大 ,  吉冈泰智 ,  日置真则

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置、物品的制造方法及曝光方法。提供能以减少不良区域的方式曝光处理基板的曝光装置。本发明的曝光装置将原版图案的像投影到基板，曝光基板，具备投影光学系统，通过将通过了原版的曝光用光向基板导光，将像投影到基板的基板面上；原版载置台，在曝光基板面上的预定拍摄区域时，边保持原版边在与基板面平行的第1方向上扫描移动；基板载置台，在对预定拍摄区域进行曝光时，边保持基板边沿第1方向扫描移动；遮光部，对导光到基板的曝光用光一部分进行遮光；控制部，进行再次开始工序，在预定的拍摄区域的曝光中断时，边以使曝光用光不被导光至预定拍摄区域中的正常曝光区域的方式控制遮光部，边再次开始预定拍摄区域的曝光。

公开(公告)号：CN119065199A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202410658407.7

申请日：2024-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗田裕介 ,  铃木佑 ,  边见和大

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。提供有利于兼顾生产节拍提高和针对成像特性的变动的校正精度提高技术。曝光装置具有投影光学系统，将掩模的图案向基板投影；测量部，测量投影光学系统的成像特性；调整部，调整投影光学系统的成像特性；以及控制部，按照模型式来预测因投影光学系统吸收曝光能量而产生的成像特性的变动，并基于该预测的结果来控制调整部，控制部根据第1预测值与第2预测值之差超过容许范围，实施测量部的接下来的测量，第1预测值是根据应用了预先设定的第1系数值的第1模型式计算出的成像特性的预测值，第2预测值是根据应用了基于测量部的测量的结果而决定的第2系数值的第2模型式计算出的成像特性的预测值。