公开(公告)号：CN119756795A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202411852341.1

申请日：2024-12-16

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 刘世杰 ,  陈大鹏 ,  张嘉怡 ,  鲁棋 ,  邵建达

IPC: G01M11/02 ,  G01M11/04 ,  G01B11/24

Abstract: 一种基于位移旋转法和二阶偏导法的光学平面绝对检测方法，包括：干涉仪、计算机、供干涉仪放置的光学平台、五维调整架、标准平面镜、待测平面镜。通过旋转待测平面镜测量计算得到方位角的二阶偏导，通过平移待测平面镜测量计算得到径向的二阶偏导。待测光学元件的绝对面形可以通过高阶Zernike拟合计算出来。传统的三面绝对检测法需要三块平面镜，对透射平面镜的口径、楔角的大小和方向都有严格的要求；对于大口径平面绝对检测而言，反复更换参考平面是不实用的，本发明将绝对检测实验步骤简化到两个平面镜的两次旋转平移，与传统的三面互检相比简化了测量步骤且减少测量时间近两个小时。此外，本发明将波前误差扩展到二阶，可以减小环境噪声、干涉仪噪声的影响，使测量结果具有更强的稳定性。

公开(公告)号：CN115824087A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202211551439.4

申请日：2022-12-05

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 刘世杰 ,  白云波 ,  鲁棋 ,  张嘉怡 ,  魏朝阳 ,  胡晨 ,  晋云霞 ,  邵建达

IPC: G01B11/24

Abstract: 一种超米级平面元件面形拼接检测装置，包括：干涉仪、二维移动拼接平台、机械辅助搬运系统、光学平台、电气控制系统和计算机，通过机械辅助搬运系统将待测平面反射镜放置于二维移动拼接平台上，干涉仪的部分出射光经TF标准镜的后表面反射形成参考光束，另一部分透过TF标准镜经待测样品反射形成测量光束，参考光束和测量光束沿原光路返回形成清晰的明暗相间的干涉条纹；计算机对干涉条纹进行解包获得待测样品在该子孔径区域的面形误差；通过电气控制系统控制二维拼接平台，将待测件移动至下一子孔径位置，并且与上一子孔径保持部分重叠，重复上述测量步骤直至完成对所有子孔径区域面形误差的测量，使用拼接软件计算得到待测样品全口径面形误差。

公开(公告)号：CN114875370A

公开(公告)日：2022-08-09

申请号：CN202210209576.3

申请日：2022-03-04

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 赵娇玲 ,  朱美萍 ,  张嘉怡 ,  武振清 ,  易葵 ,  王虎 ,  曾婷婷 ,  李笑然 ,  贺洪波 ,  邵建达

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  C23C14/58

Abstract: 一种基于低表面能材料共溅射降低短波长多层膜界面宽度的方法，利用超高真空磁控溅射交替沉积纳米精度(AxM1‑x/B)^n多层膜材料，A和B分别代表高原子序数、低原子序数两种不同材料。采用M靶材和A靶材共溅射替代传统的单一高原子序数靶材A，靶材M为低表面能材料。低表面能材料M在镀膜过程充当催化剂，调整倾斜角度保证AxM1‑x膜层材料混合均匀，并有效抑制传统A和B材料交替镀膜时存在较大的界面混合情况。同时可以缓解由于高原子序数A材料容易结晶导致界面粗糙度大的问题。从而，降低了界面宽度，保证了多层膜的光谱性能和稳定性。该方法在制备极紫外、X射线和中子多层膜反射镜中具有重要的应用。