半导体器件的多层铜线路检测方法

    公开(公告)号:CN115900554A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211092367.1

    申请日:2022-09-08

    Abstract: 本申请提供一种半导体器件的多层铜线路检测方法,该方法包括对待分析半导体器件的金属盖进行处理,以去除待分析半导体器件的金属盖;基于切片机对去金属盖的待分析半导体器件进行切割处理;基于暴露的第一层线路的图像检测第一层线路的宽度和长度;对待分析半导体器件进行抛光,直至待分析半导体器件的第二层线路暴露;基于蚀刻液对待分析半导体器件进行蚀刻处理,以去除铜延展部分;第二层线路的图像对第二层线路的宽度和长度进行检测;测待分析半导体器的所有线路层的宽度和长度。本申请能够检测半导体多层线路的宽度和长度,同时能够克服铜延展对线路的宽度和长度检测的影响,从而能够提高线路的宽度和长度的检测精度。

    陶瓷封装芯片去层制样方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113921424A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111157474.3

    申请日:2021-09-30

    Abstract: 本申请提供一种陶瓷封装芯片去层制样方法,该方法包括:通过研磨或机械方式将目标芯片的金属盖打开,所述目标芯片通过陶瓷封装;利用包封环氧胶对所述目标芯片进行包封,得到包封环氧胶的样品;将所述包封环氧胶的样品放入烘箱中烘烤硬化,得到烘烤硬化后的样品;切割所述烘烤硬化后的样品的陶瓷壳体,得到切割后的样品,所述切割后的样品包括芯片部位和位于所述芯片部位四周的包封环氧胶;对所述研磨后的样品进行抛光,得到去层后的芯片等步骤。本申请能够对陶瓷封装芯片进行去层处理,以露出陶瓷封装芯片内的电路结构,并避免破坏所述陶瓷封装芯片内的电路结构。

    BGA封装器件焊球去除设备及其方法

    公开(公告)号:CN109623541A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201811203889.8

    申请日:2018-10-16

    Abstract: 本发明涉及一种BGA封装器件焊球去除设备及其方法,其中,BGA封装器件焊球去除设备包括处理设备、传动设备、用于研磨BGA封装器件的焊球的研磨机、用于感应BGA封装器件压力的压力传感器、以及用于固定BGA封装器件的夹具;传动设备与夹具相连;BGA封装器件的焊球面朝向研磨机;处理设备分别连接传动设备、压力传感器和研磨机;处理设备驱动传动设备带动夹具朝研磨机方向移动;压力传感器将感应到的BGA封装器件的压力传输给处理设备;处理设备在压力等于预设压力时,启动研磨机,以使研磨机对BGA封装器件的焊球进行研磨。本发明实施例能够实现BGA封装器件焊球去除,防止对BGA封装器件基板造成机械损伤,优化了BGA封装器件焊球去除效果。

    一种芯片的加工方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110211876B

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN201910351680.4

    申请日:2019-04-28

    Abstract: 本申请提供了一种芯片的加工方法,涉及半导体器件处理技术领域。本申请实施例提供的芯片加工方法,通过对印制电路板上的芯片进行调平、初次减薄和二次减薄等步骤后,可以将芯片的厚度减薄至满足地面单粒子效应测试的厚度,通过这样的物理减薄,避免先减薄后焊接的操作流程中,重新焊接芯片带来的芯片变形等情况,同时避免了化学减薄过程中很容易出现的过腐蚀或腐蚀不足的情况。即使使用能量交底的低能重离子,也可以对本申请中减薄后的芯片进行单粒子效应测试,降低了单粒子效应测试中对重离子加速器的能量要求。

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